设置为:功率密度为0.01至0.5瓦/平方厘米 (W/cm2)，压强为0.1至10托(Torr)，处理时间为20至500秒。更优的，氨等离子体界面处理的 参数设置为：功率密度为0.03至0.2瓦/平方厘米(W/cm 2)，压强为1至5托(Torr)，处理时间 为50至300秒。
[0027] 较优的，氨等离子体界面处理为氨等离子体界面断辉处理或氨等离子体界面不断 辉处理。
[0028] 下述表一描述了不同情况下进行界面处理的实验效果。
[0029]
[0030] 表一不同情况下进行界面处理的实验效果。
[0031] 归一化是指经过某一算法处理将需要处理的数据限制在需要的一定范围内，便于 后续数据处理。表一中的归一化是指W原娃异质结太阳能电池的界面氨等离子体处理方法 制备的电池性能作为基础(单位1)，将使用改进的界面处理方法制备的电池性能与其进行 对比，获得一个比值，比如原处理方法制备的电池的转换效率为20%，改进后的处理方法制 备的电池的转换效率为20.2%，那么电池转换效率提升了（（20.2-20)/20)*100% = 1%，即 原电池转换效率为1，改进后电池转换效率为1.01。
[0032] 在氨化非晶娃P膜层沉积腔室和/或氨化非晶娃η膜层沉积腔室开始沉积前，对氨 化非晶娃i膜层表面进行氨等离子体处理，可有效去除传送过程中吸附于氨化非晶娃i膜层 表面的尘埃、杂质、湿气等污染物，对界面进行有效的清洗和纯化，饱和界面的悬挂键，降低 表面态，减小界面复合，改善界面性能，提高电池性能。
[0033] 由上述实验结果可知，在氨化非晶娃P膜层沉积前和/或氨化非晶娃η膜层沉积前 对氨化非晶娃i膜层表面进行氨等离子体处理，电池的填充因子和转换效率都得到了提升， 尤其是在氨化非晶娃P膜层沉积腔室中与氨化非晶娃η膜层沉积腔室中均对传入的氨化非 晶娃i膜层表面进行氨等离子体处理，太阳能电池的填充因子最高可提升到1.012,转换效 率可提升到1.014。
[0034] 氨等离子体界面处理技术包括氨等离子体界面断辉处理和不断辉处理两种情况， 二者实质工艺参数无差距，达到的效果也无明显差距，只是在工艺程序上略有差距。氨等离 子体界面断辉处理是指氨等离子体处理结束后先对沉积腔室进行抽真空，再通入沉积氨化 非晶娃P膜层或氨化非晶娃η膜层所需用的气体进行沉积;氨等离子体界面不断辉处理是指 氨等离子体处理后期，即结束前，不需要对沉积腔室进行抽真空，直接通入沉积氨化非晶娃 Ρ膜层或氨化非晶娃η膜层所需用的气体进行过渡沉积氨化非晶娃Ρ膜层或氨化非晶娃η膜 层。
[0035] 经过试验，在氨化非晶娃i膜层沉积腔室中、氨化非晶娃Ρ膜层沉积腔室中、氨化非 晶娃η膜层沉积腔室中均对氨化非晶娃i膜层表面进行氨等离子体界面处理，娃异质结太阳 能电池的填充因子最高可提升到1.013,转换效率可提升到1.016(均为归一化处理后的数 据)。
[0036] 本发明实施例还提供了一种娃异质结太阳能电池，娃异质结太阳能电池的界面处 理采用上述任意的方法进行处理。
[0037] 在本发明实施例的技术方案中，改进了异质结太阳能电池的界面处理方法，在沉 积氨化非晶娃η膜层或氨化非晶娃P膜层前，对传送到其沉积腔室的氨化非晶娃i膜层进行 氨等离子体界面处理，清除氨化非晶娃i膜层在沉积传送过程中再次产生的沾污，保证氨化 非晶娃i膜层膜层与氨化非晶娃P膜层之间的界面W及氨化非晶娃i膜层膜层与氨化非晶娃 η膜层之间的界面性能，提高电池性能。
[0038] 显然，本领域的技术人员可W对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精 神和范围。运样，倘若本发明的运些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围 之内，则本发明也意图包含运些改动和变型在内。
【主权项】
1. 一种硅异质结太阳能电池的界面处理方法，其特征在于： 51、 在氢化非晶硅i膜层的沉积腔室中沉积氢化非晶硅i膜层； 52、 进行下述任一或任意组合的步骤： A对传送到氢化非晶硅η膜层的沉积腔室中的所述氢化非晶硅i膜层进行氢等离子体界 面处理，在所述氢化非晶硅i膜层上沉积氢化非晶硅η膜层； Β对传送到氢化非晶硅ρ膜层的沉积腔室中的所述氢化非晶硅i膜层进行氢等离子体界 面处理，在所述氢化非晶硅i膜层上沉积氢化非晶硅P膜层。2. 如权利要求1所述的界面处理方法，其特征在于:执行步骤S1后，在所述氢化非晶硅i 膜层的沉积腔室中对所述氢化非晶硅i膜层进行所述氢等离子体界面处理。3. 如权利要求1或2所述的界面处理方法，其特征在于:所述的氢等离子体界面处理的 参数设置为：功率密度为〇. 01至〇. 5瓦/平方厘米，压强为0.1至10托，处理时间为20至500 秒。4. 如权利要求3所述的界面处理方法，其特征在于:所述的氢等离子体界面处理的参数 设置为:功率密度为〇. 03至0.2瓦/平方厘米，压强为1至5托，处理时间为50至300秒。5. 如权利要求1或2或3所述的界面处理方法，其特征在于:所述的氢等离子体界面处理 为氢等离子体界面断辉处理或氢等离子体界面不断辉处理。6. -种硅异质结太阳能电池，其特征在于：硅异质结太阳能电池的界面处理采用如权 利要求1至5任意所述的方法进行处理。
【专利摘要】本发明公开了一种硅异质结太阳能电池及其界面处理的方法，改进了异质结太阳能电池的界面处理方法，在沉积氢化非晶硅n膜层或氢化非晶硅p膜层前，对传送到其沉积腔室的氢化非晶硅i膜层进行氢等离子体界面处理，清除氢化非晶硅i膜层在沉积传送过程中再次产生的沾污，保证氢化非晶硅i膜层膜层与氢化非晶硅p膜层之间的界面以及氢化非晶硅i膜层膜层与氢化非晶硅n膜层之间的界面性能，提高电池性能。
【IPC分类】H01L31/0236, H01L31/18
【公开号】CN105489669
【申请号】CN201510846344
【发明人】李立伟, 谷士斌, 何延如, 张 林, 张娟, 徐湛, 杨荣, 孟原, 郭铁
【申请人】新奥光伏能源有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年11月26日