一种半消光膜的制作方法

文档序号:14281442阅读:714来源:国知局

本实用新型涉及复合材料技术领域,具体是一种半消光膜。



背景技术:

目前,BOPP薄膜越来越多的被应用到各个技术领域,同时,人们对薄膜表面的反射程度提出越来越多的技术要求,在目前现有的亮光反射面和亚光反射面的基础上,从视觉美学的角度考虑,人们更希望看到介于两者之间的反射效果,因此提出了半消光的表面效果的概念,半亚光目前被应用于皮革材料的表面装饰、印刷领域中表面效果的改善、建筑材料表面的保护和装饰等诸多方面,但现有技术的半消光技术存在很多缺陷,表面效果不稳定,使用时视觉美学感不强,因此不能满足客户的要求,由于产品质量不稳定,使用过程中常常造成较大的经济损失。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种半消光膜,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种半消光膜,包括抗粘结层,所述抗粘结层、抗静电层、防腐抗菌层、支撑层、复合材料层和改性半消光层依次叠加共挤而出,所述的抗粘连层的厚度为1.0μm~3μm,所述抗静电层采用乙氧基化烷基胺制成,其厚度为0.1~0.15μm,所述防腐抗菌层的厚度为0.5-1.0μm,所述的支撑层的厚度为8~15μm,改性半消光层的厚度1.0~4.0μm。

作为本实用新型进一步的方案:所述抗粘结层采用重量比为93~97.5%的等规聚丙烯和1~7%的抗粘连剂,所述的抗粘连剂采用无定型二氧化硅、石蜡、碳酸钙、锻烧硅石中的一种。

作为本实用新型进一步的方案:所述防腐抗菌层由防腐抗菌材料制成。

作为本实用新型进一步的方案:所述支撑层采用等规聚丙烯制成,等规度为93~97.5%。

作为本实用新型进一步的方案:所述改性半消光层采用消光料制成,消光料为聚乙烯-聚丙烯共混物、高密度聚乙烯、改性纳米二氧化硅、改性纳米二氧化钛的混合物。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单、合理,解决了薄膜的防腐抗菌性能差的问题,改性的纳米二氧化硅和纳米二氧化钛的可以在薄膜的表面形成微小突起,减少异物与薄膜表面的接触面积从而减少划痕,提高半消光膜的品质,其产品表面效果稳定,使用时视觉美学感较强,产品质量稳定,使用寿命长,经济效果好。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中:抗粘结层1、抗静电层2、防腐抗菌层3、支撑层4、复合材料层5、改性半消光层6。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1,本实用新型实施例中,一种半消光膜,包括抗粘结层1,所述抗粘结层1、抗静电层2、防腐抗菌层3、支撑层4、复合材料层5和改性半消光层6依次叠加共挤而出,所述抗粘结层1采用重量比为93~97.5%的等规聚丙烯和1~7%的抗粘连剂,所述的抗粘连剂采用无定型二氧化硅、石蜡、碳酸钙、锻烧硅石中的一种,所述的抗粘连层1的厚度为1.0μm~3μm,所述抗静电层2采用乙氧基化烷基胺制成,其厚度为0.1~0.15μm,所述防腐抗菌层3由防腐抗菌材料制成,所述防腐抗菌层3的厚度为0.5-1.0μm,通过防腐抗菌层3的设置很好的解决了薄膜的防腐抗菌性能差的问题,所述支撑层4采用等规聚丙烯制成,等规度为93~97.5%,所述的支撑层4的厚度为8~15μm,所述改性半消光层6采用消光料制成,消光料为聚乙烯-聚丙烯共混物、高密度聚乙烯、改性纳米二氧化硅、改性纳米二氧化钛的混合物,改性的纳米二氧化硅和纳米二氧化钛的可以在薄膜的表面形成微小突起,减少异物与薄膜表面的接触面积从而减少划痕,提高半消光膜的品质,改性半消光层6的厚度1.0~4.0μm。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

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