摄像装置制造方法
【专利摘要】本发明提供摄像装置，充分地确保从被摄体到达受光元件的光量。在基板（32）的表面（321）上形成发光层（63）。与表面相对的多个透镜（24）聚集来自发光层照明的被摄体（200）的摄像光。在表面（321）与发光层间的第一电极层（61）形成对应各透镜的开口部（614）。由各透镜聚光并通过开口部的摄像光入射受光元件（14）。在规定通过受光元件的受光面（16）的周边上的点PA1和开口部（614）的周边上的点（PA2）的第一直线、和相对于第一直线与透镜的表面的交点（PA3）处的法线（LN）与第一直线（L1）呈线对称的第二直线（L2）的情况下，从第二直线与覆盖发光层的第二电极层（64）的表面的交点（PA4）观察，发光层的发光区域（70）位于光轴（L0）的相反侧。
【专利说明】摄像装置
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及对被摄体进行摄像的摄像装置。
【背景技术】
[0002]在现有技术中已经公开有为了进行生物体认证而拍摄生物体的静脉图像的各种技术。在例如专利文献I中，已经公开了如下的手指认证装置:以隔着被摄体(被认证者的手指)相互对置的方式配置光源部和摄像部，由摄像部拍摄从光源部出射并透过了被摄体的光。
[0003]在专利文献I的技术中，由于需要以隔着被摄体相对的方式配置光源部和摄像部，因而具有装置的小型化困难这样的问题。从解决以上问题的观点而言，在例如专利文献2中，公开了将光源层和检测层层叠在基板的表面上的结构的摄像装置。由检测层的各受光元件检测从光源层射出并通过了被摄体的光。防止从光源层对检测层直接照射的遮光层被设置于光源层与检测层之间。
[0004]【现有技术文献】
[0005]【专利文献】
[0006]专利文献1:日本特开2003-30632号公报
[0007]专利文献2:日本特开2009-3821号公报
[0008]但是，在专利文献2的技术中，具有难以充分地确保从被摄体入射至各受光元件的光量这样的问题。考虑到以上的情况，本发明的目的在于，充分地确保从被摄体到达受光元件的光量。
【发明内容】
[0009]为了解决以上问题，本发明的摄像装置具备:光透过性的第一基板(例如基板32)，第一基板包括第一面(例如表面321);多个透镜，与第一面相对且聚集来自第一基板的相反侧的入射光；发光层，位于第一面的表面上；以及多个受光兀件，隔着第一基板而设置在多个透镜的相反侧。由于从来自发光层的射出光照明的被摄体出射的入射光由多个透镜聚光之后到达各受光元件，因而与不存在将从被摄体发出的入射光聚集的透镜的专利文献2的技术相比，能够充分地确保从被摄体到达受光元件的光量。此外，本发明中的“多个透镜”是摄像装置具备的全部的透镜的一部分(例如不助于聚光的虚拟透镜(du_y lens)以外的透镜)或者全部。同样地，本发明中的“多个受光元件”是摄像装置具备的全部的受光元件的一部分(例如不助于摄像的虚拟元件以外的受光元件)或者全部。
[0010]本发明的优选方式所涉及的摄像装置具备:遮光性的开口规定层(例如第一电极层61)，开口规定层设置于第一面与发光层之间，且开口规定层具有使多个透镜聚集的光通过的多个第一开口部(例如开口部614)。在以上的结构中，由于在发光层与各受光元件之间存在开口规定层，因而从发光层发出的出射光直接到达各受光元件的可能性降低。另外，如果采用将与发光层电连接的第一电极层直接用作开口规定层的结构，则与单独地形成第一电极层与开口规定层的情况相比，具有装置构成、制造工序被简单化这样的优点。
[0011 ] 在具备开口规定部的摄像装置的优选例中，在包括多个透镜中的一个透镜的光轴的基准面内，在规定了第一直线(例如第一直线LI)以及第二直线(例如第二直线L2)的情况下，从第二直线与覆盖发光层的第二电极层的表面的交点(例如交点PA4)观察，发光层的发光区域位于一个透镜的光轴的相反侧，第一直线通过对应于一个透镜的受光元件的受光面中的从光轴观察的一侧的周边(例如点PAl)、和开口规定层中的对应于一个透镜的第一开口部中的从光轴观察的另一侧的周边(例如点PA2 )，第二直线将第一直线与一个透镜的表面的交点(例如点PA3)处的该表面的法线作为对称轴而与第一直线呈线对称。根据以上的方式，从发光层出射而在各透镜的表面反射的光通过第一开口部而到达受光元件的可能性能降低。
