传输构件、传输方法及清洗装置与流程

本申请涉及半导体清洗技术领域，特别涉及一种传输构件、传输方法及清洗装置。

背景技术：

在显示面板生产工艺中，为了提高产品的性能及良率，通常在基板进行成膜制程前，需要对基板进行清洗，通过水流冲击基板表面，以去除基板上的颗粒物，从而达到清洗基板表面的目的。最后，通过清洗装置中的滚轮对基板进行传输，以进行下一制程。

基板的清洗装置包括清洗段和传输段。现有技术中，为了防止基板的滑动或跳动，传输段设置为双滚轮传输，基板位于滚轮之间。但是由于滚轮与基板直接接触，导致基板表面产生静电，影响后续制程工艺，降低产品的良率与品质。

因此，目前亟需一种清洗装置以解决上述问题。

技术实现要素：

本申请提供一种传输构件、传输方法及清洗装置，以解决现有基板在传输过程中产生静电的技术问题。

为解决上述技术问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请提供了一种传输构件，用于传输基板，其包括：

第一滚轮组，用于支撑目标基板；

第二滚轮组，位于所述目标基板上；

测量单元，用于测量所述目标基板与所述第二滚轮组的间距；

控制单元，用于控制所述第二滚轮组与所述目标的间距；

当所述测量单元所测量的所述目标基板与所述第二滚轮组的间距小于第一预设阈值时，所述控制单元增大所述目标基板与所述第二滚轮组的间距，使所述目标基板与所述第二滚轮组的间距大于第一预设阈值；

当所述测量单元所测量的所述目标基板与所述第二滚轮组的间距大于第二预设阈值时，所述控制单元减小所述目标基板与所述第二滚轮组的间距，使所述目标基板与所述第二滚轮组的间距小于所述第二预设阈值。

在本申请的传输构件中，所述第一滚轮组、第二滚轮组包括至少一个滚轮，所述第二滚轮组与所述第一滚轮组相对设置。

在本申请的传输构件中，当所述测量单元所测量的所述目标基板与所述第二滚轮组的间距位于所述第一预设阈值与所述第二预设阈值之间时，对所述目标基板进行下一道光罩工艺。

在本申请的传输构件中，所述第一预设阈值小于所述第二预设阈值。

本申请还提出了一种清洗装置，其中，所述清洗装置包括清洗构件和上述的传输构件。

本申请还提出了一种传输方法，其包括：

获取目标基板与第二滚轮组的间距；

当所述目标基板与所述第二滚轮组的间距小于第一预设阈值时，增大所述目标基板与所述第二滚轮组的间距，使所述目标基板与所述第二滚轮组的间距大于第一预设阈值；

当所述目标基板与所述第二滚轮组的间距大于第二预设阈值时，减小所述目标基板与所述第二滚轮组的间距，使所述目标基板与所述第二滚轮组的间距小于所述第二预设阈值。

在本申请的传输方法中，

所述目标基板位于第一滚轮组上，以支撑所述目标基板；

所述第一滚轮组、第二滚轮组包括至少一个滚轮；

所述第二滚轮组与所述第一滚轮组相对设置。

在本申请的传输方法中，所述第一滚轮组中滚轮的数量大于所述第二滚轮组中滚轮的数量；

一所述第二滚轮组中的滚轮与一所述第一滚轮组中的滚轮相对设置。

在本申请的传输方法中，

当所述目标基板与所述第二滚轮组的间距位于所述第一预设阈值与所述第二预设阈值之间时，对所述目标基板进行下一道光罩工艺。

在本申请的传输方法中，

所述第一预设阈值小于所述第二预设阈值。

有益效果：本申请通过在传输构件内设置控制单元和测量单元，实时监控目标基板与第二滚轮组的间距，使得目标基板与第二滚轮组的间距位于第一预设阈值与第二预设阈值之间，保证目标基板与第二滚轮组不接触，避免了静电的产生，提高了产品的良率与品质。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请一种传输构件的结构示意图；

图2为本申请一种传输构件的工作原理图；

图3为本申请一种传输方法的步骤图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

在本申请提供了一种传输构件100，所述传输构件100主要用于传输目标基板30。所述目标基板30为经清洗构件清洗后的目标基板30。

请参阅图1，图1为本申请传输构件100的结构示意图。

所述传输构件100包括第一滚轮组10和第二滚轮组20。所述第二滚轮组20与所述第一滚轮组10相对设置。

在本实施例中，所述第一滚轮组10用于支撑所述目标基板3030。所述传输构件100通过所述第一滚轮组10与所述目标基板30之间的摩擦力将所述目标基板30向目标方向传输。

