专利名称：晶体硅铸锭炉用坩埚的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种坩埚，特别涉及一种晶体硅铸锭炉用坩埚。
背景技术：
现有技术使用的铸锭炉用于支撑石英坩埚的石墨坩埚都是由四块侧板与一块底板组合而成，当发生硅液溢出时，硅液在石墨坩埚上可以任意流动，没有一定的溢流导向性。由于在铸锭过程中，温度高达1500°C以上，此时发生硅液溢是一种极其严重工艺事故，必须迅速对其进行处理，而硅液的不确定流向延长了事故的报警时间，极易引发更为严重的后果。同时，由于石墨坩埚与石英坩埚的膨胀系数不同，高温过程容易导致石墨坩埚破
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实用新型内容本实用新型的目的，就是针对现有技术中存在的上述问题，提供一种设计合理、使用方便、能有效导引硅液流向的晶体硅铸锭炉用坩埚。为了实现上述目的，本实用新型采用了以下技术方案一种晶体硅铸锭炉用坩埚，包括石英坩埚以及用于支撑石英坩埚的石墨坩埚，石英坩埚嵌装在石墨坩埚内，其中的石墨坩埚由三块结构相同的石墨板块连接构成，在各连接处形成沟槽。所述的石墨坩埚的底部拐角处呈弧形。本实用新型中的石墨坩埚由三种结构相同的石墨板块连接组成，在连接处形成沟槽，当石英坩埚出现裂纹时，可在沟槽的导引之下，将溢流硅液及时按指定流向溢流，产生报警，同时石墨坩埚的底部拐角处设置为弧形，形成缓冲区，可减少石墨坩埚的破裂。
图I是本实用新型晶体硅铸锭炉用坩埚的剖视结构示意图；图2是本实用新型晶体硅铸锭炉用坩埚的俯视结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。参见图I、图2，本实用新型的晶体硅铸锭炉用坩埚，包括石英坩埚I以及用于支撑石英坩埚I的石墨坩埚2，石英坩埚I嵌装在石墨坩埚2内，其中的石墨坩埚2由三块结构相同的石墨板块21、22、23连接构成，在各连接处形成沟槽3，底部拐角处呈弧形4。本实用新型的晶体硅铸锭炉用坩埚在使用时，原材料硅在石英坩埚I中被加热熔化。当石英坩埚I出现裂纹时，由于结构上的原因，硅液必然沿着石墨板块21、22、23之间的沟槽3往下流，在沟槽3的导引之下，溢流硅液及时按指定流向溢流，产生报警，提醒操作者注意。同时由于石墨坩埚2的底部弧形拐角4的存在，减少了石英坩埚I对其产生的应力，减少了石墨樹祸2破裂的可能性。
权利要求1.一种晶体硅铸锭炉用坩埚，包括石英坩埚以及用于支撑石英坩埚的石墨坩埚，石英坩埚嵌装在石墨坩埚内，其特征在于所述的石墨坩埚由三块结构相同的石墨板块连接构成，在各连接处形成沟槽。
2.如权利要求I所述的晶体硅铸锭炉用坩埚，其特征在于所述的石墨坩埚的底部拐角处呈弧形。
专利摘要一种晶体硅铸锭炉用坩埚，包括石英坩埚以及用于支撑石英坩埚的石墨坩埚，石英坩埚嵌装在石墨坩埚内，其中的石墨坩埚由三块结构相同的石墨板块连接构成，在各连接处形成沟槽。本实用新型中的石墨坩埚由三种结构相同的石墨板块连接组成，在连接处形成沟槽，当石英坩埚出现裂纹时，可在沟槽的导引之下，将溢流硅液及时按指定流向溢流，产生报警，同时石墨坩埚的底部拐角处设置为弧形，形成缓冲区，可减少石墨坩埚的破裂。
文档编号C30B29/06GK202359233SQ201120381990
公开日2012年8月1日 申请日期2011年10月10日 优先权日2011年10月10日
发明者吴新正, 张愿成, 张滢清, 朱旭, 李红波 申请人:上海太阳能工程技术研究中心有限公司