一种光伏电池接触结构以及制造方法与流程

本发明涉及太阳能电池制备技术领域，特别是涉及一种光伏电池接触结构以及制造方法。

背景技术：

由于太阳能电池的制造成本随着技术的不断进步，得到了大幅度的下降，使得太阳能电池与传统能源发电的成本之间的差距越来越小，在发电过程中对于场地的要求较低，产生的污染较少，从而获得了广泛的应用。

目前影响太阳能电池的两个因素是提效和降本，丝网印刷作为太阳能电池生产过程中的一道工序，极大的影响了太阳能电池的效率，因此提高印刷的质量是必要的。

传统的印刷浆料经过烧结后形成线接触式金属-半导体结构，这种接触式方式接触面大，复合严重，不利于效率的提升。

技术实现要素：

本发明的目的是提供了一种光伏电池接触结构制造方法，降低复合，提高电池的效率。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种光伏电池接触结构制造方法，包括：

步骤1，在硅片主体的正面钝化层上印刷正面烧穿性浆料层，所述正面烧穿性浆料层的预定点位置处穿过所述钝化层与所述硅片主体连接；

步骤2，在所述正面烧穿性浆料层的表面印刷正面非烧穿性浆料层；

步骤3，对所述硅片主体进行烧结。

其中，所述正面烧穿性浆料的厚度为80nm～100nm。

其中，在所述步骤1之前，还包括：

在所述硅片主体的背面印刷背面浆料层。

其中，所述正面烧穿性浆料层的厚度为6μm～10μm。

其中，所述正面烧穿性浆料层、所述正面非烧穿性浆料层为银浆料层。

其中，所述背面浆料层为ag/al浆料层。

其中，所述背面浆料层的厚度为10μm～20μm。。

除此之外，本发明实施例还提供了一种光伏电池接触结构，包括在硅片主体的正面向上依次设置的正面钝化层、正面烧穿性浆料层、正面非烧穿性浆料层以及在所述硅片主体的背面依次向下设置的背面钝化层、背面浆料层，所述正面烧穿性浆料层的预定点位置处穿过所述正面钝化层与所述硅片主体连接。

其中，所述正面烧穿性浆料的厚度为80nm～100nm。

其中，所述正面烧穿性浆料层、所述正面非烧穿性浆料层为银浆料层s。

本发明实施例所提供的光伏电池接触结构制造方法，与现有技术相比，具有以下优点：

所述光伏电池接触结构制造方法，通过采用正面烧穿性浆料层的预定点位置处穿过钝化层与硅片的主体部分连接，使得将现有的浆料印刷后形成的线接触金属-半导体结构，改变为点接触的金属-半导体结构，接触面积小，实现低损伤金属接触结构，双层浆料结构保证接触电阻的同时，复合低，对于硅片主体的破坏更小，可以充分发挥单晶硅或多晶硅的性能，提高电池的效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的光伏电池接触结构制造方法的一种具体实施方式的步骤流程示意图；

图2为本发明实施例提供的光伏电池接触结构的一种具体实施方式的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参考图1～图2，图1为本发明实施例提供的光伏电池接触结构制造方法的一种具体实施方式的步骤流程示意图；图2为本发明实施例提供的光伏电池接触结构的一种具体实施方式的结构示意图。

在一种具体实施方式中，所述光伏电池接触结构制造方法，包括：

步骤1，在硅片主体的正面钝化层上印刷正面烧穿性浆料层，所述正面烧穿性浆料层的预定点位置处穿过所述钝化层与所述硅片主体连接；

步骤2，在所述正面烧穿性浆料层的表面印刷正面非烧穿性浆料层；

步骤3，对所述硅片主体进行烧结。

本发明中的光伏电池接触结构制造方法，通过采用正面烧穿性浆料层的预定点位置处穿过钝化层与硅片的主体部分连接，使得将现有的浆料印刷后形成的线接触金属-半导体结构，改变为点接触的金属-半导体结构，接触面积小，实现低损伤金属接触结构，双层浆料结构保证接触电阻的同时，复合低，对于硅片主体的破坏更小，可以充分发挥单晶硅或多晶硅的性能，提高电池的效率。