所述第一滚轮组、第二滚轮组包括至少一个滚轮。

在本实施例中，所述第一滚轮组中滚轮的数量大于所述第二滚轮组中滚轮的数量。

在本实施例中，一所述第二滚轮组中的滚轮与一所述第一滚轮组中的滚轮相对设置。

请参阅图1，所述第一滚轮组10包括至少两个第一滚轮101。相邻两个所述第一滚轮101的间距相等。所述目标基板30与每一所述第一滚轮101接触。在本实施例中，每一所述第一滚轮101的的旋转方向为顺时针方向，所述第一滚轮101施加在所述目标基板30上的驱动力(即摩擦力)方向为图1中的x方向，驱使所述目标基板30向x方向运动。

所述第二滚轮组20包括至少一第二滚轮201。

在本实施例中，所述第一滚轮101的数量大于所述第二滚轮201的数量。当所述第二滚轮组20包括两个及以上的第二滚轮201时，相邻两个所述第二滚轮201之间设置有至少一所述第一滚轮101。

所述第二滚轮201与所述目标基板30未接触，所述第二滚轮201与所述目标基板30存在一定的间距。以防止所述目标基板30在传输过程中，出现过大的跳跃性，保证所述目标基板30在传输过程中的平稳性。

请参阅图2，图2为本申请一种传输构件100的工作原理图。

所述传输构件100还包括测量单元40。

所述测量单元40可以位于所述第二滚轮201内或位于所述第二滚轮201的外侧。所述测量单元40用于测量所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距。

当所述测量单元40位于所述第二滚轮201内时，所述测量单元40从所述第二滚轮201内发出测量光线，到达所述目标基板30后反射至所述测量单元40，并被所述测量单元40接收。根据发出与接收所述测量光线的时间差以计算所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距。

在本实施例中，当所述目标基板30在传输过程中出现过大的颠簸时，将与所述第二滚轮201接触，迫使所述第二滚轮201转动。因此所述测量单元40与所述第二滚轮201为非同轴转动。当所述第二滚轮201转动时，所述测量单元40处于静止状态，所述测量单元40发出的测量光线与所述目标基板30垂直。

所述传输构件100还包括控制单元50。

在本实施例中，所述控制单元50用于控制所述第二滚轮组20与所述目标的间距。所述控制单元50通过调用控制杆控制所述第二滚轮组20的升降，以控制所述第二滚轮组20与所述目标的间距，满足所述传输构件100的要求。

当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于第一预设阈值时，所述控制单元50通过所述控制杆拉升所述第二滚轮组20，以增大所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第一预设阈值，保证所述目标基板30与第二滚轮组20不接触，避免了静电的产生。

在本实施例中，即使所述目标基板30与所述第二滚轮组20之间的存在一定的间距，但是由于所述目标基板30在传输过程中会出现上下抖动，当间距过小时同样会产生静电，影响目标基板30的品质。

在本实施例中，所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距可以为5毫米。

当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第二预设阈值时，所述控制单元50通过所述控制杆使所述第二滚轮组20下降，以减小所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于所述第二预设阈值，避免所述目标基板30出现过大的颠簸，影响所述目标基板30的品质。

在本实施例中，所述第一预设阈值小于所述第二预设阈值。所述第一预设阈值与所述第二预设阈值的具体数值可以根据数值仿真计算获得。

当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距位于所述第一预设阈值与所述第二预设阈值之间时，则无需对所述第二滚轮组20进行调整，对所述目标基板30进行下一道光罩工艺。

在本实施例中，当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于第一预设阈值时，可以通过在所述第二滚轮组20下增加垫片等其他增高器件，增大所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第一预设阈值。

在本实施例中，当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第二预设阈值时，可以通过减少所述第二滚轮组20下的垫片等其他增高器件，以减小所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于所述第二预设阈值。

本申请通过在传输构件内设置控制单元和测量单元，实时监控目标基板与第二滚轮组的间距，使得目标基板与第二滚轮组的间距位于第一预设阈值与第二预设阈值之间，保证目标基板与第二滚轮组不接触，避免了静电的产生，提高了产品的良率与品质。

本申请还提出了一种清洗装置。

在本实施例中，所述清洗装置包括清洗构件和传输构件。

所述清洗构件用于清洗经过一道光罩工艺或者蚀刻工艺的目标基板，以去除基板上的颗粒物或其他杂质。

所述清洗装置内的所述传输构件的工作原理与上述传输构件相同或相似，具体不再赘述。

请参阅图3，图3为本申请一种传输方法的步骤图。

所述传输方法包括：

s10、获取目标基板30与第二滚轮组20的间距a；

本申请的传输方法在如图1中的传输构件100中进行。

所述传输构件100包括第一滚轮组10和第二滚轮组20。所述第二滚轮组20与所述第一滚轮组10相对设置。

在本实施例中，所述第一滚轮组10用于支撑所述目标基板30。所述传输构件100通过所述第一滚轮组10与所述目标基板30之间的摩擦力将所述目标基板30向目标方向传输。

