反应腔室和晶圆处理设备的制作方法

文档序号:18875731发布日期:2019-10-15 17:53阅读:173来源:国知局
反应腔室和晶圆处理设备的制作方法

本实用新型涉及晶圆加工生产领域,具体涉及一种反应腔室和晶圆处理设备。



背景技术:

在晶圆制造的过程中,经常会发生工艺机台报警、需要退片的情况。如在晶圆刻蚀机台中进行晶圆刻蚀时,有时会发生机台报警,此时需要检查刻蚀腔体内的状况,判断是否需要退片。如果不能完成很好的退片操作,就会严重影响晶圆刻蚀的工艺良率,以及引起长时间的停机。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种反应腔室和晶圆处理设备,能够在退片之前查看反应腔室内的晶圆的情况,防止因为退片造成晶圆损失。

为解决上述技术问题,以下提供了一种反应腔室,包括:窥镜,安装至所述反应腔室的腔体壁,用于查看所述反应腔室内部,包括:物镜,设置于所述反应腔室内部;目镜,设置于所述反应腔室外部。

可选的,所述窥镜为筒形窥镜。

可选的,还包括:球形护套,安装至所述反应腔室的腔体壁,包裹于所述窥镜外侧,将所述窥镜罩设其中,且所述物镜和目镜均外露于所述球形护套。

可选的,还包括:光源,安装至所述窥镜,用于照亮所述反应腔室内部。

可选的,所述光源安装在所述窥镜靠近物镜的一端。

可选的,还包括:透明罩,安装至所述反应腔室的腔体壁,将所述窥镜的物镜罩设其中。

可选的,所述透明罩为半球形石英玻璃罩。

可选的,还包括:波纹管,安装至所述反应腔室的腔体壁,且所述目镜外露于所述波纹管。

可选的,所述波纹管为带有金属丝线的波纹管。

为解决上述技术问题,以下提供了一种晶圆处理设备,包括:反应腔室,用于放置待反应的晶圆,并用于处理待反应的晶圆,包括:窥镜,安装至所述反应腔室的腔体壁,用于查看所述反应腔室内部,包括:物镜,设置于所述反应腔室内部;目镜,设置于所述反应腔室外部。

上述反应腔室和晶圆处理设备在腔体壁上设置有窥镜,可以凭借窥镜查看反应腔室内部的情况,因此在需要进行退片等操作时,可以在退片之前查看反应腔室内的晶圆的情况,防止因为退片造成晶圆损失,影响晶圆的加工良率,并防止因为退片等操作而造成停机时间过长,影响晶圆处理设备的加工效率。

附图说明

图1为本实用新型一种具体实施方式中反应腔室的结构示意图。

图2为本实用新型一种具体实施方式中晶圆处理设备的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施方式对本实用新型提出的一种反应腔室和晶圆处理设备作进一步详细说明。

研究发现,若在退片之前确认工艺机台内晶圆的状态,就可以大大的提高晶圆退片的成功率,增大晶圆刻蚀的良率,减少机台报警时的停机时间。

请参阅图1,为本实用新型一种具体实施方式中反应腔室的结构示意图。

在该具体实施方式中,提供了一种反应腔室100,包括:窥镜101,安装至所述反应腔室100的腔体壁,用于查看所述反应腔室100内部,包括:物镜 102,设置于所述反应腔室100内部;目镜103,设置于所述反应腔室100外部。

在腔体壁上设置窥镜101,使得用户可以凭借窥镜101查看反应腔室100 内部的情况。在需要对反应腔室100内的晶圆进行操作的时候,如需要进行退片操作的时候,可以在进行相应操作之前查看反应腔室100内的晶圆的情况,防止因为不清楚晶圆的具体情况造成晶圆损失,影响晶圆的加工良率。

窥镜101是一种利用透镜或反射镜以及其他光学器件观测遥远物体的光学仪器。利用通过透镜的光线折射或光线被凹镜反射使之进入小孔并会聚成像,再经过一个放大目镜103而被看到。

窥镜101的第一个作用是放大远处物体的张角,使人眼能看清角距更小的细节。窥镜101第二个作用是把物镜102收集到的比瞳孔直径(最大8毫米) 粗得多的光束,送入人眼,使观测者能看到原来看不到的暗弱物体。因此,在反应腔室100的腔体壁上设置窥镜101后,就可以通过窥镜101查看所述反应腔室100内的情况。

在一种具体实施方式中,所述窥镜101为光学窥镜101。具体的,为由凸透镜作为目镜103的开普勒窥镜101。开普勒式窥镜101的基本原理是首先远处的光线进入作为物镜102的凸透镜,第1次成倒立、缩小的实像,相当于照相机;然后这个实像进入目镜103的凸透镜,第2次成正立、放大的虚像,这相当于放大镜。由于物镜102成的像为倒立的像,因此在物镜102和目镜103 之间还需要设置正像系统,包括棱镜正像系统和透镜正像系统中的至少一种。

