一种硅片检测装置的制作方法

本实用新型涉及硅片检测应用技术领域，具体涉及一种硅片检测装置。

背景技术：

面对日益增长的环保新能源的需求，光伏发电行业迅猛发展，光伏组件质量控制流程中测试手段不断加强。对于太阳能电池片的原料硅片来讲，硅片隐裂的检测尤为重要。作为太阳能电池厂的来料把控环节，提前剔除劣质硅片既可以节省硅片的成本，又可以节省下劣质硅片制作成电池片的各工艺需消耗成本。

隐裂缺陷以肉眼难以分辨，当前市场上使用的硅片隐裂检测的原理是通过红外光在硅片中传导后被工业线阵红外相机采集到形成图像，隐裂部分由于断裂无法正常传导并反射出红外光，所以在图像上隐裂部分呈现为黑色，与正常硅片部分形成差别。因为需要使用红外光的传导并反射，所以在图像采集处的硅片下方的物体也会呈现在图像上，对硅片检测造成干扰，算法程序容易造成误判。因而现有的硅片隐裂检测设备在图像采集位都需要将传输带机构分开，形成一个30mm以上的间隙，然后在间隙正下方放上一块黑色的背景板，保证图像上背景为纯黑，不干扰检测，由于切割出间隙，导致硅片在间隙段容易颠簸，反馈到检测图像上为波浪状的明暗，不利于检测。因此我们有必要针对现有技术的不足而提供一种硅片检测装置。

技术实现要素：

为了克服现有技术中的不足，本实用新型的一种硅片检测装置，其能够有效提高硅片检测的质量。

为了实现上述目的，本实用新型的一种硅片检测装置，包括检测箱、第一输送履带和第二输送履带，检测箱内设置工业线阵红外相机，第一输送履带和第二输送履呈平行设置，第一输送履带和第二输送履带上部分之间设置背景板，背景板位于工业线阵红外相机的正下方，背景板的长度大于硅片的宽度，背景板上端面设有分别与第一输送履带、第二输送履带宽度厚度相适配的凹槽，第一输送履带和第二输送履带分别穿过凹槽，且第一输送履带、第二输送履带上端面的高度与背景板的高度齐平，其中第一输送履带、第二输送履带和背景板均采用黑色不反光材质。

优选的，检测箱底部四角位置垂直连接支撑杆，支撑杆通过底部设置的支撑柱固定支撑检测箱，其中两个支撑柱位于第一输送履带的前侧，两个支撑柱位于第二输送履带的后侧。

优选的，背景板底部位置通过螺栓固定有托板，托板底部位置通过支撑板固定连接支撑柱。

优选的，背景板的正上方垂直设置挡光板，挡光板距离硅片的高度为1.3mm-1.7mm，挡光板位于检测箱的顶部，沿运输方向挡光板位于工业线阵红外相机的后侧，挡光板的另一侧设置可以倾斜发射红外光的光源。

优选的，第一输送履带和第二输送履带均通过支撑架固定，支撑架的侧壁设置安装用于驱动第一输送履带和第二输送履带的传动辊和对第一输送履带和第二输送履带起到固定作用的导向辊，支撑架的底部水平设置底板。

本实用新型具有以下有益效果：

背景板上设置用于穿过第一输送履带和第二输送履带的凹槽，保证背景板上端面的高度与第一输送履带、第二输送履带上端面的高度齐平，第一输送履带和第二输送履带可以在凹槽中动作也不会受到干扰，第一输送履带、第二输送履带和背景板均采用黑色不反光材料，平整的黑色平面可以为红外相机采集到纯黑的背景，达到切割皮带的背景效果，而且可以连贯的运输硅片，硅片不会发生颠簸，硅片部分的成像效果更佳。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步描写和阐述。

图1是一种硅片检测装置整体结构示意图。

图2是图1中一种硅片检测装置的背景板与第一输送履带、第二输送履带连接结构示意图。

图3是图1中一种硅片检测装置的背景板结构示意图。

附图标记：1、检测箱；2、底板；3、支撑架；4、第一输送履带；5、第二输送履带；6、背景板；7、挡板7；8、托板；9、支撑板；10、支撑柱；11、支撑杆；12、凹槽。

