用于胶带基材表面处理的等离子体发生设备辅助工作平台的制作方法

1.本实用新型属于等离子体发生设备领域，尤其是一种用于胶带基材表面处理的等离子体发生设备辅助工作平台。


背景技术：

2.塑料或橡胶的膜材、板材、异构件等制品表面，为了增加压敏胶对其表面的粘接力，通常采用等离子体发生设备对膜表面进行处理。
3.等离子体发生设备的喷头，作用面积有限，处理效果与作用时间、喷头与材料表面的距离等因素有关系。实验室里使用等离子体对材料进表面处理时，若通过手动的方式，处理结果并不理想，容易出现局部太过或者不足的情况，对于一些膜材还容易造成褶皱。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于克服现有技术的不足之处，提供一种用于胶带基材表面处理的等离子体发生设备辅助工作平台，通过使等离子体发生设备的喷头在材料表面这个二维平面上均速往复的移动，进而实现对等离子体处理的时间和强度的控制。
5.本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是：
6.一种用于胶带基材表面处理的等离子体发生设备辅助工作平台，包括：
7.等离子体喷头移动平台，所述等离子体喷头移动平台使等离子体喷头沿横向以设定的速度移动；
8.待处理基材移动平台，所述待处理基材移动平台使待处理基材沿纵向以设定的速度移动；
9.所述等离子体喷头移动平台位于待处理基材移动平台的上方，两个移动平台相配合使待处理基材表面各个位置均能得到等离子体处理。
10.进一步地，所述的等离子体喷头移动平台包括驱动机构及丝杆传动机构，所述丝杆传动机构包括丝杆、滑块、丝杆支撑架，所述等离子体喷头安装在所述滑块上。
11.进一步地，所述等离子体喷头采用可拆卸的安装方式与所述滑块连接。
12.进一步地，在所述丝杆的两端各安装一接近开关。
13.进一步地，所述的待处理基材移动平台包括真空吸附平台及移动机构，所述移动机构位于真空吸附平台的下方，用于支撑并移动真空吸附平台。
14.进一步地，所述移动机构可以采用自动移动机构或手动移动机构。
15.进一步地，所述自动移动机构为直线电机滑台机构。
16.进一步地，所述手动移动机构包括一托板，所述托板上制有两条平行设置的导向槽，在所述真空吸附平台的底面对应两导向槽的位置固装两滑动块，两滑动块置于两导向槽内，手动推真空吸附平台，使其沿着导向槽滑动。
17.进一步地，在所述托板的底面四角安装有四个高度调节机构。
18.本实用新型的优点和积极效果是：
19.本实用新型辅助工作平台使等离子处理操作更加方便，处理效果稳定，不同的使用人员可以根据预先确定的速度和强度，高效的实现表面处理，减少了表面处理给后续实验差异带来的影响。
附图说明
20.图1为本实用新型的一种实施方式的结构示意图。
21.其中，上述附图包括以下附图标记：
22.1为驱动机构、1为驱动机构、2为电机与控制器的连接线、3为丝杆支撑架、4为控制器、5为等离子体处理机、6为电器线路与鼓风管路、7为接近开关、8为丝杆、9为等离子体喷头、10为真空吸附平台、11为抽真空接口、12为导向槽、13为托板。
具体实施方式
23.下面通过具体实施例对本实用新型作进一步详述，以下实施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本实用新型的保护范围。
24.在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“左、右”通常是针对附图所示的左、右；“横、纵”通常是针对附图所示的横、纵；“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。
25.本实施例提供了一种用于胶带基材表面处理的等离子体发生设备辅助工作平台，包括等离子体喷头移动平台及待处理基材移动平台，所述等离子体喷头移动平台位于待处理基材移动平台的上方。所述等离子体喷头移动平台使等离子体喷头9沿横向以设定的速度移动，所述待处理基材移动平台使待处理基材沿纵向以设定的速度移动。两个移动平台相配合，使待处理基材表面能够得到均匀的等离子体处理。
26.所述的等离子体喷头移动平台包括驱动机构1及丝杆传动机构，所述驱动机构1优选三相异步电动机，所述电机连接控制器4。所述丝杆传动机构包括丝杆8、滑块、丝杆支撑架3，所述丝杆8上啮合连接滑块，所述等离子体喷头9安装在所述滑块上。所述等离子体喷头9与等离子体处理机5连接。为了便于拆卸喷头，采用可拆卸的安装方式，比如卡装，嵌装等。所述丝杆8通过丝杆支撑架3支撑，丝杆8的一端与电机的输出端连接。电机驱动丝杆8旋转进而使滑块沿着丝杆8移动。在丝杆8的两端各安装一接近开关7，当滑块靠近接近开关7时，滑块停止并沿着与之前相反的方向移动直至接近到另一端的接近开关7。
27.所述的待处理基材移动平台包括真空吸附平台10及移动机构，所述移动机构位于真空吸附平台10的下方，用于支撑并移动真空吸附平台10。
28.所述移动机构可以采用自动移动机构或手动移动机构，如采用自动移动机构，可以采用直线电机滑台机构。如果采用手动移动机构，如图1所示，可以采用一托板13，所述托板13上制有两条平行设置的导向槽12，在所述真空吸附平台10的底面对应两导向槽12的位置固装两滑动块，两滑动块置于两导向槽12内。手动推真空吸附平台10，使其沿着导向槽12滑动。这种手动方式降低了设备投入成本，适合实验室使用。为了调平托板13，还可以在托板13的底面四角安装有四个高度调节机构。
29.所述真空吸附平台10的作用是使被处理的材料平展铺贴在平台上，不会在处理过
程中因为风或者静电而移动或者局部翘起，特别对柔软且薄的膜类材料，从而保证了处理的效果。所述真空吸附平台10与基材接触的面均匀布置有多个孔，真空吸附平台10上制有抽真空接口11，所述抽真空接口11通过气管与抽真空设备连接。
30.所述胶带基材可以为pp板材或pet膜等需要表面处理的基材。
31.本辅助工作平台的使用方法为：
32.将待处理的胶带基材放置到平台上，打开等离子处理机，先设置等离子的等级，设置辅助工作平台的移动速度，然后开启等离子体喷射，开启辅助平台移动装置，开始等离子体处理。往复一个来回，关闭辅助平台的位移装置，关闭等离子喷射，处理结束。
33.显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
34.需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本技术的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。
35.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。