实际上,也可根据需要设置所述窥镜101的结构,如设置由凹透镜作为目镜103的伽利略窥镜101等。但使用开普勒窥镜101的优点在于,两次折叠了光轴,大大减小了窥镜101的体积和重量,因此可以防止窥镜101影响所述反应腔室100的内容积,增大反应腔室100的可应用体积。

在一种具体实施方式中,所述窥镜101为筒形窥镜101。在一种具体实施方式中,所述窥镜101为单筒形窥镜101。实际上,可以根据需要选择窥镜101 的单筒或双筒,但选择单筒形窥镜101时,由于不存在双筒形窥镜101的两个镜筒的平行光轴问题,因此可以具有更高的倍率,并且在同样的光学参数小,重量较单筒窥镜101要轻一半。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:球形护套104,安装至所述反应腔室100的腔体壁,包裹于所述窥镜101外侧,将所述窥镜101罩设其中,且所述物镜102和目镜103均外露于所述球形护套104。设置球形护套104既可以防护窥镜101,又可以对窥镜101起到一定的固定作用。

在一种具体实施方式中,所述球形护套104为具有一定硬度的球形护套 104,能够将窥镜101的目镜103和物镜102都固定在球形护套104的某一固定位置,所述球形护套104并不会因为所述窥镜101的自重而发生形变。在一种具体实施方式中,所述球形护套104包括铜护套、铝护套、铅护套、硅橡胶等中的至少一种。

实际上,也可根据需要设置其他形状的护套,如正六边面体护套等。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:光源105,安装至所述窥镜101,用于照亮所述反应腔室100内部。在一种具体实施方式中,所述光源105包括白炽灯、卤钨灯、低气压气体放电灯、发光二极管等中的至少一种。在一种具体实施方式中,所述光源105的光通量至少为2流明,以使所述反应腔室100内部被照至足够亮,从而便于用户更好的获取到反应腔室100的内部情况。

在一种具体实施方式中,所述光源105安装在所述窥镜101靠近物镜102 的一端。这是因为,物镜102设置在所述反应腔室100内部,将光源105安装在所述窥镜101靠经物镜102的一端时,光源105出射的绝大多数光线都可以照射到反应腔室100内部,将反应腔室100内部照亮。

在一种具体实施方式中,所述光源105安装在所述窥镜101外露于所述球形护套104的部分,这样,即使所述球形护套104是不透明的球形护套104,所述光源105也能够照亮所述反应腔室100的内部。

在其他的具体实施方式中,假如所述球形护套104采用的是透明的材料,如具有一定硬度的透明塑料,包括聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等,则所述光源105也可以设置在所述球形护套104内部,设置在所述窥镜101靠经物镜102 的一端。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:透明罩106,安装至所述反应腔室100的腔体壁,将所述窥镜101的物镜102罩设其中。在一种具体实施方式中,所述透明罩106还将所述球形护套104罩设在其中。设置透明罩106既满足了反应腔室100内的光无障碍的入射至物镜102内的需求,又进一步的防止反应腔室100内的反应对窥镜101造成损伤,影响窥镜101的使用寿命。

在一种具体实施方式中,所述透明罩106为半球形石英玻璃罩。设置成半球形的原因有三,一是半球形具有很强的抗弯曲能力,能承受来自反应腔室100 内部的很大的压力,这样能够保证对窥镜101的防护性能足够强,二是所述透明罩106也将球形护套104罩设在内,设置半球形的透明罩106适应于球形护套104的形状,三是半球形的透明罩106不存在弯折角,因此不管被罩设在其中的物镜102的方向朝向哪里,都不会由于透明罩106的弯折角而影响视野,这保证了窥镜101的查看方向。

实际上,当不设置所述球形护套104,或设置其他形状的护套时,所述透明罩106的形状也可根据需要进行更改。

设置成石英玻璃材料的原因为:石英玻璃具有较小的线膨胀系数,是普通玻璃的十分之一到二十分之一,具有很好的抗热震性,且具有较高的耐热性,可以工作在1100至1200摄氏度下,甚至可以使用在1400摄氏度下,并且具有较高的光谱透射,不会因为辐射线而损伤。在一种具体实施方式中,所述半球形石英玻璃罩的厚度约为3mm至10mm,以获取足够的防护性能,对窥镜 101进行较好的防护。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:波纹管107,安装至所述反应腔室100的腔体壁,且所述目镜103外露于所述波纹管107。

在一种具体实施方式中,所述波纹管107的第一端口的直径大于第二端口的直径。所述第一端口与所述反应腔室100的腔体壁相接触,用于使所述波纹管107连接到所述反应腔室100。所述第二端口用于供所述目镜103外露于所述波纹管107,因此第二端口的尺寸与所述目镜103的尺寸相适应,以所述目镜103刚好能从所述第二端口伸出,并且被第二端口卡住为宜。

在一种具体实施方式中,使用一第一法兰108将所述第一端口连接到所述腔体壁,并使用一第二法兰将所述目镜103固定到所述第二端口。使用法兰来连接所述波纹管107和所述腔体壁,以及将目镜103固定到所述波纹管107的第二端口,使得所述窥镜101除了目镜103以外都处于一密封环境中,物镜102 不会被外界的杂质颗粒沾污,省去了对窥镜101的物镜102进行预防保养的流程。