[0012]本发明的优选方式所涉及的摄像装置:遮光层，遮光层设置于第一基板与多个受光元件之间，遮光层具有对应于各透镜的多个第二开口部(例如开口部46)。在以上的结构中，由于在发光层和各受光兀件之间介装遮光层，因而能够降低从发光层发出的出射光直接到达各受光元件的可能性、由各透镜聚集的光到达对应于该透镜以外的透镜的受光元件的可能性。另外，优选隔着第一基板而在与多个透镜相反的一侧设置光透过性的第二基板，在第二基板上形成遮光层的结构。根据以上的结构，具有能够相互独立地执行在第一基板上形成发光层的工序和在第二基板上形成遮光层的工序这样的优点。具体而言，第二基板被接合于第一基板中的与第一面相反一侧的第二面，遮光层被设置于第二基板中的与第一基板相反一侧的表面上。
[0013]在具备遮光层的摄像装置的优选例中，在包括多个透镜中的一个透镜的光轴的基准面内，在规定了第三直线(例如第三直线L3)以及第四直线(例如第四直线L4)的情况下，从第四直线与覆盖发光层的第二电极层的表面的交点(例如交点PB4)观察，发光层的发光区域位于一个透镜的光轴的相反侧，第三直线通过对应于一个透镜的受光元件的受光面中的从光轴观察的一侧的周边(例如点PBl )、和遮光层中的对应于一个透镜的第二开口部中的从光轴观察的另一侧的周边(例如点PB2 )，第四直线将第三直线与一个透镜的表面的交点(例如点PB3)处的该表面的法线作为对称轴而与第三直线呈线对称。根据以上的方式，从发光层出射而在各透镜的表面上反射的光通过第二开口部到达受光元件的可能性能降低。
[0014]以上的各方式所涉及的摄像装置可以优选地被用于各种电子设备。作为电子设备的具体示例，能够例示出利用摄像装置拍摄的静脉图像执行生物体认证的生物体认证装置、根据摄像装置拍摄到的图像推测血液中的酒精浓度等的生物体信息的生物体信息推断
>J-U装直。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1是本发明的第一实施方式所涉及的摄像装置的截面图。
[0016]图2是摄像装置的分解截面图。
[0017]图3是显示摄像装置的各元件的关系的俯视图。
[0018]图4是将发光元件层放大后的截面图。
[0019]图5是显示绝缘层与发光区域的关系的俯视图。
[0020]图6是第二实施方式中的第一直线和第二直线的说明图。[0021]图7是第二实施方式中的发光元件层的截面图。
[0022]图8是显示第二实施方式中的绝缘层与发光区域的关系的俯视图。
[0023]图9是第三实施方式中的第三直线和第四直线的说明图。
[0024]图10是第三实施方式中的发光元件层的截面图。
【具体实施方式】
[0025]<第一实施方式>
[0026]图1是本发明的第一实施方式所涉及的摄像装置100的截面图，图2是摄像装置100的分解截面图。第一实施方式的摄像装置100是在照射指定波长的照明光(以下称为“摄像光”)的状态下拍摄被摄体200的传感装置，摄像装置100可以优选地被用于例如拍摄生物体(典型代表人的手指)的静脉图像的生物体认证装置(静脉传感器)。摄像光是例如近红外光。如图1以及图2所示，第一实施方式的摄像装置100具备受光部10、聚光部20、发光部30以及遮光部40。
[0027]发光部30介装于受光部10与被摄体200之间。聚光部20介装于发光部30与被摄体200之间，遮光部40介装于发光部30与受光部10之间。概略地说，来自被摄体200的射入光在由聚光部20聚光之后到达受光部10，而该被摄体200由从发光部30出射的摄像光照明。
