阵列基板、显示面板以及显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，具体涉及一种阵列基板、显示面板以及显示装置。

背景技术：

随着显示终端的快速发展，用户对屏幕占比的要求越来越高，由于屏幕上方需要安装摄像头、传感器、听筒等元件，因此现有技术中屏幕上方通常会预留一部分区域用于安装上述元件，影响了屏幕的整体一致性。

同时在蒸镀前需要对开口部分进行遮挡，蒸镀用的掩膜中需要设置包括遮挡开口部分的遮挡部，而通常开口部分并不紧挨着显示屏边缘设置，其通常距离显示屏边缘一定的距离，因此，现有技术中的遮挡部通过悬臂(支撑条)连接至掩模的边框，由于悬臂的存在导致了在蒸镀过程中对正常显示区造成的遮挡，从而使蒸镀材料无法成形在悬臂遮挡的区域，形成黑色线条，影响了显示屏的正常显示效果。

正由于上述功能区和掩膜悬臂覆盖区不能进行正常有效地显示，最终影响了屏幕的整体一致性，不能够实现真正意义上的全面屏。

技术实现要素：

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的功能区和掩膜悬臂覆盖区不能正常显示的缺陷，从而提供一种能够实现全面显示的一种阵列基板、显示面板以及显示装置。

为此，本实用新型的技术方案如下：

一种阵列基板，所述阵列基板包括主显示区和至少一个副显示区，所述主显示区与所述副显示区邻接；

还包括过渡显示区，所述过渡显示区与所述副显示区和所述主显示区邻接；所述主显示区、所述副显示区和所述过渡显示区均能用于显示静态或动态画面；所述副显示区的第一电极的厚度小于等于所述过渡显示区的第一电极的厚度，且所述过渡显示区的第一电极的厚度小于等于所述主显示区的第一电极的厚度。

进一步地，所述过渡显示区的第一电极包括第一区域和第二区域，其中所述第一区域的厚度大于所述第二区域的厚度，所述第一区域覆盖有像素单元。

进一步地，所述第一区域的厚度等于所述主显示区的第一电极的厚度；和/或所述第二区域的厚度等于所述副显示区的第一电极厚度。

进一步地，所述主显示区的第一电极、所述过渡显示区的第一电极以及所述副显示区的第一电极连接成面电极。

进一步地，所述副显示区的第二电极的厚度小于等于所述主显示区的第二电极的厚度，和/或所述副显示区的第二电极的厚度小于等于所述过渡显示区的第二电极的厚度。

进一步地，所述副显示区的第二电极的厚度小于所述过渡显示区的第二电极的厚度，且所述过渡显示区的第二电极的厚度小于所述主显示区的第二电极的厚度。

进一步地，所述副显示区的透光率大于所述过渡显示区和所述主显示区的透光率，至少所述副显示区的第二电极为透明导电层。

进一步地，所述阵列基板还包括：

衬底；

设置于所述衬底上的像素电路；

所述副显示区的像素电路设置于所述主显示区内或所述过渡显示区内。

一种显示面板，其包括：

上述任一项所述的阵列基板；

封装层，所述封装层封装于所述阵列基板上远离所述衬底的一侧；

所述副显示区下方可设置感光器件；所述副显示区的至少部分被主显示区包围；

所述封装层包括偏光片，所述偏光片覆盖所述主显示区；或者，所述偏光片覆盖所述主显示区和所述副显示区；或者，所述偏光片覆盖所述主显示区、所述副显示区以及所述过渡显示区。

一种显示装置，其包括：

设备本体，具有器件区；

上述的显示面板；

所述显示面板覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述副显示区的下方，且所述器件区包括透过所述副显示区发射或者采集光线的感光器件；

其中，所述感光器件包括下述至少之一：摄像头、光线感应器、光线发射器。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型提供的阵列基板，所述阵列基板包括主显示区和至少一个副显示区，所述主显示区与所述副显示区邻接；还包括过渡显示区，所述过渡显示区与所述副显示区和所述主显示区邻接；所述主显示区、所述副显示区和所述过渡显示区均能用于显示静态或动态画面；所述副显示区的第一电极的厚度小于等于所述过渡显示区的第一电极的厚度，且所述过渡显示区的第一电极的厚度小于等于所述主显示区的第一电极的厚度。

