1.一种应用于内层板芯曝光的对位结构，包括：依次叠合的底层底片、内层板芯以及顶层底片，其特征在于，所述底层底片的边缘上设置有多个第一靶标，所述顶层底片的边缘上设置有与多个所述第一靶标对应的多个第二靶标，所述第一靶标与第二靶标均包括：环形主体以及均匀设置于所述环形主体外侧的四个方位柱体；所述底层底片与顶层底片正对时，所述第一靶标位于所述第二靶标内，所述第一靶标的四个方位柱体分别与第二靶标的四个方位柱体一一对应并位于同一直线上。
2.根据权利要求1所述的应用于内层板芯曝光的对位结构，其特征在于，所述第一靶标以及所述第二靶标数量为四组，四组所述第一靶标以及所述第二靶标分别位于底层底片和顶层底片的四个角部。
3.根据权利要求1所述的应用于内层板芯曝光的对位结构，其特征在于，所述第一靶标的环形主体与第二靶标的环形主体间距为0.05~0.1mm。
4.根据权利要求2所述的应用于内层板芯曝光的对位结构，其特征在于，所述第一靶标以及第二靶标分别采用红色和绿色设计。
5.根据权利要求1至4任一所述的应用于内层板芯曝光的对位结构，其特征在于，所述第二靶标的环形主体内侧开设有与第一靶标的四个方位柱体对应的四个对位槽，所述第一靶标的四个方位柱体分别卡设于四个对位槽内。