技术总结
本申请公开了一种高对比度光栅垂直腔面发射激光器及其制备方法，包括依次从下至上设置的第一反射器层、有源层、第二反射器层及光栅层，该光栅层上依次设置有的图案化的第一保护层及第二保护层，该光栅层设置为包括光栅条的图案化膜层，该第一保护层覆盖该光栅条，该第一保护层与第二保护层存在刻蚀选择比。本申请实施例通过在光栅层上设置存在刻蚀选择比的保护层，使得对外侧保护层进行选择性刻蚀，对芯片的部分结构进行保护时，由于存在的刻蚀选择比从而能够有效完整的保持内部的保护层的完整性，实现内侧保护层对光栅条的保护，提高了发射激光器的稳定性。高了发射激光器的稳定性。高了发射激光器的稳定性。
技术研发人员：廖文龙 沈志强 祁继鹏
受保护的技术使用者：深圳博升光电科技有限公司
技术研发日：2020.11.17
技术公布日：2021/2/4