[0028]受光部10是拍摄被摄体200的主要部件，受光部10构成为包括基板12和多个受光元件14。基板12是由例如半导体材料形成的板状部件。多个受光元件14形成于基板12中的被摄体200侧的表面121，如图3所示，俯视时(即从垂直于基板12的方向观察时)排列为矩阵状。各受光元件14生成与入射大致圆形的受光面16的摄像光的光量相对应的检测信号。通过对各受光元件14生成的检测信号进行图像处理而生成被摄体200的图像。例如周知的CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor,互补金属氧化物半导体)传感器、CCD (Charge Coupled Device,电荷稱合器件)传感器优选用作受光部10。
[0029]图1的聚光部20是将从被摄体200到来的摄像光聚集的主要部分，聚光部20构成为包括基板22和多个透镜(微透镜)24。如图2所示，基板22是包括与被摄体200相对的表面221和表面221的相反侧的表面222的光透过性(使摄像光透过的性质)的板状部件。作为基板22优选采用例如玻璃基板、石英基板。多个透镜24形成于基板22的表面222。各透镜24是将从被摄体200入射基板22的表面221的拍摄光聚集的凸透镜。聚光部20的各透镜24和受光部10的各受光元件14——对应。具体而言，各透镜24的光轴LO通过与该透镜24对应的受光元件14的受光面16 (典型地说，受光面16的中心)。因此，如图3所示，多个透镜24与各受光元件14同样地俯视时排列为矩阵状。在各透镜24的制造中，可以采用例如使形成于基板22的多个的微细的抗蚀层热变形而形成各透镜24的方法(回流法)、通过利用了面积灰度掩模的光刻处理而形成各透镜24的方法或者通过板状部件的研磨、成型而一体地形成基板22和各透镜24的方法等任意的制造技术。
[0030]图1的发光部30是生成摄像光的主要部分，发光部30构成为包括基板32和发光元件层34。如图2所示，基板32是包括与聚光部20 (各透镜24)相对的表面321和表面321的相反侧的表面322的光透过性的板状部件(例如玻璃基板、石英基板)。发光元件层34形成于基板32的表面321，发光元件层34作为照明被摄体200的摄像光的光源而起作用。[0031]图4是将发光元件层34放大后的截面图。如图4所示，发光元件层34构成为包括第一电极层61、绝缘层62、发光层63、第二电极层64以及密封层65。发光层63是通过电流的供给而出射摄像光的电光学层，发光层63由例如有机EL(Electroluminescence,电致发光)材料形成。
[0032]第一电极层61形成于基板32的表面321,第一电极层61作为电连接于发光层63的电极(阳极)而起作用。如图4所示，第一电极层61是层压了第一层611和第二层612的结构。第一层611是使发光层63生成的摄像光向被摄体200侧反射的光反射性的导电膜，第一层611由例如银、招等导电材料形成于基板32的表面321。另一方面,第二层612是使摄像光透过的光透过性的导电膜，第二层612由例如ITCKIndium Tin Oxide，氧化铟锡)等光透过性的导电材料形成并覆盖第一层611。
[0033]如图3所示，在第一电极层61形成有俯视时圆形状的多个开口部614。第一电极
层61的各开口部614和聚光部20的各透镜24 (或者受光部10的各受光元件14)--对
应。具体而言，各透镜24的光轴LO通过与该透镜24对应的开口部614 (典型地说，开口部614的中心)。因此，如图3所示，各开口部614与各透镜24、各受光元件14同样地俯视时排列为矩阵状。即，第一电极层61形成为多个开口部614俯视时排列为矩阵状的大致格子状。各开口部614的 内径在各透镜24的外径以下。正如从以上的说明中可理解的那样，第一电极层61 (第一层611)作为规定使聚光部20的各透镜24聚集而成的摄像光向受光部10侧通过的开口部614的开口规定层而起作用。发光层63所生成的摄像光不仅向被摄体200侧行进，也向受光部10侧行进，而从发光部63向受光部10侧行进的摄像光由第一电极层61反射至被摄体200侧。即，开口规定层(第一电极层61)也可以换句话说是防止从发光层63对受光部10直接照射摄像光(即，不经由被摄体200的摄像光的照射)的遮光层。在形成开口部614 (选择性地除去导电膜)时，可以任意地采用例如光刻处理等周知的制造技术。