本发明中的光伏电池接触结构制造方法，在硅片主体的正面钝化层上印刷正面烧穿性浆料层时，只需要在特定的印刷点的丝网的温度极高，能够将正面钝化层烧穿，使得丝网上的浆料穿过正面钝化层与硅片主体连接。

本发明对于印刷正面烧穿性浆料层的温度不做具体限定，对于印刷正面烧穿性浆料层的厚度以及材质不做具体限定。

一般所述正面烧穿性浆料的厚度为80nm～100nm。

本发明中对于硅片主体的正面钝化层以及背面钝化层的材质以及厚度、实施工艺等不做具体限定，一般采用氮化硅钝化层即可。

由于需要在硅片主体的正面和背面都需要制作电极接触结构，因此一般在所述步骤1之前，还包括：

在所述硅片主体的背面印刷背面浆料层。

需要指出的是，进行正面烧穿性浆料印刷、正面非烧穿性浆料印刷与进行背面浆料印刷没有必然的先后顺序，可以是先进行正面的正面烧穿性浆料印刷、正面非烧穿性浆料印刷，再进行背面的背面浆料层，还可以是先进行背面浆料层的印刷，再进行正面的正面烧穿性浆料印刷、正面非烧穿性浆料印刷，本发明对其先后顺序以及具体厚度不做限定。

一般，所述正面烧穿性浆料层的厚度为6μm～10μm。

优选的，所述正面烧穿性浆料层、所述正面非烧穿性浆料层为银浆料层。

同样的，所述背面浆料层一般为ag/al浆料层，其可以选择与正面相同的工艺，也可以选择现有的工艺，本发明对其不做限定。

一般所述背面浆料层的厚度为10μm～20μm。

本发明中的光伏电池接触结构制造方法制造的光伏电池接触结构，相比于传统的线接触式结构，采用点接触式结构可以更好地降低接触面积，降低复合，从而提升开路电压voc和填充因子ff，提高电池的性能。另一方面，此方法与传统的印刷线兼容，只需更换网版和浆料即可，无需其他投入，增加的成本非常有限，无需对传统的生产工艺进行大规模调整。

除此之外，本发明实施例还提供了一种光伏电池接触结构，包括在硅片主体10的正面向上依次设置的正面钝化层20、正面烧穿性浆料层30、正面非烧穿性浆料层40以及在所述硅片主体10的背面依次向下设置的背面钝化层50、背面浆料层60，所述正面烧穿性浆料层30的预定点位置处穿过所述正面钝化层20与所述硅片主体10连接。

由于所述光伏电池接触结构，采用上述的光伏电池接触结构制作方法，因而具有相同的友谊效果，本发明在此不再赘述。

本发明中的光伏电池接触结构，相比于传统的线接触式结构，采用点接触式结构可以更好地降低接触面积，降低复合，从而提升开路电压voc和填充因子ff，提高电池的性能。另一方面，此方法与传统的印刷线兼容，只需更换网版和浆料即可，无需其他投入，增加的成本非常有限，无需对传统的生产工艺进行大规模调整。

本发明对于正面烧穿性浆料层的工艺以及厚度和材质不做限定，一般所述正面烧穿性浆料30的厚度为80nm～100nm。

一般，所述正面烧穿性浆料层30、所述正面非烧穿性浆料层40为银浆料层。本发明中对于硅片主体的正面钝化层20与背面钝化层50的材质以及厚度不做限定，一般采用氮化硅钝化层即可。

综上所述，本发明实施例提供的光伏电池接触结构以及制造方法，通过采用正面烧穿性浆料层的预定点位置处穿过钝化层与硅片的主体部分连接，使得将现有的浆料印刷后形成的线接触金属-半导体结构，改变为点接触的金属-半导体结构，接触面积小，实现低损伤金属接触结构，双层浆料结构保证接触电阻的同时，复合低，对于硅片主体的破坏更小，可以充分发挥单晶硅或多晶硅的性能，提高电池的效率。

以上对本发明所提供的光伏电池接触结构制造方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。