具体实施方式

下面将结合附图、通过对本实用新型的优选实施方式的描述，更加清楚、完整地阐述本实用新型的技术方案。

实施例

如图1、图2和图3所示，一种硅片检测装置，包括检测箱1、第一输送履带4和第二输送履带5，检测箱1内设置工业线阵红外相机，第一输送履带4和第二输送履呈平行设置，第一输送履带4和第二输送履带5上部分之间设置背景板6，背景板6位于工业线阵红外相机的正下方，背景板6的长度大于硅片的宽度，背景板6上端面设有分别与第一输送履带4、第二输送履带5宽度厚度相适配的凹槽12，第一输送履带4和第二输送履带5分别穿过凹槽12，且第一输送履带4、第二输送履带5上端面的高度与背景板6的高度齐平，其中第一输送履带4、第二输送履带5和背景板6均采用黑色不反光材质，在检测的时候，第一输送履带4和第二输送履带5将硅片底部支撑，并依靠摩擦力将硅片水平运输，在将硅片运输至检测位置的时候，第一输送履带4、第二输送履带5穿过背景板6上的凹槽12，高度不会改变，可以在凹槽12中动作也不会受到干扰，黑色不反光的第一输送履带4、第二输送履带5和背景板6共同形成纯黑的检测背景，保证不会干扰硅片的检测。

作为本实用新型的一种技术优化方案，检测箱1底部四角位置垂直连接支撑杆11，支撑杆11通过底部设置的支撑柱10固定支撑检测箱1，其中两个支撑柱10位于第一输送履带4的前侧，两个支撑柱10位于第二输送履带5的后侧。

通过采用上述技术方案，从而可以利用支撑柱10和支撑杆11将检测箱1牢固稳定的固定在硅片的上方，保证检测箱1内部的工业线阵红外相机能够采集图像。

作为本实用新型的一种技术优化方案，背景板6底部位置通过螺栓固定有托板8，托板8底部位置通过支撑板9固定连接支撑柱10

通过采用上述技术方案，从而可以可用托板8和支撑板9将背景板6水平固定在第一输送履带4和第二输送履带5之间。

作为本实用新型的一种技术优化方案，背景板614的正上方垂直设置挡光板，挡板78板距离硅片的高度为1.5mm，挡光板位于检测箱11的顶部，沿运输方向挡光板位于工业线阵红外相机的后端，挡光板的另一侧设置可以倾斜发射红外光的光源。

通过采用上述技术方案，可以利用挡光板保证光源发出的红外管能够穿过挡光板底部正好照射到线阵红外相机正下方的硅片上，方便工业线阵红外相机采集形成图像。

作为本实用新型的一种技术优化方案，第一输送履带4和第二输送履带5均通过支撑架3固定，支撑架3的侧壁设置安装用于驱动第一输送履带4和第二输送履带5的传动辊和对第一输送履带4和第二输送履带5起到固定作用的导向辊，支撑架3的底部水平设置底板2。

通过采用上述技术方案，可以利用支撑架3将第一输送履带4和第二水平履带固定，并保证第一输送履带4和第二输送履带5能够正常水平运输硅片。

本实用新型的工作原理为，将需要检测的硅片放置在第一输送履带4和第二输送履带5上，第一输送履带4和第二输送履带5将硅片底部支撑，并依靠摩擦力将硅片水平运输，在将硅片运输至工业线阵红外相机正下方的时候，红外光源倾斜发射红外光至工业线阵红外相机下方，同时第一输送履带4、第二输送履带5穿过背景板6上的凹槽12高度不会改变，黑色不反光的第一输送履带4、第二输送履带5和背景板6共同形成纯黑的检测背景，工业线阵红外相机采集硅片中反射的红外光并形成图像，由于断裂无法正常传导并反射出红外光，所以在图像上隐裂部分呈现为黑色，与正常硅片部分形成差别，根据此原理即可检测硅片中是否有隐裂的部分。

上述具体实施方式仅仅对本实用新型的优选实施方式进行描述，而并非对本实用新型的保护范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思和精神范畴的前提下，本领域的普通技术人员根据本实用新型所提供的文字描述、附图对本实用新型的技术方案所作出的各种变形、替代和改进，均应属于本实用新型的保护范畴。本实用新型的保护范围由权利要求确定。