静电卡盘及反应腔室的制作方法

技术总结
本实用新型提供一种静电卡盘及反应腔室，该静电卡盘包括绝缘层和设置在绝缘层底部的加热体，还包括：冷却结构，设置在加热体的下方，且与加热体间隔设置，冷却结构用于通过冷却液体来将加热体的热量传递出去。本实用新型提供的静电卡盘，其可以在工艺过程中实现对加热体的稳定控温，从而可以有效减少晶须缺陷，进而可以提高产品良率。

技术研发人员：黄其伟;史全宇
受保护的技术使用者：北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日：2018.10.11
技术公布日：2019.05.31