一种太阳能硅片水膜保护装置的制作方法

本实用新型属于电池片技术领域，涉及一种水膜保护装置，特别是一种太阳能硅片水膜保护装置。

背景技术：

太阳能电池在经过扩散工艺后，在P型晶体硅表面形成PN结，由于扩散采用背靠背扩散，硅片的边缘没有遮挡也被扩散上磷(边缘导通状态)，此过程不可避免的在硅片非扩散面形成N型硅，太阳能电池PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，而造成短路，太阳能电池片会因此失效，同时此短路通道等效于降低并联电阻。因此，在扩散后增加刻蚀工艺，主要作用是去除扩散后硅片四周的N型硅，防止漏电。

目前多晶电池片普遍使用湿法刻蚀设备，将硅片的非扩散面浸泡在药液里进行刻蚀处理，扩散面裸露在空气中保留PN结，由于刻蚀药液受张力作用，会不同程度的溢到硅片扩散面(也叫正面)，腐蚀到正面PN结，且腐蚀范围不可控，形成不规则黑圈，此现象我们称为“过刻”，会影响电池片外观及电性能，造成产品不良。因此，需要在刻蚀工段增加一套正面水膜保护装置，确保扩散面不被药液腐蚀到，避免过刻现象出现。

目前使用的刻蚀水膜保护装置虽然可以一定程度上起到减小过刻程度，但是，该水膜保护装置的结构过于简单，无法使水膜分布均匀，硅片正面不能完全杜绝过刻现象，因此，设计出一种太阳能硅片水膜保护装置是很有必要的。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种太阳能硅片水膜保护装置，该水膜保护装置具有使用效果好的特点。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种太阳能硅片水膜保护装置，包括安装台，其特征在于，所述安装台一端上固定有支撑架一，支撑架一上设置有喷雾机构，喷雾机构包括呈X形的安装杆、四个喷雾头、水泵一和储水箱一，安装杆中部水平固定在支撑架一上，喷雾头分别固定在安装杆端部，喷雾头下端具有若干喷孔，喷雾头上端通过连接水管一和储水箱一相连通，储水箱一固定在支撑架一上，水泵一设置在连接水管一上，安装台另一端上固定有支撑架二，支撑架二上设置有敷水机构，敷水机构包括升降板、敷水管、水泵二和储水箱二，升降板设置在支撑架二上，升降板与一能带动其上下移动的驱动结构相连，敷水管水平固定在升降板上，敷水管一端为封闭端，敷水管另一端通过连接水管二和储水箱二相连通，储水箱二固定在支撑架二上，水泵二设置在连接水管二上，敷水管侧部具有若干滴液头，安装台上还设置有能检测硅片位置的检测机构。

本实用新型的工作原理如下：通过检测机构感应到硅片进来后，先开启水泵一，通过喷雾头将储水箱一中的水向硅片表面喷一层水雾，使硅片四周边角保持湿润，提高后面敷水均匀性，再开启水泵二，通过敷水管将储水箱二中的水均匀铺满整张硅片表面，表面水膜高度更平整，可杜绝过刻现象，使用效果好。

所述支撑架二上通过连杆固定有呈倾斜布置的镜面反光板，且镜面反光板位于敷水管侧部。

采用以上结构，通过镜面反光板可方便对滴液头的异常进行查看，观察方便。

所述检测机构包括激光传感器、延时器和控制器，激光传感器固定在支撑架一上，激光传感器的检测头朝下，延时器和控制器固定在安装台上，且激光传感器、延时器、水泵一和水泵二通过线路与该控制器相连。

当激光传感器感应到硅片进来后，激光传感器会将信号传递到控制器，经过延时器处理，控制器控制水泵一和水泵二动作。

所述驱动结构包括导轨、滑块、伺服电机、齿轮和齿条，导轨竖直固定在支撑架二上，滑块设置在导轨上，齿条竖直固定在支撑架二上，且齿条与导轨相互平行，伺服电机固定在滑块上，伺服电机的输出轴水平设置，齿轮固定在伺服电机的输出轴端部，且齿轮与齿条相啮合，升降板固定在滑块上。

当需要使升降板上下移动时，控制伺服电机的输出轴转动，伺服电机的输出轴带动齿轮转动，齿轮逐渐与齿条相啮合，使滑块沿着导轨上下移动，滑块带动升降板上下移动，从而可使升降板上下移动。

所述导轨两端还具有限位块。

所述水泵一和水泵二均为微型隔膜泵。

采用以上结构，可使水泵一和水泵二能够在不同的硅片传输速度下，控制更精确，敷水更完整。

所述储水箱一和储水箱二均为恒压储水箱。

与现有技术相比，本太阳能硅片水膜保护装置具有该优点：

本实用新型中通过检测机构感应到硅片进来后，先开启水泵一，通过喷雾头将储水箱一中的水向硅片表面喷一层水雾，使硅片四周边角保持湿润，提高后面敷水均匀性，再开启水泵二，通过敷水管将储水箱二中的水均匀铺满整张硅片表面，表面水膜高度更平整，可杜绝过刻现象，使用效果好。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图。