[0034]图4的绝缘层62由光透过性的绝缘材料(例如树脂材料)形成。发光层63遍及形成有绝缘层62的表面321的整个区域，以大致恒定的膜厚连续。此外，为了提高发光层63的发光效率，也可以与发光层63 —起形成电荷注入层(空穴注入层、电子注入层)、电荷输送层(空穴输送层、电子输送层)。
[0035]第二电极层64以覆盖发光层63的方式遍及表面321的整个区域而连续地形成，第二电极层64作为与发光层63电连接且在与第一电极层61之间将电流供给发光层63的电极(阴极)而起作用。第二电极层64是使入射光的一部分透过而使另一部分反射的半透过反射性的导电膜。因此，在第一电极层61与第二电极层64之间，形成有将指定波长(近红外区域)的摄像光选择性地放大而使其向被摄体200侧出射的共振器结构。第二电极层64通过使例如银、铝等导电材料以非常薄的膜厚成膜而形成。但是，也可以采用将第二电极层64形成为光透过性的导电膜的构成(不形成共振器结构的构成)。
[0036]密封层65是将以上说明的发光元件层34的各部分(第一电极层61、绝缘层62、发光层63、第二电极层64)密封而保护其不受外部气体、水分侵入的主要部分，密封层65由光透过性的绝缘材料(例如树脂材料)形成。聚光部20和发光部30由例如光透过性的粘结剂(图示略)而相互固定。在图1和图4中，例示了以使发光部30的发光元件层34 (密封层65)的表面与聚光部20的各透镜24的表面接触的方式接合聚光部20和发光部30的结构。但是，也可以通过使发光元件层34的表面与各透镜24的表面相互空开间隔而对置的方式相互固定聚光部20和发光部30。
[0037]如图4所示，第一电极层61和第二电极层64相互对置的区域中的在两者间不存在绝缘层62的区域作为通过供给第一电极层61和第二电极层64之间的电流而使发光层63发光的发光区域70而起作用。另一方面，在第一电极层61和第二电极层64对置的区域中的在两者间存在绝缘层62的区域中，由于第一电极层61和第二电极层64之间的电流由绝缘层62阻止，因而发光层63不发光。S卩，绝缘层62作为规定发光层63中的实际上使摄像光发光的发光区域70的主要部分而起作用。此外，虽然发光层63也形成于各开口部614的内侧的区域，但由于在开口部614的内侧不存在第一电极层61，因而发光层63不发光。
[0038]图5是绝缘层62的平面形状的示意图。图5中的IV-1V线的截面图相当于图4。如图5所示，绝缘层62与聚光部20的各透镜24 (或者受光部10的各受光元件14、第一电极层61的各开口部614)—一对应。具体而言，正如从图4以及图5理解的那样，绝缘层62形成为覆盖第一电极层61的各开口部614的周边(内周边)的圆环状。即，绝缘层62的外周边缘621位于开口部614的周边的外侧(与各透镜24的光轴LO相反一侧)，绝缘层62的内周边缘622位于开口部614的周边的内侧(各透镜24的光轴LO侧)。如图5所示，俯视时位于绝缘层62的外周边缘621的外侧(各透镜24的光轴LO相反一侧)的区域作为发光区域70而被划定。即，第一实施方式的发光区域70俯视时被划定为对应于排列为矩阵状的多个透镜24的各个间隙的区域的大致格子状。
[0039]图1和图2的遮光部40是将由聚光部20的各透镜24聚集的摄像光以外的杂散光遮蔽的部分，遮光部40构成为包括基板42和遮光层44。如图2所示，基板42是包括与发光部30相对的表面421和表面421的相反侧的表面422的光透过性的板状部件(例如玻璃基板、石英基板)。遮光层44是形成于基板42的表面422的遮光性(吸收摄像光或者使其反射的性质)的膜体。遮光层44由分散有例如炭黑等黑色剂(黑色颜料)的树脂材料、铬等遮光性的金属材料形成。从防止由于遮光层44的表面上的反射而产生杂散光的观点而言，低反射率的材料优选作为遮光层44的材料。
