低整个机架轮32和喷嘴设备，从而移动轮的等中心点来匹配目 标治疗区域的中心，以补偿轮的松垂。应当理解，在本说明书中向上和向下是相对术语，凸 轮从动件34可以调节以从机架轮32的直径进一步延伸，从而当这些特定凸轮从动件34接 触支承表面33时使机架轮32从支承表面33进一步升高。同样，凸轮从动件34可以调节 以定位成更靠近机架轮32的直径，从而当这些特定凸轮从动件34接触支承表面33时使机 架轮32降低而更靠近支承表面33。因为当轮转动时肿瘤的中心不会移动，所以实现了在每 个角度位置处相对于肿瘤中心调节轮（和附接的束喷嘴）的中心，以补偿每个位置处的轮 的松垂。
[0071] 要注意的是，在图3的底部右侧，为了方便进行图示，仅仅一个支承件34(即中间 支承件34)示出为处于调节位置。然而，在实施过程中，要注意的是，每个支承件34都可以 进行调节而进入与支承表面33接触的接触位置，使得当轮转动到任何特定角度时，被带到 与支承表面33交接的对应支承件34将靠着轮32的外径而起作用，以便在每个角度位置处 将质子束与等中心点对准。例如，在图3所示的示例性实施例中，具有二十四个支承件，这 些支承件沿着轮32的外径以15度的间距间隔开，支承表面33覆盖轮32的大约60度。因 此，在该实施例中，任一时刻最多五个支承件34接触支承表面33。然而，本领域技术人员应 当理解，本发明一般性构思并不限于任何特定数量的支承件34或任何特定长度的支承表 面33。在不脱离本发明一般性构思的较宽范围和内容的情况下，可以采用为各种角度间距 的更多的或更少的支承件34,并且可以采用更长的或更短的支承表面33。例如，某些实施 例可以采用以6度的角度间隔开的六十个支承件34,并且支承表面34的尺寸可以形成为在 任一时刻容纳四个支承件34。
[0072] 本发明一般性构思的实施例的一个优点在于，能够补偿整体机架系统的固有挠曲 和制造公差，以保持系统的精确度，并且改善患者护理，同时降低制造成本，缩短设备的构 建和试运行时间。
[0073] 图4为根据本发明一般性构思的另一个示例性实施例构造的偏心机架轮的示意 图。在该实施例中，凸轮从动件是颠倒的，安装在支承表面上，在轮上具有可调节表面或偏 心表面。例如，一组支承件44可以固定到支承表面33,并且机架轮42可以制成为是偏心 的，使得机架轮42的外接触表面能够抵靠固定的支承件44。当机架轮42在各角度位置之 间转动时，抵靠支承表面33接合的机架轮42的偏心形式用来移动轮的等中心点，以匹配目 标患者区域的静止中心，从而补偿在机架轮42的多个角度位置处出现的高和低的挠曲。
[0074] 例如，参考图4,当偏心机架轮42处于9点钟位置时，偏心机架轮42的构造（该构 造在这个图中是沿竖向伸长的）使机架轮42相对于支承表面33升高，以补偿轮的较大挠 曲，结果质子束30b保持与肿瘤的中心对准。
[0075] 图5为根据本发明一般性构思的示例性实施例构造的具有偏心机加工边缘50的 圆形机架轮32的示意图。该实施例示出了校准过程，在该校准过程中，如上所述，当轮32 转过每个角度位置时，凸轮从动件34用来在束线和肿瘤中心之间形成同心度。除了现场操 作之外，在制造过程期间可以采用这种装置，以利用凸轮从动件34校准轮转动，然后在轮 转动时利用静止机加工工具加工同心基准边缘50。然后，自身将是偏心形状的基准边缘50 可以用来使得固定的支承件能够现场自修正轮挠曲，而不必现场使用如上所述的多个凸轮 从动支承件。因此，除了现场使用之外，可调节的凸轮从动件构思可以用于制造过程以形成 同心转动，然后机加工步骤可以用来形成同心基准表面，以用于固定的凸轮在该同心基准 表面上运行，从而有效地形成自修正表面。这样，利用凸轮从动件来校准轮也可以是用于制 造偏心基准表面的构建过程。
[0076] 图6A和6B示出了根据本发明一般性构思的示例性实施例构造的机架调节系统。 参考图6A，可以采用致动的凸轮从动件64,或者支架自身可以被致动，以修正同心度不对 准。因此，本发明一般性构思想到当轮从一个角度位置转动到另一个角度位置时利用凸轮 从动件64或支架自身使轮向上和向下运动（这视情况而定）而进行主动修正。