图2是图1中A处的局部放大图。

图中，1、安装台；2、刻蚀槽；3、输送辊；4、镜面反光板；5、连杆；6、储水箱二；7、连接水管二；8、水泵二；9、储水箱一；10、连接水管一；11、控制器；12、延时器；13、水泵一；14、安装杆；15、喷雾头；16、激光传感器；17、支撑架一；18、支撑架二；19、升降板；20、敷水管；20a、滴液头；21、导轨；22、滑块；23、伺服电机；24、齿轮；25、齿条；26、限位块。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1-图2所示，本太阳能硅片水膜保护装置，包括安装台1，安装台1一端上固定有支撑架一17，在本实施例中，安装台1一端上通过螺栓连接的方式固定有支撑架一17；支撑架一17上设置有喷雾机构，喷雾机构包括呈X形的安装杆14、四个喷雾头15、水泵一13和储水箱一9，安装杆14中部水平固定在支撑架一17上，喷雾头15分别固定在安装杆14端部，喷雾头15下端具有若干喷孔，在本实施例中，喷孔的数量为十个；喷雾头15上端通过连接水管一10和储水箱一9相连通，储水箱一9固定在支撑架一17上，水泵一13设置在连接水管一10上，安装台1另一端上固定有支撑架二18，在本实施例中，安装台1另一端上通过螺栓连接的方式固定有支撑架二18；支撑架二18上设置有敷水机构，敷水机构包括升降板19、敷水管20、水泵二8和储水箱二6，升降板19设置在支撑架二18上，升降板19与一能带动其上下移动的驱动结构相连，敷水管20水平固定在升降板19上，敷水管20一端为封闭端，敷水管20另一端通过连接水管二7和储水箱二6相连通，储水箱二6固定在支撑架二18上，水泵二8设置在连接水管二7上，敷水管20侧部具有若干滴液头20a，在本实施例中，滴液头20a的数量为八个；安装台1上还设置有能检测硅片位置的检测机构；在实际生产中，该水膜保护装置安装在硅片刻蚀机中，硅片刻蚀机包括刻蚀槽2和输送辊3。

支撑架二18上通过连杆5固定有呈倾斜布置的镜面反光板4，在本实施例中，镜面反光板4采用市场上可以买到的现有产品；且镜面反光板4位于敷水管20侧部；采用该结构，通过镜面反光板4可方便对滴液头20a的异常进行查看，观察方便。

检测机构包括激光传感器16、延时器12和控制器11，激光传感器16固定在支撑架一17上，激光传感器16的检测头朝下，延时器12和控制器11固定在安装台1上，且激光传感器16、延时器12、水泵一13和水泵二8通过线路与该控制器11相连；在本实施例中，控制器11采用市场上可以买到的单片机，单片机控制传感器、延时器和水泵的程序为现有，其程序不要编辑。

驱动结构包括导轨21、滑块22、伺服电机23、齿轮24和齿条25，导轨21竖直固定在支撑架二18上，滑块22设置在导轨21上，齿条25竖直固定在支撑架二18上，且齿条25与导轨21相互平行，伺服电机23固定在滑块22上，在本实施例中，伺服电机23通过螺栓连接的方式固定在滑块22上；伺服电机23的输出轴水平设置，齿轮24固定在伺服电机23的输出轴端部，且齿轮24与齿条25相啮合，升降板19固定在滑块22上；导轨21两端还具有限位块26。

水泵一13和水泵二8均为微型隔膜泵；在本实施例中，微型隔膜泵采用市场上可以买到的现有产品；采用该结构，可使水泵一13和水泵二8能够在不同的硅片传输速度下，控制更精确，敷水更完整；储水箱一9和储水箱二6均为恒压储水箱；在本实施例中，恒压储水箱采用市场上可以买到的现有产品。

本实用新型的工作原理如下：控制伺服电机23带动齿轮24转动，齿轮24逐渐与齿条25相啮合，使滑块22沿着导轨21上下移动，滑块22带动升降板19上下移动，升降板19带动敷水管20上下移动，将敷水管20调节到合适的高度；当激光传感器16感应到硅片进来后，激光传感器16会将信号传递到控制器11，经过延时器12处理，先开启水泵一13，通过喷雾头15将储水箱一9中的水向硅片表面喷一层水雾，使硅片四周边角保持湿润，提高后面敷水均匀性，再开启水泵二8，通过敷水管20将储水箱二6中的水均匀铺满整张硅片表面，表面水膜高度更平整，可杜绝过刻现象，使用效果好。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。