[0040]如图2和图3所示，在遮光层44形成有多个圆形状的开口部46。开口部46的内径在第一电极层61的开口部614的内径以下。遮光层44的各开口部46和聚光部20的各透镜24 (或者受光部10的各受光元件14、第一电极层61的各开口部614) —一对应。具体而言，各透镜24的光轴LO通过对应于该透镜24的开口部46 (典型地说，开口部46的中心)。因此，如图3所示，各开口部46与各透镜24、各受光元件14同样地俯视时排列为矩阵状。
[0041]如图1以及图2所示，在表面422形成有遮光层44的基板42的表面421、和在表面上321形成有发光元件层34的基板32的表面322在互相地紧密附着的状态下被接合。在基板42和基板32的接合中，可以利用例如光透过性的粘结剂(图示略)。另外，形成有遮光层44的基板42的表面422和受光部10的基板12的表面121由例如光透过性的粘结剂18互相空开间隔而被接合。正如从以上的说明可理解的那样，遮光层44设置于发光部30的基板32与受光部10的多个受光元件14之间。
[0042]在以上说明的结构中，从发光部30的发光区域70出射的摄像光透过聚光部20(基板22以及各透镜24)而照射于被摄体200，同时在被摄体200的内部的静脉中透过或者反射而入射至聚光部20，在由各透镜24聚光的基础上，通过第一电极层61的开口部614和遮光层44的开口部46而到达受光元件14的受光面16。因此，可以拍摄被摄体200的静脉图像。
[0043]正如以上说明的那样，在第一实施方式中，由于在受光部10的各受光元件14与被摄体200之间设置有发光部30(发光层63)，因而与以隔着被摄体互相对置的方式设置光源部和摄像部的专利文献I的技术相比，易于装置的小型化。另外，在第一实施方式中，由于向被摄体200照射摄像光的发光区域70分布为平面状，因而与将例如LED(Light EmittingDiode，发光二极管)等点光源用于被摄体200的照明的情况相比，可以减少对被摄体200的照射光量的不均(均匀地照明被摄体200)。而且，在第一实施方式中，由于来自由发光部30照明的被摄体200的摄像光由聚光部20的各透镜24聚集的基础上到达受光元件14，因而与不存在将摄像光聚光的要素的专利文献2的技术相比，具有能够充分地确保从被摄体200到达各受光元件14的光量这样的优点。
[0044]另外，在第一实施方式中，由于形成有对应于各透镜24的开口部614的遮光性(光反射性)的第一电极层61被设置于基板32的表面321与发光层63 (发光区域70)之间，因而从发光层63对各受光元件14直接照射摄像光被抑制。因此，具有能够取得被摄体200的对比度高的良好的图像这样的优点。在第一实施方式中，尤其是向发光层63供给电流的第一电极层61直接用作防止摄像光对各受光元件14直接照射的开口规定层(遮光层)，因而与单独地形成第一电极层61和开口规定层的情况相比，也具有摄像装置100的结构、制造工序被简化这样的优点。但是，也可以单独地形成第一电极层61和开口规定层。
[0045]另外，在第一实施方式中，由于形成有对应于各透镜24的开口部46的遮光层44设置于聚光部20与受光部10之间，因而可以防止通过了该透镜24以外的透镜24的摄像光到达对应于聚光部20的各透镜24的受光元件14的状况(光线串扰)。因此，具有能够取得被摄体200的对比度高的良好的图像这样的优点。
[0046]<第二实施方式>
[0047]以下将说明本发明的第二实施方式。此外，在以下例示的各方式中，对于作用、功能与第一实施方式同等的部分，将直接使用在第一实施方式的说明中参照的符号并适当省略各符号的详细的说明。
