层积体的制作方法_5

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界面为止的垂直距离),并将各值偏差为1 μ m以下的情况记为A,偏差超过1 μ m 的情况记为B。
[0067] (耐擦伤性的测定) 在100g/cm2的压力下,以少彳卜''7彳(日本制纸夕bシ7公司制造)刮擦表层时,在 荧光灯下肉眼观察条纹状损伤的有无,确认无损伤时记为A,确认有损伤时记为B。
[0068] (透明性的测定) 使用~一文7 -夕一 NDH200 (日本电色公司制造),并按照JIS-K7136,测定以透明粘 合剂(OPTERIA M0-3006C,卩 y夕公司制造)将层积体粘贴于玻璃板S9112(松浪硝子 公司制造)的样品雾度(Haze值)。Haze值小于10%的情况记为A,Haze值为10%以上的 情况记为B。
[0069] (通过电子显微镜进行样品表面的观察) 使用扫描电子显微镜(日本电子公司制造,"JSM-7400F"),在加速电压3. OOkV的条件 下,观察压模和层积体的表面所形成的微细凹凸结构。另外,关于层积体的观察,在进行铂 蒸镀10分钟后进行观察。根据所得图像,测定相邻的凸部间的距离(间隔)和凸部的高度, 且各自分别测定10个点,求平均值。
[0070] 〈压模的制作〉 将电解研磨后的铝圆盘(纯度99. 99质量%、厚度2mm、作为铝基材使用。将 铝基材浸渍于调整至15°C的0. 3M草酸水溶液,通过反复进行直流稳定化装置的电源的开 关(0N/0FF),间歇地将电流通向铝基材,使铝基材阳极氧化。接着,每30秒施加80V的恒 压5秒,反复进行该操作60次,在所述铝基材上形成具有细孔的氧化膜。接下来,将形成有 氧化膜的铝基材在混合了 6质量%的磷酸和1. 8质量%的铬酸的70°C水溶液中浸渍6小 时,溶解除去氧化膜。将溶解除去所述氧化膜后的铝基材浸渍于调整至16°C的0.05M草酸 水溶液,用80V的电压实施5秒阳极氧化。接下来,将铝基材在调整至32°C的5质量%磷 酸水溶液中浸渍20分钟,实施扩大氧化膜细孔的孔径扩大处理。交替重复这样的阳极氧化 处理和孔径扩大处理。阳极氧化处理和孔径扩大处理分别进行5次。通过将得到的压模在 TDP_8(日光S力;''株式会社制造)的0. 1质量%水溶液中浸渍10分钟后,捞出并干燥 一晚,实施脱模处理。
[0071] 以电子显微镜观察所得的多孔氧化铝表面,其结果是,形成了由相邻凸部间的距 离(间隔)为180nm、深度为150nm的大致圆锥状的锥状凹部构成的微细凹凸结构。
[0072] 【实施例1】 〈层积体的制造〉 通过混合以下材料制备活性能量射线固化性组合物。
[0073] ?氧化乙烯改性二季戊四醇六丙烯酸酯("力亇7 7卜'' DPEA-12",一分子内的氧化 乙稀结构单元数η = 12,日本化药公司制造)50质量份 ? 7 口二V夕只Μ-260(商品名,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为 13) 50质量份 ? SO-El (商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径250nm,7 F Yy夕只公司制造)5质量份 ?彳;1/力' ? I 7 (IRGACURE) 184 (商品名,BASF公司制造)1质量份 ?彳;1/力' ? I 7 (IRGACURE) 819 (商品名,BASF公司制造)0· 5质量份 ? TDP_2(商品名,日光S力;''株式会社制造)0. 1质量份
[0074] 在压模上滴下数滴上述活性能量射线固化性组合物,以三醋酸纤维素膜 (FTTD80ULM(商品名),富士 7 4少Λ公司制造)边铺开边覆盖压模。接着,从膜侧以累积 光照射量lOOOmJ/cm2的能量照射紫外线,使活性能量射线固化性组合物光固化。得到如图 1所示的具有相邻凸部间的平均间隔wl为180nm、凸部的高度dl为150nm的微细凹凸结构 的层积体。
[0075] 〈评价〉 对于所得层积体,进行表层膜厚均匀性、耐擦伤性和透明性的各种评价。所得层积体的 表层膜厚均匀,并且耐擦伤性良好。结果如表1所示。
[0077] 表1中的简称如下所述。 SO-El :(商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径250nm,7卜'' Yy夕只公司制造) S0-E2 :(商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径500nm,7 K' Yy夕只公司制造) S0-E3 :(商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径lOOOnm,7卜'' Yy夕只公司制造) S0-E5 :(商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径1500nm,7卜'' Yy夕只公司制造) S0-E6 :(商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径2000nm,7卜'' Yy夕只公司制造) AER0SIL300 :(商品名,二氧化硅颗粒,平均粒径7nm,7工口'少公司制造) ST-41 :(商品名,二氧化钛颗粒,平均粒径200nm,石原产业公司制造) XX-119B :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径270nm,积水化成品工业公司制造) SSX-IOl :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径220nm,积水化成品工业公司制造) XX-109B :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径380nm,积水化成品工业公司制造) MBX-5 :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径1590nm,积水化成品工业公司制造) SSX-105 :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径450nm,积水化成品工业公司制造) SSX-110 :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径690nm,积水化成品工业公司制造) XX-115B :(商品名,聚合物颗粒,平均粒径270nm,积水化成品工业公司制造)
[0078] 【实施例2~14】 除了变更为表1所示的组成以外,其它如同实施例1,得到层积体。结果如表1所示。 实施例2~14所得的层积体中,表层膜厚均匀性和耐擦伤性良好。
[0079] 【比较例1~3】 除了变更为表1所示的组成以外,其它如同实施例1,得到层积体。结果如表1所示。 由于比较例1不含颗粒,因此,表层膜厚均匀性差。由于比较例2和3中的颗粒平均粒径小 于微细凹凸结构的相邻凸部间的间隔的80%,因此,颗粒侵入凸部而使耐擦伤性差。 产业上的利用可能性
[0080] 作为本发明一实施方式的层积体,能维持优良的光学性能并且外观良好、耐擦伤 性优良,因此,可作为电视、手机、便携式游戏机等各种显示屏、触摸屏、陈列橱、包装盖等利 用,在产业上极其有用。
【主权项】
1. 一种层积体,其包含基材和层积于所述基材上的表层; 所述表层中,在与所述基材侧相反一侧的表面形成有微细凹凸结构; 所述表层是使活性能量射线固化性组合物固化而得的固化物;所述活性能量射线固化 性组合物是含有以下颗粒的活性能量射线固化性组合物: 当将所述微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔设为100%时,颗粒的平均粒径为所 述平均间隔的80%以上。2. 如权利要求1记载的层积体,其中,当将所述微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间 隔设为100%时,所述平均粒径为所述平均间隔的100~1200%。3. 如权利要求1记载的层积体,其中,所述微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔为 25nm以上、400nm以下。4. 如权利要求1记载的层积体,其中,所述平均粒径为80~2200nm,所述相邻凸部间 的平均间隔为100~250nm。5. 如权利要求1~4中的任一项记载的层积体,其中,所述颗粒为选自由二氧化硅 SiO2、二氧化钛TiO2W及聚合物构成的群中的至少一种;所述聚合物包含选自由甲基丙烯 酸甲酯和苯乙烯构成的群中的至少一种。6. 如权利要求1~4中的任一项记载的层积体,其中,所述微细凹凸结构的凸部形状具 有以下结构: 从所述微细凹凸结构的凸部的顶端部一侧朝向基材一侧,在垂直于所述层积体高度方 向的方向上切断所述微细凹凸结构的凸部时,其截面积的占有率连续增大。7. 如权利要求1~6中的任一项记载的层积体,其中,相对于所述活性能量射线固化性 组合物100质量份,所述颗粒的含量为1~70质量份。8. 如权利要求1~7中的任一项记载的层积体,其中,当将所述活性能量射线固化性 组合物的聚合性成分的合计量设为100质量份时,所述活性能量射线固化性组合物中,3官 能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯的含量为10质量份以上、60质量份以下,双官能团 (甲基)丙烯酸酯的含量为40质量份以上、90质量份以下。9. 一种防反射物品,其包含权利要求1记载的层积体。10. -种影像装置,其包含权利要求1记载的层积体。11. 一种触摸屏,其包含权利要求1记载的层积体。
【专利摘要】本发明涉及一种层积体,其包含基材和层积于该基材上的表层;该表层中,在与该基材侧相反一侧的表面形成有微细凹凸结构;该表层是使活性能量射线固化性组合物固化而得的固化物;该活性能量射线固化性组合物是含有以下颗粒的活性能量射线固化性组合物:当将该微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔设为100%时,颗粒的平均粒径为该间隔的80%以上。
【IPC分类】G02B1/11, B32B3/30, B32B27/20
【公开号】CN105228819
【申请号】CN201480029340
【发明人】藤山恒祐, 地纸哲哉, 中井祐介, 守诚一朗, 大谷刚
【申请人】三菱丽阳株式会社
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2014年5月21日
【公告号】US20160116642, WO2014189075A1
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