本实用新型中通过降低副显示区的第一电极的厚度以提高副显示区的透光度，使得副显示区的透光度高于主显示区和过渡显示区；通过将副显示区中的第一电极设置较薄使其厚度满足显示发光的基本要求即可，由此既可以实现副显示区的显示功能又可以使其在不显示时具有较高的透光率，便于位于其下方的功能元件的正常使用。

2.本实用新型提供的显示装置，所述副显示区的第二电极的厚度小于等于所述主显示区的第二电极的厚度，和/或所述副显示区的第二电极的厚度小于等于所述过渡显示区的第二电极的厚度，通过减小副显示区的第二电极的厚度以进一步提高副显示区的透光率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的第一种实施方式中提供的显示装置的结构示意图；

图2为图1所示的a－a的剖视图；

图3为本实用新型的第二种实施方式中提供的显示装置的结构示意图；

图4为本实用新型的第三种实施方式中提供的显示装置的结构示意图；

图5为本实用新型的第四种实施方式中提供的显示装置的结构示意图；

图6为本实用新型的第五种实施方式中提供的显示装置的结构示意图；

图7为形成图6中阴极层的掩模板的结构示意图；

图8为形成图6中阴极层的另一种掩模板的结构示意图。

附图标记说明：

1-主显示区；2-副显示区；3-过渡显示区；4-阴极；41-第一阴极层；42-第二阴极层；43-第三阴极层；44-第四阴极层；45-第一阴极区；46-第二阴极区；5-衬底；51-辅助玻璃基板；6-阵列基板；7-发光层；8-掩模边框；9-孤岛遮挡部；10-图形区；11-开口；12-遮挡子区；13-阳极。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

如图1-2所示，本实用新型记载了一种显示装置，其包括设备本体和显示面板，其中设备本体具有器件区，显示面板覆盖在设备本体上。显示面板包括阵列基板和封装层，封装层封装于阵列基板上远离衬底的一侧。

在一可选的实施例中，的阵列基板包括主显示区1、至少一个副显示区2和过渡显示区3，主显示区1与副显示区2邻接；过渡显示区3与副显示区2和主显示区1邻接；主显示区1、副显示区2和过渡显示区3均能用于显示静态或动态画面；其中副显示区2的至少部分被主显示区1包围；副显示区2的透光率大于过渡显示区3和主显示区1的透光率。

其中器件区位于副显示区2的下方，且器件区包括透过副显示区2发射或者采集光线的感光器件；在一可选的实施例中，感光器件包括下述至少之一：摄像头、光线感应器、光线发射器。

在一可选的实施例中，封装层包括偏光片，偏光片覆盖主显示区1；或者，偏光片覆盖主显示区1和副显示区2；或者，偏光片覆盖主显示区1、副显示区2以及过渡显示区3。在保证阵列基板正常显示的同时又能够实现设置于其下的感光器件的正常工作，偏光片具体覆盖的位置，根据具体产品的要求进行设置，在此仅是给出示例，并不对本申请形成任何限定。

在一可选的实施例中，阵列基板还包括衬底和设置于衬底上的像素电路，其中副显示区2的像素电路设置于主显示区1内或过渡显示区3内。以增大副显示区的透光率，使设置于其下方的感光器件如摄像头等正常工作。

本实施例中的副显示区2的第一电极的厚度小于等于过渡显示区3的第一电极的厚度，且过渡显示区3的第一电极的厚度小于等于主显示区1的第一电极的厚度。其中主显示区1的第一电极、过渡显示区3的第一电极以及副显示区2的第一电极连接成面电极；其中本实施例中的第一电极指阴极。

本实用新型中通过降低副显示区2的第一电极的厚度以提高副显示区2的透光率，使得副显示区2的透光率高于主显示区1和过渡显示区3。由此允许设置于副显示区下方的感光器件在需要使用时能够通过透光率较高的副显示区的正常使用，而在需要显示时，副显示区又能够实现显示功能。