[0048]在第一实施方式的结构中，从发光层63的发光区域70出射而向被摄体200侧行进的摄像光可能会在到达被摄体200以前在各透镜24的表面被反射，并通过开口部614以及开口部46到达受光元件14 (以下，为方便起见，将这种现象称为“透镜反射光的直接受光”)。以下例不的第二实施方式以及第三实施方式是如下的实施方式:将与第一实施方式同样的结构作为前提，规定了发光区域70，以抑制透镜反射光的直接受光。
[0049]图6是显示包括聚光部20的任意一个透镜(以下称为“指定透镜”)24的光轴LO的平面(以下，称为“基准面”)上的受光元件14、第一电极层61和指定透镜24的位置关系的示意图。如图6所示，在第二实施方式中，第一直线LI和第二直线L2被规定于基准面内。
[0050]第一直线LI是通过基准面内的点PAl和点PA2的直线。点PAl是在基准面内，对应于指定透镜24的受光元件14的受光面16中的、从指定透镜24的光轴LO观察，与一侧(图6中光轴LO的右侧)的周边相对应的地点(受光面16的周边与基准面的交点)。另一方面，点PA2是在基准面内，对应于指定透镜24的第一电极层61的开口部614中的、从指定透镜24的光轴观察，与另一侧(图6中光轴LO的左侧)的内周边相对应的地点(开口部614的内周边与基准面的交点)。如以上那样，由于点PAl与点PA2隔着指定透镜24的光轴LO而位于相对侧，因而第一直线LI在点PAl与点PA2之间与指定透镜24的光轴LO交叉。
[0051]在基准面内，设想通过第一直线LI与指定透镜24的表面交叉的点PA3且垂直于在相对于指定透镜24的表面的点PA3处的切线的直线(即，点PA3处的指定透镜24的表面法线)LN。第二直线L2是以法线LN为对称轴而与第一直线LI呈线对称的关系的直线。即，第一直线LI与第二直线L2所成的角的平分线相当于法线LN。
[0052]图7与图4同样是将发光元件层34放大后的截面图。但是，从防止图示的繁杂化的观点出发，在图7中，为方便起见，省略了阴影线。如图7所示，在以上的条件下规定的第二直线L2与发光部30的第二电极层64的表面(或者发光层63或者第一电极层61的表面)的交点PA4被规定于基准面内。由第二直线L2和第一直线LI规定的路径相当于成为从发光区域70出射而在指定透镜24的表面上反射的摄像光是否到达受光元件14的受光面16内的界限的光路。即，从交点PA4的内侧(指定透镜24的光轴LO侧)出射而在指定透镜24的表面上反射的摄像光可能通过第一电极层61的开口部614而到达受光元件14的受光面
16。另一方面，从交点PA4的外侧(指定透镜24的光轴LO的相反侧)出射而在指定透镜24的表面上反射的摄像光被第一电极层61遮挡、或者到达基板12中的受光面16的外侧的区域，不到达受光元件14的受光面16。即，可以防止透镜反射光的直接受光。考虑到以上的倾向，在第二实施方式中，从交点PA4观察，以位于指定透镜24的光轴LO的相反侧的方式划定发光区域70。具体而言，从交点PA4观察，以发光区域70位于指定透镜24的光轴LO的相反侧的方式选择绝缘层62的尺寸、形状。
[0053]图8是发光区域70的平面的形状的说明图。如图8所示，由以指定透镜24的光轴LO为旋转轴使基准面旋转时的各基准面内的交点PA4的轨迹划定的区域Q被图示在图8中。区域Q按聚光部20的每个透镜24被划定，以对应于各透镜24的方式俯视时排列为矩阵状。发光区域70被划定在基板32的表面321中的除了各区域Q以外的大致格子状的区域内。即，发光区域70和各区域Q俯视时互不重复。在第一实施方式中，如前述那样，由于由绝缘层62的外周边缘621规定发光区域70的平面形状，因而如图8所示，对应于各透镜24的圆环状的绝缘层62的外周边缘621也可以换句话说是位于区域Q的外侧。
[0054]在第二实施方式中，也可以实现与第一实施方式同样的效果。另外，在第二实施方式中，从第二直线L2与第二电极层64的表面的交点PA4观察，由于发光区域70位于指定透镜24的光轴LO的相反侧，因而可以抑制透镜反射光的直接受光。
