层积体的制作方法

文档序号:9475492阅读:406来源:国知局
层积体的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及具有微细凹凸结构的层积体和使用该层积体的防反射物品、影像装置 以及触摸屏。 本申请要求基于2013年5月21日在日本申请的特愿2013-106734号的优先权,在这 里引用其内容。
[0002] 在各种显示器、透镜、橱窗等与空气接触的界面(表面)存在由太阳光或照明等在 表面反射所引起的可视性下降这样的问题。作为用于减少反射的方法,已知如下的方法:层 积折射率不同的多层膜,使在膜表面的反射光与在膜与基材的界面的反射光通过干涉而消 除。这些膜通常是以溅射、蒸镀和涂布等方法来制造的。然而,这样的方法中,即使增加膜 的层积数,要降低反射率和反射率的波长依赖性,也存在界限。另外,为了消减制造成本而 减少层积数,需要具有更低折射率的材料。
[0003] 为了降低材料的折射率,用任一方法向材料中导入空气都是有效的,但作为使膜 表面的折射率下降的方法之一,例如,在膜表面上形成微细凹凸结构的方法是众所周知的。 根据这些方法,形成有微细凹凸结构的表面层整体的折射率取决于空气与形成微细凹凸结 构的材料之间的体积比,因而,能大幅降低折射率。其结果是,即使层积数少,也能降低折射 率。
[0004] 另外,提出了在玻璃基板上形成的防反射膜中,在整个膜上连续形成角锥状的凸 部的防反射膜(例如,参照专利文献2)。如专利文献2所记载,对于形成有角锥状的凸部 (微细凹凸结构)的防反射膜,由于在膜面方向上进行切断时的截面积连续变化,折射率从 空气侧朝向基板侧慢慢增大,因而,成为有效的防反射手段。此外,该防反射膜显示出不能 被其它方法所取代的优良光学性能。
[0005] 对于由如上所述的微细凹凸结构所构成的防反射膜,优选在外观上具有均匀厚 度。作为呈现均匀厚度的方法,已知的是在形成表层的组合物中添加颗粒而赋予触变性的 方法(例如,参照专利文献1)。
[0006] 作为赋予耐擦伤性的方法,提出了具有以下特征的层积体(参照专利文献2): 微细突起是等效球直径为10~50nm的颗粒和组合物构成的同时,以重量比计算,所述 颗粒的添加量为20~60%。 现有技术文献 专利文献
[0007] 专利文献1 :日本专利特表2001-520683号公报 专利文献2 :日本专利特开2009-20355号公报

【发明内容】
发明要解决的问题
[0008] 如专利文献1和2所记载,在形成表层的组合物中添加平均粒径为50nm以下的 颗粒,能得到具有均匀膜厚的层积体,但存在颗粒进入微细凹凸结构的凸部而变得硬脆,因 此,耐擦伤性下降的情况。 本发明的课题在于得到表层具有均匀膜厚且耐擦伤性优良的层积体。 解决问题的手段
[0009] 本发明的一实施方式涉及一种层积体,其特征在于,所述层积体设有表层,所述表 层具有形成了微细凹凸结构的表面;所述表层是活性能量射线固化性组合物的固化物;所 述活性能量射线固化性组合物含有平均粒径为微细凹凸结构的相邻凸部间的间隔的80% 以上的颗粒。
[0010] 本发明的一形式为设有所述层积体的防反射物品。
[0011] 本发明的一形式为设有所述层积体的图像显示装置(也称为影像装置)。
[0012] 本发明的一形式为设有所述层积体的触摸屏。
[0013] 也就是说,本发明涉及以下方面。
[1] 一种层积体,其包含基材和层积于所述基材上的表层; 所述表层中,在与所述基材侧相反一侧的表面形成有微细凹凸结构; 所述表层是使活性能量射线固化性组合物固化而得的固化物; 所述活性能量射线固化性组合物是含有以下颗粒的活性能量射线固化性组合物: 当将所述微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔设为100%时,颗粒的平均粒径为所 述平均间隔的80%以上。
[2] 如[1]记载的层积体,其中,当将所述微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔设为 100%时,所述平均粒径为所述平均间隔的100~1200%。
[3] 如[1]记载的层积体,其中,所述微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔为25nm以 上、400nm以下。
[4] 如[1]记载的层积体,其中,所述平均粒径为80~2200nm,所述相邻凸部间的平均 间隔为100~250nm。
[5] 如[1]~[4]记载的层积体,其中,所述颗粒为选自由二氧化硅(Si02)、二氧化钛 (TiO2)以及聚合物构成的群中的至少一种;所述聚合物包含选自由甲基丙烯酸甲酯和苯乙 烯构成的群中的至少一种。