在图1所示的具体实施方式中,由于波纹管107具有一定的形变能力,因此可以通过改变波纹管107的形状来使得窥镜101的朝向发生变化。由于所述窥镜101只有目镜103是外露于所述波纹管107的,且在调整窥镜101朝向的过程中,是以窥镜101与第二法兰之间相接触的地方为转动轴的,因此在对目镜103所在端施力,使波纹管107形变时,目镜103所在端的力臂过短。在不对目镜103所在端施加一定的力时,所述物镜102甚至会沿重力方向下跌,造成窥镜101朝向的失控。在通过调整目镜103的位置改变物镜102的位置时,需要在目镜103所在端施加较大的力,才能使窥镜101另一端具有较长力臂的物镜102发生位置变化。因此设置一套设于所述窥镜101表面的、具有一定体积的护套,即球形护套104,可以有效防止物镜102发生大幅度的下移,减小控制窥镜101的朝向的难度,防止窥镜101的朝向失去控制。

由于所述球形护套104与所述透明罩106之间无直接接触,因此在调整窥镜101的位置时,可以进行任意的调整,而不会由于球形护套104与透明罩106 之间的接触关系被限制,方便用户从多个角度上获得反应腔室100内的信息。

在一种具体实施方式中,所述波纹管107为带有金属丝线的波纹管107,具有一定的强度,不会在调整波纹管107的形状的过程中发生波纹管107的破裂,也可以为所述窥镜101的目镜103所在端提供一定的支撑,防止所述窥镜 101的物镜102在重力的作用下下跌。

请参阅图2,为本实用新型一种具体实施方式中晶圆处理设备的结构示意图。

在该具体实施方式中,还提供了一种晶圆处理设备,包括:反应腔室100,用于放置待反应的晶圆,并用于处理待反应的晶圆,包括:窥镜101,安装至所述反应腔室100的腔体壁,用于查看所述反应腔室100内部,包括:物镜102,设置于所述反应腔室100内部;目镜103,设置于所述反应腔室100外部。

在一种具体实施方式中,所述晶圆处理设备包括晶圆刻蚀设备。所述晶圆刻蚀设备包括设置在所述反应腔室内的晶圆放置位201,所述晶圆放置位201 用于放置晶圆202。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:光源105,安装至所述窥镜101,用于照亮所述反应腔室100内部。在一种具体实施方式中,所述光源105包括白炽灯、卤钨灯、低气压气体放电灯、发光二极管等中的至少一种。在一种具体实施方式中,所述光源105的光通量至少为2流明,以使所述反应腔室100内部被照至足够亮,从而便于用户更好的获取到反应腔室100的内部情况。

在一种具体实施方式中,所述光源105安装在所述窥镜101靠近物镜102 的一端。这是因为,物镜102设置在所述反应腔室100内部,将光源105安装在所述窥镜101靠经物镜102的一端时,光源105出射的绝大多数光线都可以照射到反应腔室100内部,将反应腔室100内部照亮。

在一种具体实施方式中,所述光源105安装在所述窥镜101外露于所述球形护套104的部分,这样,即使所述球形护套104是不透明的球形护套104,所述光源105也能够照亮所述反应腔室100的内部。

在其他的具体实施方式中,假如所述球形护套104采用的是透明的材料,如具有一定硬度的透明塑料,包括聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等,则所述光源105也可以设置在所述球形护套104内部,设置在所述窥镜101靠经物镜102 的一端。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:透明罩106,安装至所述反应腔室100的腔体壁,将所述窥镜101的物镜102罩设其中。在一种具体实施方式中,所述透明罩106还将所述球形护套104罩设在其中。设置透明罩106既满足了反应腔室100内的光无障碍的入射至物镜102内的需求,又进一步的防止反应腔室100内的反应对窥镜101造成损伤,影响窥镜101的使用寿命。

在一种具体实施方式中,所述透明罩106为半球形石英玻璃罩。

在一种具体实施方式中,所述反应腔室100还包括:波纹管107,安装至所述反应腔室100的腔体壁,且所述目镜103外露于所述波纹管107。

在一种具体实施方式中,所述波纹管107的第一端口的直径大于第二端口的直径。所述第一端口与所述反应腔室100的腔体壁相接触,用于使所述波纹管107连接到所述反应腔室100。所述第二端口用于供所述目镜103外露于所述波纹管107,因此第二端口的尺寸与所述目镜103的尺寸相适应,以所述目镜103刚好能从所述第二端口伸出,并且被第二端口卡住为宜。

通过在反应腔室100的腔体壁上设置窥镜101,使得可以凭借窥镜101查看反应腔室100内部的情况,因此在需要进行退片等操作时,可以在退片之前查看反应腔室100内的晶圆202的情况,防止因为不清楚晶圆202的具体情况造成晶圆202损失,影响晶圆202的加工良率,并防止因为退片等操作而造成停机时间过长,影响晶圆处理设备的加工效率。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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