1.一种发热盘加热层的处理方法，应用于烹饪容器，其特征在于，包括：
发热盘的加热层(4)表面进行砂化处理以形成粗糙层；
在所述粗糙层的表面进行喷涂处理以形成至少一层过渡层；
在距离所述粗糙层最远的所述过渡层的表面进行喷涂处理以形成至少一层陶瓷层(2)，所述陶瓷层(2)设置成多孔结构；
在距离所述过渡层最远的所述陶瓷层(2)的表面进行涂釉处理以形成釉层(3)。
2.根据权利要求1所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，所述过渡层包括：
至少一层第一过渡层(1)，在所述粗糙层的表面进行喷涂处理形成；
多层第二过渡层(7)，在距离所述粗糙层最远的所述第一过渡层(1)的表面进行喷涂处理形成；
所述加热层(4)由金属材料制成，所述第一过渡层(1)由金属合金材料制成，所述第二过渡层(7)由金属和/或金属氧化物材料与陶瓷材料混合制成，
其中，沿着粗糙层指向釉层(3)的方向，多个所述第二过渡层(7)内的金属材料含量依次减少。
3.根据权利要求2所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，所述陶瓷层(2)由金属和/或金属氧化物材料与陶瓷材料混合制成；
或者，所述陶瓷层(2)由陶瓷材料制成；
其中，沿着粗糙层指向釉层(3)的方向，多个所述第二过渡层(7)内的陶瓷材料含量依次增加。
4.根据权利要求3所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，所述陶瓷层(2)内的陶瓷含量占材料总量的50-100％。
5.根据权利要求1所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，所述过渡层为一层，在所述粗糙层的表面进行喷涂处理形成；
所述过渡层为金属合金材料制成。
6.根据权利要求1所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，所述砂化处理包括：
所述加热层(4)的表面进行清洁处理；
在清洁处理后的所述加热层(4)的表面进行喷砂处理以形成所述粗糙层。
7.根据权利要求1所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，将陶瓷粉末喷涂至距离所述粗糙层最远的所述过渡层的表面以形成两层所述陶瓷层(2)；
所述陶瓷粉末的粒径为35～75μm，且所述陶瓷层(2)的孔隙率为1～4％。
8.根据权利要求1所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，所述过渡层为一层，所述过渡层的粗糙度ra为4～12μm；
所述粗糙层的粗糙度ra为2～8μm，rz为12～18μm。
9.根据权利要求1所述的发热盘加热层的处理方法，其特征在于，每层所述过渡层的厚度δ1为0.05～0.15mm，每层所述陶瓷层(2)的厚度δ2为0.1～0.3mm，所述釉层(3)的厚度δ3为5～200μm。
10.一种烹饪容器的发热盘，应用于权利要求1-9任意一项所述的发热盘加热层的处理方法进行加热层(4)处理。