[6] 如[1]~[4]记载的层积体,其中,所述微细凹凸结构的凸部形状具有以下结构: 从所述微细凹凸结构的凸部顶端部一侧朝向基材一侧,在垂直于所述层积体高度方向 的方向上切断所述微细凹凸结构的凸部时,其截面积占有率连续增大。
[7] 如[1]~[6]记载的层积体,其中,相对于所述活性能量射线固化性组合物100质 量份,所述颗粒的含量为1~70质量份。
[8] 如[1]~[7]记载的层积体,其中,当将所述活性能量射线固化性组合物的聚合性 成分的合计量设为100质量份时,所述活性能量射线固化性组合物中,3官能团以上的多官 能团(甲基)丙烯酸酯的含量为10质量份以上、60质量份以下,双官能团(甲基)丙烯酸 酯的含量为40质量份以上、90质量份以下。
[9] 一种防反射物品,其包含[1]记载的层积体。
[10] -种影像装置,其包含[1]记载的层积体。
[11] 一种触摸屏,其包含[1]记载的层积体。 发明效果
[0014] 根据本发明,可提供一种表层具有均匀膜厚的层积体。另外,根据本发明,还可得 到相对于布等摩擦的耐擦伤性优良的层积体。
【附图说明】
[0015] 图1是显示作为本发明一实施方式的层积体的构成的一例示意截面图。 图2是显示作为本发明一实施方式的层积体的构成的一例示意截面图。 图3是显示作为本发明一实施方式的包含层积体的防反射物品的一例示意图。 图4是显示作为本发明一实施方式的包含层积体的影像装置的一例示意图。 图5是显示作为本发明一实施方式的包含层积体的触摸屏的一例示意图。 符号说明 10 :层积体 11 :基材 12 :表层 13 :凸部 14 :凹部 15 :透明粘合层 16 :透明玻璃体 17 :影像显示构件 18 :空隙部 19 :透明电极层积构件 20 :触摸屏构件 21 :支撑构件
【具体实施方式】
[0016] 以下,对本发明进行详细说明。 图1是显示作为本发明一实施方式的层积体10的构成的一例示意截面图。图1中,层 积体10具有以下结构:在具有光透过性的基材11上层积有表层12,其中,表层12是由使活 性能量射线固化性组合物固化而得的固化物所构成。层积体10中,在表层12的表面(即 表层12中,与接触基材11的面为相反侧的一面)上形成有微细凹凸结构。
[0017] 层积体10中,优选在表层12的整个表面形成有微细凹凸结构,但也可在表层12 的一部分表面上形成有微细凹凸结构。另外,层积体10具有膜形状时,可在基材11的两面 上层积形成有微细凹凸结构的表层。优选使用以自组织化形成微细凹凸结构的压模来形成 表层表面的微细凹凸结构。
[0018] 作为本发明一实施方式的层积体中,表层是由使活性能量射线固化性组合物固化 而得的固化物所构成;所述活性能量射线固化性组合物包含以下的颗粒:当将在所述表层 表面上形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔设为100%时,颗粒的平均粒径为该 平均间隔的80%以上、8000%以下。优选包含2000%以下的颗粒。通过包含所述颗粒,能 凭借所述颗粒的分子间相互作用而赋予触变性,能在基材上以均匀的膜厚涂布活性能量射 线固化性组合物,因此,在表层固化后,能得到具有均匀膜厚的层积体。另外,通过使所述活 性能量射线固化性组合物中所含颗粒的平均粒径在经固化所述活性能量射线固化性组合 物而形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的间隔的80%以上,能抑制所述颗粒侵入凸部,并 能抑制固化后的层积体耐擦伤性下降。 此外,此处所述的"具有均匀膜厚的层积体"中的"均匀膜厚"的意味着以下的膜厚:在 层积体的任意5处,测定表层厚度(即从形成于表层表面的微细凹凸结构的凸部顶点至表 层与基材的界面的垂直距离),测定的各值的偏差为1 μπι以下。 作为表层的膜厚,优选1~50 μ m,更优选2~10 μ m。当需要表面硬度时,优选不会产 生可挠性问题程度的厚度。当需要更高光学透过率而降低雾度(Haze值)时,优选变薄至 不损伤膜厚均匀性程度。 此处所述的"触变性"是指粘度随时间变化的性质,并且施加应力时粘度下降,而静止 时粘度增加而形成固体状的性质。
[0019] 作为本发明一实施方式的层积体中,作为由经固化活性能量射线固化性组合物而 得的固化物所构成的表层中所含颗粒,并没有特别限定,但适宜使用由二氧化硅(SiO2)或 二氧化钛(TiO2)构成的无机粒子、由以甲基丙烯酸甲酯或苯乙烯为原料的聚合物构成的有 机粒子等。 在得到优良光透过性方面,优选固化所述活性能量射线固化性组合物状态下的折射率 与颗粒的折射率相近,从该观点来看,适宜使用由二氧化硅(SiO2)构成的无机粒子或者以 甲基丙烯酸甲酯或苯乙烯为原料的聚合物构成的有机粒子等。
[0020] 作为本发明一
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