[0055]<第三实施方式>
[0056]图9与图6同样是显示包括聚光部20的任意一个透镜(指定透镜)24的光轴LO的基准面上的受光元件14、遮光层44和指定透镜24的位置关系的示意图。如图9所示，在第三实施方式中，第三直线L3和第四直线L4被规定在基准面内。
[0057]第三直线L3是通过基准面内的点PBl和点PB2的直线。点PBl与第二实施方式的点PAl同样，是与指定透镜24对应的受光元件14的受光面16的一侧(图9中光轴LO的右侧)的周边相对应的地点。另一方面，点PB2是在基准面内，与指定透镜24对应的遮光层44的开口部46中的、从指定透镜24的光轴LO观察而对应于另一侧(图9中光轴LO的左侦D的内周边的地点。因此，第三直线L3在点PBl与点PB2之间与指定透镜24的光轴LO交叉。另一方面，第四直线L4与第二实施方式的第二直线L2同样，是以第三直线L3与指定透镜24的表面交叉的点PB3处的该表面的法线LN为对称轴而与第三直线L3呈线对称的关系的直线。
[0058]图10与图7同样是将发光元件层34放大后的截面图。如图10所示，在以上的条件下规定的第四直线L4与发光部30的第二电极层64的表面的交点PB4被规定在基准面内。从交点PB4的内侧(指定透镜24的光轴LO侧)出射而在指定透镜24的表面上反射的摄像光可能通过遮光层44的开口部46到达受光元件14的受光面16。另一方面，从交点PB4的外侧(指定透镜24的光轴LO的相反侧)出射而在指定透镜24的表面上反射的摄像光被遮光层44遮挡、或者到达基板12中的受光面16的外侧的区域，不到达受光元件14的受光面16。考虑到以上的倾向，在第三实施方式中，以从交点PB4观察发光区域70被划定于指定透镜24的光轴LO的相反侧的方式选择绝缘层62的尺寸、形状。另外，与图8同样，如果按聚光部20的每个透镜24划定相当于交点PB4的轨迹的区域Q，则发光区域70也可以换句话说是被划定于基板32的表面321中的除了各区域Q以外的大致格子状的区域内。即，对应于各透镜24的圆环状的绝缘层62的外周边缘621位于区域Q的外侧，发光区域70与各区域Q俯视时互不重叠。
[0059]在第三实施方式中，也可以实现与第一实施方式同样的效果。另外，在第三实施方式中，从第四直线L4与第二电极层64的表面的交点PB4观察，由于发光区域70位于指定透镜24的光轴LO的相反侧，因而与第二实施方式同样，可以抑制透镜反射光的直接受光。
[0060]<变形例>
[0061]上述的各方式可以被变形为多种多样。以下将例示具体的变形方式。从以下的例示中任意地选择的量种以上的方式可以被适当地合并。
[0062](I)在上述的各方式中，在遍及基板32的整个区域地使发光层63连续地分布的结构中，通过使绝缘层62介于第一电极层61与第二电极层64之间而划定了发光区域70，但是用于划定发光区域70的结构不限于以上的例示。例如，也可以以成为具备上述的各方式中例示的条件的发光区域70的平面形状的方式形成发光层63。例如，可以通过选择性地除去由有机EL材料形成于基板32上的膜体的光刻技术、将有机EL材料选择性地涂布在基板32的指定区域上的印刷技术(例如液滴吐出技术)，从而可以形成任意的形状的发光层63。
[0063](2)在上述的各方式中，虽然将发光部30的基板32和遮光部40的基板42作为单独的部分，但也可以将基板32和基板42作为单一的基板。即，在单一基板的一个表面上形成发光兀件层34,在另一个表面上形成遮光层44。但是,在如上述那样将发光部30的基板32和遮光部40的基板42形成为分离体的结构中，具有能够相互独立地执行在基板32上形成发光元件层34的工序和在基板42上形成遮光层44的工序的优点。
