一种电机定子整形底座的制作方法

文档序号:10353616阅读:217来源:国知局
一种电机定子整形底座的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种底座,尤其涉及一种电机定子整形底座。
【背景技术】
[0002]通常在将漆包线嵌入到电机定子内侧凹槽中后,需要对其电机定子内的漆包线进行整形。目前往往是将电机定子竖直放在工作台面上,由工作人员慢慢挪动电机定子进行整形,不仅劳动强度大,整形效率低,且由于电机定子表面在挪动过程中会与工作台面产生较大摩擦,容易使电机定子表面受损伤。
【实用新型内容】
[0003]针对上述问题,本实用新型拟解决的问题是提供一种结构简单合理、成本低、劳动强度小、使用方便且整形效率高的电机定子整形底座,能够有效避免电机定子表面受损伤。
[0004]为达到上述目的,本实用新型采用以下技术方案:一种电机定子整形底座,包括底盘、轴承、转动轴、隔圈和转盘,所述底盘中间位置自下而上依次设有圆形凹槽一和圆形凹槽二,所述圆形凹槽一的直径小于所述圆形凹槽二的直径,所述圆形凹槽二中设有轴承,所述轴承中间过盈安装有转动轴,所述转动轴上套设有隔圈,且所述隔圈紧贴在所述轴承上,所述转动轴的底端端面与所述轴承的底端端面在同一平面上,所述转动轴的顶端上设有一转盘。
[0005]作为优选,所述转盘上设有一橡胶层。
[0006]本实用新型的有效成果:本实用新型结构简单合理,成本低,使用时,只要将整个电机定子放在设有橡胶层的转盘上,然后一边转动转盘,一边对电机定子内的漆包线进行整形,由于不再需要挪动电机定子,不仅使用方便,劳动强度小,且大大提高整形效率,再者能够有效避免电机定子表面受损伤。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构不意图。
[0008]图2是图1中底盘的结构不意图。
[0009]图中:1-底盘,2-轴承,3-转动轴,4-隔圈,5-转盘,6_圆形凹槽一,7_圆形凹槽二,8-橡胶层。
【具体实施方式】
[0010]为了使本技术领域的人员更好的理解本实用新型方案,下面将结合本实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。
[0011]如图1、图2所示,本实用新型公开了一种电机定子整形底座,包括底盘1、轴承2、转动轴3、隔圈4和转盘5,底盘I中间位置自下而上依次设有圆形凹槽一6和圆形凹槽二7,圆形凹槽一 6的直径小于圆形凹槽二 7的直径,圆形凹槽二 7中设有轴承2,轴承2中间过盈安装有转动轴3,转动轴3上套设有隔圈4,且隔圈4紧贴在轴承2上,转动轴3的底端端面与轴承2的底端端面在同一平面上,转动轴3的顶端上设有一转盘5,转盘5上设有一橡胶层8。
[0012]本实用新型结构简单合理,成本低,使用时,只要将整个电机定子放在设有橡胶层8的转盘5上,然后一边转动转盘5,一边对电机定子内的漆包线进行整形,由于不再需要挪动电机定子,不仅使用方便,劳动强度小,且大大提高整形效率,再者能够有效避免电机定子表面受损伤。
[0013]显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应属于本实用新型保护的范围。
【主权项】
1.一种电机定子整形底座,其特征在于:包括底盘(I)、轴承(2)、转动轴(3)、隔圈(4)和转盘(5),所述底盘(I)中间位置自下而上依次设有圆形凹槽一(6)和圆形凹槽二(7),所述圆形凹槽一(6)的直径小于所述圆形凹槽二(7)的直径,所述圆形凹槽二(7)中设有轴承(2),所述轴承(2)中间过盈安装有转动轴(3),所述转动轴(3)上套设有隔圈(4),且所述隔圈(4)紧贴在所述轴承(2)上,所述转动轴(3)的底端端面与所述轴承(2)的底端端面在同一平面上,所述转动轴(3)的顶端上设有一转盘(5)。2.根据权利要求1所述的电机定子整形底座,其特征在于:所述转盘(5)上设有一橡胶层⑶。
【专利摘要】本实用新型公开了一种电机定子整形底座,包括底盘、轴承、转动轴、隔圈和转盘,底盘中间位置自下而上依次设有圆形凹槽一和圆形凹槽二,圆形凹槽一的直径小于圆形凹槽二的直径,圆形凹槽二中设有轴承,轴承中间过盈安装有转动轴,转动轴上套设有隔圈,且隔圈紧贴在轴承上,转动轴的底端端面与轴承的底端端面在同一平面上,转动轴的顶端上设有一转盘,转盘上设有一橡胶层。本实用新型结构简单合理,成本低,使用时,只要将整个电机定子放在设有橡胶层的转盘上,然后一边转动转盘,一边对电机定子内的漆包线进行整形,由于不再需要挪动电机定子,不仅使用方便,劳动强度小,且大大提高整形效率,再者能够有效避免电机定子表面受损伤。
【IPC分类】H02K15/00
【公开号】CN205265479
【申请号】CN201521145256
【发明人】陈荣尧, 郭岳军, 蔡刚, 章建胜, 叶芬芬
【申请人】浙江晶星齿轮电机有限公司
【公开日】2016年5月25日
【申请日】2015年12月30日
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