其中本实施例中主显示区1的阴极4的厚度大于过渡显示区3的阴极4的厚度大于副显示区2的阴极4的厚度。通过第一电极即阴极层的厚度由副显示区到过渡显示区以及到主显示区逐渐增厚的设置，在实现增大副显示区的透光率的同时，还防止蒸镀掩模版发生褶皱。

在一可选的实施例中，副显示区2的第二电极的厚度小于等于主显示区1的第二电极的厚度，和/或副显示区2的第二电极的厚度小于等于过渡显示区3的第二电极的厚度；由此进一步提高副显示区2的透光率。

在一可选的实施例中，更进一步的副显示区2的第二电极的厚度小于过渡显示区3的第二电极的厚度，且过渡显示区3的第二电极的厚度小于主显示区1的第二电极的厚度。其中第二电极指阳极，主显示区1、副显示区2和过渡显示区3的阳极材料可相同或不同。本实施例中的阳极可以采用银蒸镀形成。且副显示区2的阳极13厚度小于其他区域的阳极13厚度，由此进一步提高副显示区2的透光率。

作为可替换的实施方式，至少副显示区2的第二电极为透明导电层，例如氧化铟锡(ito)层；当然，阳极13也可为覆盖主显示区1、副显示区2和过渡显示区3的透明导电层，由于设置有透明ito层，其本身就具有较高的透光率。

如图1所示，本实施例中的主显示区1为矩形，副显示区2为设于主显示区1内的圆形，过渡显示区3为直条形，副显示区2通过过渡显示区3连接于主显示区1的边界。当然副显示区2也不限于仅设置为圆形，其也可以为矩形、椭圆形、菱形、六边形等形状；主显示区1也不限于设置为矩形，可以为圆形、椭圆形、菱形、六边形等形状。

当然，过渡显示区3也可设置为其他形状，例如图3中所示的多边形，其一条边为与圆形副显示区2连接的弧形，另外两条边分别与矩形主显示区1的两条边连接。或者如图4或5中的单个矩形，矩形过渡显示区3的一端连接副显示区2，另一端连接主显示区1的边缘。

其中为确保过渡显示区3的透光性，本实施例的显示装置至少与副显示区3对应的衬底区域为透明基板，其中可采用整面透明玻璃板作为衬底5；当然也可采用非透明基板，如图2所示，将与过渡显示区3对应的区域刻蚀填充上辅助透明基板51，辅助透明基板51为透明玻璃或者透明有机胶。

如图2所示，本实施例的显示装置的制作过程为：

s1：制作整面衬底5；

s2：制作成型于衬底5上的阵列基板6；

其包括以下步骤：

制作阳极13：当阳极材料不同时，可先分别蒸镀形成主显示区1和过渡显示区3，再蒸镀形成副显示区2；当阳极材料相同时，可先进行整面蒸镀，其厚度与副显示区2相同，再分别对主显示区1和过渡显示区3区域分别蒸镀，增加其厚度；

制作有机发光层7；

制作阴极4，先进行整面蒸镀第一阴极层41，使其厚度与副显示区2相同，再分别采用不同的通用金属掩模板(cmm)分别对主显示区1的第二阴极层42和过渡显示区3的第三阴极层43进行蒸镀；

s3：若衬底5为非透明基板，则采用激光或者刻蚀去除衬底5上与副显示区2对应的部分将其更换为透明玻璃基板或透明有机胶。

其中由于显示装置的阴极厚度不均，过渡显示区3和副显示区2的阴极厚度相对较薄，为避免对正常显示造成影响，确保过渡显示区和副显示区亮度的均匀性以及正常显示，后期可通过外部的驱动电路对过渡区显示模组进行外部光学补偿，例如光学抽取式demura光学补偿以提高显示装置整体亮度的均匀性避免产生残像。

实施例2

如图6所示，本实施例中公开了一种显示装置，其包括设备本体和显示面板，显示面板包括阵列基板和封装层，封装层封装于阵列基板上远离阵列基板的衬底的一侧。

本实施例中的显示装置的结构与上述实施例中相同，显示面板的结构也与上述实施例中相同。本实施例与上述实施例中的显示装置的区别在于，显示面板过渡显示区3的结构与上述实施例中不同。