[0064](3)在上述的各方式中，虽然例示了拍摄生物体认证用的静脉图像的摄像装置100(静脉传感器)，但本发明的用途是任意的。本发明也能够被应用于例如根据摄像装置100拍摄到的生物体的静脉图像推断血液中的酒精浓度的酒精检测装置、从摄像装置100拍摄的生物体的静脉图像推断血糖值的血糖值推断装置。另外，也可以将本发明应用于从印刷物读取图像的图像读取装置。此外，在将本发明应用于图像读取装置时，可见光优选被用作摄像光。
[0065]符号说明[0066]100摄像装置200被摄体
[0067]10 受光部、12、22、32、42 基板
[0068]14受光元件16受光面
[0069]18粘合剂20聚光部
[0070]24透镜30发光部
[0071]34发光兀件层40遮光层
[0072]44遮光层46开口部
[0073]61第一电极层614开口部
[0074]62绝缘层63发光层
[0075]64第二电极层65密封层[0076]70发光区域
【权利要求】
1.一种摄像装置，其特征在于，具备: 光透过性的第一基板，所述第一基板包括第一面； 多个透镜，与所述第一面相对且聚集来自所述第一基板的相反侧的入射光； 发光层，位于所述第一面的表面上；以及 多个受光元件，隔着所述第一基板而设置在多个所述透镜的相反侧。
2.根据权利要求1所述的摄像装置，其特征在于， 所述摄像装置具备:遮光性的开口规定层，所述开口规定层设置于所述第一面与所述发光层之间，且所述开口规定层具有使多个所述透镜聚集的光通过的多个第一开口部。
3.根据权利要求2所述的摄像装置，其特征在于， 所述开口规定层是与所述发光层电连接的第一电极层。
4.根据权利要求2或3所述的摄像装置，其特征在于， 所述摄像装置具备:覆盖所 述发光层的第二电极层， 在包括多个所述透镜中的一个透镜的光轴的基准面内，在规定了第一直线以及第二直线的情况下，从所述第二直线与所述第二电极层的表面的交点观察，所述发光层的发光区域位于所述一个透镜的光轴的相反侧， 所述第一直线通过对应于所述一个透镜的所述受光元件的受光面中的从所述光轴观察的一侧的周边、和所述开口规定层中的对应于所述一个透镜的第一开口部中的从所述光轴观察的另一侧的周边， 所述第二直线将所述第一直线与所述一个透镜的表面的交点处的该表面的法线作为对称轴而与所述第一直线呈线对称。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的摄像装置，其特征在于， 所述摄像装置具备:遮光层，所述遮光层设置于所述第一基板与多个所述受光元件之间，所述遮光层具有对应于各所述透镜的多个第二开口部。
6.根据权利要求5所述的摄像装置，其特征在于， 所述摄像装置具备:光透过性的第二基板，隔着所述第一基板设置于多个所述透镜的相反侧， 所述遮光层设置于所述第二基板。
7.根据权利要求6所述的摄像装置，其特征在于， 所述第二基板接合于所述第一基板中的与所述第一面相反侧的第二面， 所述遮光层设置于所述第二基板中的与所述第一基板相反侧的表面。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的摄像装置，其特征在于， 所述摄像装置具备:覆盖所述发光层的第二电极层， 在包括多个所述透镜中的一个透镜的光轴的基准面内，在规定了第三直线以及第四直线的情况下，从所述第四直线与所述第二电极层的表面的交点观察，所述发光层的发光区域位于所述一个透镜的光轴的相反侧， 所述第三直线通过对应于所述一个透镜的所述受光元件的受光面中的从所述光轴观察的一侧的周边、和所述遮光层中的对应于所述一个透镜的第二开口部中的从所述光轴观察的另一侧的周边， 所述第四直线将所述第三直线与所述一个透镜的表面的交点处的该表面的法线作为对称轴而与所述第 三直线呈线对称。
【文档编号】H04N5/225GK103685883SQ201310449958
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年9月25日 优先权日:2012年9月26日
【发明者】土屋仁, 江口司, 石黑英人 申请人:精工爱普生株式会社