所述第一滚轮组、第二滚轮组包括至少一个滚轮。

在本实施例中，所述第一滚轮组中滚轮的数量大于所述第二滚轮组中滚轮的数量。

在本实施例中，一所述第二滚轮组中的滚轮与一所述第一滚轮组中的滚轮相对设置。

请参阅图1，所述第一滚轮组10包括至少两个第一滚轮101。相邻两个所述第一滚轮101的间距相等。所述目标基板30与每一所述第一滚轮101接触。在本实施例中，每一所述第一滚轮101的的旋转方向为顺时针方向，所述第一滚轮101施加在所述目标基板30上的驱动力(即摩擦力)方向为图1中的x方向，驱使所述目标基板30向x方向运动。

所述第二滚轮组20包括至少一第二滚轮201。

在本实施例中，所述第一滚轮101的数量大于所述第二滚轮201的数量。当所述第二滚轮组20包括两个及以上的第二滚轮201时，相邻两个所述第二滚轮201之间设置有至少一所述第一滚轮101。

所述第二滚轮201与所述目标基板30未接触，所述第二滚轮201与所述目标基板30存在一定的间距。以防止所述目标基板30在传输过程中，出现过大的跳跃性，保证所述目标基板30在传输过程中的平稳性。

请参阅图2，图2为本申请一种传输构件100的工作原理图。

所述传输构件100还包括测量单元40。

所述测量单元40可以位于所述第二滚轮201内或位于所述第二滚轮201的外侧。所述测量单元40用于测量所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距。

当所述测量单元40位于所述第二滚轮201内时，所述测量单元40从所述第二滚轮201内发出测量光线，到达所述目标基板30后反射至所述测量单元40，并被所述测量单元40接收。根据发出与接收所述测量光线的时间差以计算所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距。

在本实施例中，当所述目标基板30在传输过程中出现过大的颠簸时，将与所述第二滚轮201接触，迫使所述第二滚轮201转动。因此所述测量单元40与所述第二滚轮201为非同轴转动。当所述第二滚轮201转动时，所述测量单元40处于静止状态，所述测量单元40发出的测量光线与所述目标基板30垂直。

所述传输构件100还包括控制单元50。

在本实施例中，所述控制单元50用于控制所述第二滚轮组20与所述目标的间距。所述控制单元50通过调用控制杆控制所述第二滚轮组20的升降，以控制所述第二滚轮组20与所述目标的间距，满足所述传输构件100的要求。

本步骤主要通过所述测量单元40获取所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距。

s20、当所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于第一预设阈值时，增大所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第一预设阈值；

在本步骤中，当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于第一预设阈值时，所述控制单元50通过所述控制杆拉升所述第二滚轮组20，以增大所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第一预设阈值，保证所述目标基板30与第二滚轮组20不接触，避免了静电的产生。

在本实施例中，即使所述目标基板30与所述第二滚轮组20之间的存在一定的间距，但是由于所述目标基板30在传输过程中会出现上下抖动，当间距过小时同样会产生静电，影响目标基板30的品质。

在本实施例中，所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距可以为5毫米。

s30、当所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第二预设阈值时，减小所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于所述第二预设阈值；

在本步骤中，当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第二预设阈值时，所述控制单元50通过所述控制杆使所述第二滚轮组20下降，以减小所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于所述第二预设阈值，避免所述目标基板30出现过大的颠簸，影响所述目标基板30的品质。

s40、当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距位于所述第一预设阈值与所述第二预设阈值之间时，则无需对所述第二滚轮组20进行调整，对所述目标基板30进行下一道光罩工艺。

在步骤s20和s30中，所述第一预设阈值小于所述第二预设阈值。所述第一预设阈值与所述第二预设阈值的具体数值可以根据数值仿真计算获得。

在本实施例中，当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于第一预设阈值时，可以通过在所述第二滚轮组20下增加垫片等其他增高器件，增大所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第一预设阈值。

在本实施例中，当所述测量单元40所测量的所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距大于第二预设阈值时，可以通过减少所述第二滚轮组20下的垫片等其他增高器件，以减小所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距，使所述目标基板30与所述第二滚轮组20的间距小于所述第二预设阈值。

本申请提出了一种传输构件、传输方法及清洗装置，该传输构件包括第一滚轮组、第二滚轮组、测量单元及控制单元。当测量单元所测量的目标基板与第二滚轮组的间距小于第一预设阈值时，控制单元将增大目标基板与第二滚轮组的间距，使目标基板述第二滚轮组的间距大于第一预设阈值。本申请通过在传输构件内设置控制单元和测量单元，实时监控目标基板与第二滚轮组的间距，使得目标基板与第二滚轮组的间距位于第一预设阈值与第二预设阈值之间，保证目标基板与第二滚轮组不接触，避免了静电的产生，提高了产品的良率与品质。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种电子装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。