本实施例中过渡显示区的第一电极包括第一区域和第二区域，其中第一区域的厚度大于第二区域的厚度，第一区域覆盖有像素单元。第一区域的厚度等于主显示区的第一电极的厚度；和/或第二区域的厚度等于副显示区的第一电极厚度。

本实施例中第一电极指阴极，参见附图6，过渡显示区3的阴极包括第一阴极区45和第二阴极区46，其中第一阴极区45的厚度大于第二阴极区46的厚度，第一阴极区45覆盖有像素单元，像素单元包括红色(r)、绿色(g)和蓝色(b)子像素，当然，也可以包括其他颜色的子像素，如白色(w)，在此不做限定。

在一可选的实施例中，第一阴极区45的厚度等于主显示区1的阴极厚度。第二阴极区46的厚度等于副显示区2的阴极厚度。

本实施例的显示装置的制作过程为：

s1：制作整面衬底5；

s2：制作成型于衬底5上的阵列基板6；

其包括以下步骤：

制作阳极13：当阳极材料不同时，可先分别蒸镀形成主显示区1和过渡显示区3，再蒸镀形成副显示区2；当阳极材料相同时，可先进行整面蒸镀，其厚度与副显示区2相同，再分别对主显示区1和过渡显示区3区域分别蒸镀，增加其厚度；

制作有机发光层7；

制作阴极4，先进行整面蒸镀第一阴极层41，使其厚度与副显示区2相同，再采用精密金属掩模板(fmm)同时对主显示区1和过渡显示区3进行蒸镀第四阴极层44；

s3：若衬底5为非透明基板，则采用激光或者刻蚀去除衬底5上与副显示区2对应的部分将其更换为透明玻璃基板或透明有机胶。

其中本实施例中的主显示区1和过渡显示区3可通过一个精密金属掩模板(fmm)同时蒸镀成型。

本实施例的fmm掩模组件如图7－8所示，其包括：掩模边框8和若干孤岛遮挡部9，掩模边框8支撑于基底表面，掩模边框8内形成有开口11以及与像素单元对应设置的图形区10；若干孤岛遮挡部9位于开口10内且与周边图形区10连接；其中掩模边框8为矩形框，孤岛遮挡部9包括圆形遮挡和/或方形遮挡。当然，孤岛遮挡部不限于仅设置为矩形或者圆形，其也可以为椭圆形、菱形、六边形等形状；掩模边框也不限于设置为方框，可以为圆框、椭圆形框、菱形框、六边形框等形状。

参见附图7，其中图形区10包括若干遮挡子区12，遮挡子区12呈直条状间隔平行设置，其中直条状所述遮挡子区12的一端或者两端分别连接于掩模边框8，其中孤岛遮挡部9连接于任意一个或多个遮挡子区12的边缘。

参见附图8，遮挡子区12呈矩形网格状设置，孤岛遮挡部9连接于遮挡子区12的边缘。

通过设置上述掩模组件对显示装置的阴极层进行蒸镀时可通过一次蒸镀同时形成过渡显示区3和主显示区1的阴极4，避免经过两个掩模板分两个步骤分别制作过渡显示区3的阴极和主显示区1的阴极；工艺更加简单。

其中由于显示装置的阴极层厚度不均，过渡显示区3和副显示区2的阴极层厚度相对较薄，为避免对正常显示造成影响，确保过渡显示区和副显示区亮度的均匀性以及正常显示，后期可通过外部的驱动电路对过渡区显示模组进行外部光学补偿，例如光学抽取式demura光学补偿以提高显示装置整体亮度的均匀性避免产生残像。

本实用新型公开了一种阵列基板，包括该阵列基板的显示面板以及包括该显示面板的显示装置。通过显示装置的显示面板的主显示区、过渡显示区以及副显示区的第一电极和第二电极等结构的设计，增大副显示区的透光率，使副显示区既能够实现正常显示静态或动态画面，同时在副显示区下方设置感光器件，实现感光功能，即实现真正的全面显示。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。