[0077] 图6B示出了代替凸轮从动件34使机架轮32沿径向方向运动或者除了凸轮从动 件34使机架轮32沿径向方向运动之外，凸轮从动件66还可以用来使机架轮32沿z轴运 动，以补偿沿z轴的不对准。凸轮从动件66中的能够用来使机架轮32沿z轴运动（相对于 由凸轮从动件34执行的径向运动）的一个或多个凸轮从动件可以与支承表面67接触，并 且能够以与凸轮从动件34类似的方式进行调节。能够与一个或多个凸轮从动件66接触的 支承表面67可以是固定的，或者也可以进行调节，以帮助机架轮32沿相关的z轴的运动。
[0078] 在操作中，本发明一般性构思的实施例可以提供可调节的多点接触支承件，以便 喷嘴、机架和治疗区域能够具有在大约〇· Imm内的精确同心度。可以去除高达大约5mm的 喷嘴和机架挠曲，但是本发明一般性构思并不限于任何特定的精确度或调节范围或程度。
[0079] 通过凸轮从动件的精确运动可以实现多点调节。还可以通过集成提升装置以在支 承件进行调节时精确地定位机架轮，来促进多点调节。
[0080] 机架可以包括对准和框标标记，以有助于磁体相对于彼此和相对于机架的对准。 例如，在工厂中，磁场可以与机架装置对准，然后框标标记可以设置在机架和磁体上，使得 当轮挠曲时，利用激光的三角形划分技术可以用来拾取标记的位置，以确定要进行什么样 的修正来保持对准。
[0081] 在机架制造商的工厂进行初始组装之后，对设计到凸轮和支架构思中的等中心点 调节特征的构思验证进行测试。在组装期间，机架的原位置是9点钟位置（-90度）。在 11-7点钟转动位置（-170至40度）之间针对使等中心点对准来进行测试。经由调节块以 及抵靠凸轮板的完全静止的量块，来设定其它凸轮板。测试的目的在于确定：凸轮从动件构 思作为被动等中心点调节系统是否是可行的；凸轮从动件噪声的粗略评估；凸轮从动件振 动的粗略评估；以及凸轮从动件对准程序的粗略评估。期望的结果是，将等中心点对准到 +0. 5mm，并且获得360度等中心点数据。测试装置包括：没有喷嘴的机架、附接到磁体框架 上的喷嘴安装座上的主动目标托架、API主动目标、以及API激光器。测试结果中是有关等 中心点偏移、振动和对准程序的数据。
[0082] 关于等中心点偏移，在调节的凸轮和量块测试的凸轮之间存在显著的差异。调节 的凸轮通常导致0.5mm(最大LOmm)的偏移，而量块凸轮通常为LOmm(最大2. Omm)的偏 移。该测试仅仅聚焦于等中心点的y轴对准。因此，dy偏移范围达~0.4_。该偏移范围 与分别达~Imm和~I. 2mm的dx和dz偏移范围相比是较低的。对准的凸轮沿着y轴的等 中心点变化为量块型的14%，而沿X轴和z轴的分别为50%和43%。所得的调节的凸轮的 等中心点偏移为量块类型的37%。关于振动结果，支架滚道与凸轮的干涉产生小的振动。 没有进行分贝记录，但是噪声整体上是安静的。在凸轮接触时能够听到低频振动。关于对 准程序结果，凸轮的对准花费了一些时间。在三天内在+0. 5mm下完成了 22个凸轮，在10 天内将第一基准放置在+〇. 5mm下的72个凸轮处。提升机构、密封空间和反复循环显著占 用了时间。
[0083] 这些结果的结论是：凸轮的初步调节证实，+0. 5mm的等中心点偏移是可行的。一 种复杂情况可能来自于X轴偏移。在系统进行测试的情况下，修正要考虑X轴和y轴两者。 因此，在给定位置处，由于在其它转动位置处对X轴的影响，而使得y轴不能够设定为0. 0。 这种影响将在之后的试验中进一步检查。
[0084] 重新参考图3和6B，在本发明一般性构思的多种示例性实施例中，本发明的机架 设计可以包括消色差透镜68,其可以仅仅安装在机架轮32的一侧上。因此，当技术人员在 平台地板12 (图1)上行走时，该技术人员已经能够触及磁体以进行服务或更换。该设计还 允许将消色差透镜和软管从束线和冷却系统快速释放，以简化磁体的更换和/或服务。