1.一种硅片传输装置，其特征在于，包括：
运输台(1)，用于将第一硅片和第二硅片先后运至指定位置；
吸气组件(4)，所述吸气组件(4)位于所述指定位置的上方并能够对先到达所述指定位置的所述第一硅片施加外力，以使所述第一硅片与所述运输台(1)之间形成容纳所述第二硅片的容纳空间；及
限位结构，所述限位结构对应所述指定位置。
2.如权利要求1所述的硅片传输装置，其特征在于，所述吸气组件(4)以间歇性施力方式对所述第一硅片施力。
3.如权利要求1所述的硅片传输装置，其特征在于，所述吸气组件(4)包括：
吸盘(41)、第一固定架和抽真空装置，所述第一固定架设置在所述硅片传输装置的机架上，所述抽真空装置设置在固定架上，所述抽真空装置连接所述吸盘(41)，所述吸盘(41)朝向所述运输台(1)设置。
4.如权利要求1所述的硅片传输装置，其特征在于，所述硅片传输装置还包括收纳机构，所述收纳机构对应所述指定位置，所述收纳机构的内部设置有所述限位结构。
5.如权利要求1-4中任一项所述的硅片传输装置，其特征在于，所述限位结构包括上下对应设置的上限位件、下限位件以及设置在所述上限位件与所述下限位件之间的侧面挡板。
6.如权利要求5所述的硅片传输装置，其特征在于，所述上限位件和所述下限位件之间的距离至少为所述第一硅片和所述第二硅片的厚度之和。
7.如权利要求1-4中任一项所述的硅片传输装置，其特征在于，所述运输台(1)包括一条运输轨道，所述指定位置位于所述运输轨道的运输终端；或
所述运输台(1)包括两条呈直角的运输轨道，所述指定位置位于两条所述运输轨道延伸方向的交汇处。
8.如权利要求7所述的硅片传输装置，其特征在于，当所述运输台(1)包括一条运输轨道时，所述运输轨道的运输终端还包括伸缩台(21)；
当所述运输台(1)包括两条呈直角的运输轨道时，两条所述运输轨道中至少一条运输轨道的运输终端包括伸缩台(21)。
9.一种硅片传输系统，包括控制系统，其特征在于，还包括如权利要求1-8中任一项所述的硅片传输装置，所述控制系统分别与所述运输台(1)和所述吸气组件(4)连接。
10.如权利要求9所述的硅片传输系统，其特征在于，所述控制系统包括PLC控制系统和感应装置，所述感应装置对应所述指定位置，用于检测所述第一硅片的位置，所述PLC控制系统分别与所述感应装置、所述运输台(1)和所述吸气组件(4)连接。