用于采用电子轰击处理物品的设备的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及用于通过辐射处理用品的装置，尤其涉及通过电子轰击处理用品的装置。
【背景技术】
[0002]已知通过使容器受到电子轰击来消毒容器。
[0003]这种电子轰击在屏蔽室中进行，所述屏蔽室设法将X-射线限制在与操作者隔开的区域中。
[0004]为此，用于通过电子轰击处理容器的装置包括:其上安装有容器传送设备的结构，所述设备的一部分被容纳于屏蔽室中，在一个或多个辐射发射器附近。所述室具有形成传送设备的通道的入口和出口。
[0005]为了将发射机所发射的X-射线的能量衰减并且阻止它们自屏蔽室逸出，已知将屏蔽的内部隔墙排列于室中，其中所述屏蔽的内部隔墙被排列称为屏蔽室的入口和出口之间的挡板。术语“挡板”用来意指内部隔墙被排列为阻止X-射线具有从发射机到入口或到出口的直接路径。因此，在发射机的环境内产生的X-射线在屏蔽室的壁以及屏蔽的内部隔墙的壁上多次反射，反射次数足以使所述X-射线在到达屏蔽室的入口或出口之前丢失基本上其全部能量。
[0006]安装内部隔墙使利用中间级容器传送设备使容器能穿过多个挡板成为必要。
[0007]尽管操作者被这种装置很好地保护，但是挡板的存在是非常有制约性的。该装置存在占用了大的楼面面积即“占地面积”，这尤其是因为存在其尺寸对装置的占地面积具有直接影响的中间级传送设备。
[0008]本发明的一个目的在于提供了保护处于用于通过辐射处理用品的装置附近的操作者而同时限制装置尺寸的装置。
[0009]为此，本发明提供了用于通过辐射处理用品的装置，所述装置包括其上安装有用品传送设备的结构，所述设备的一部分被容纳于屏蔽室中、在至少一个辐射发射器附近。所述室包括限定挡板通道的至少一条隧道，所述传送设备的一段延伸通过所述挡板通道，且所述挡板通道在基本竖直的平面中延伸。
[0010]因此，竖直排列挡板使得确保室是防辐射的，同时限制装置的占地面积成为可能。应当观察到，用品通过被传送设备运送而进出所述室。当应用于容器时，这使得将处理站安装于封装装置中同时使其能以相对高吞吐率(与从中批量移除容器的处理装置相对，批量移除使得布置屏蔽更容易但在被安装于封装装置中时限制生产吞吐量)进行操作更为容易Ο
[0011]优选的是，挡板通道由横向延伸、突出至隧道中的多个壁限定以限定在高度上相互偏移的连续开孔。
[0012]例如，这在两个底部开孔之间产生了一个顶部开孔，或者反之亦然。这类实施例使得将传送设备安装于隧道中而同时限制隧道的长度更为容易。
[0013]本发明还提供了用于将物质封装于容器中的封装装置，所述封装装置包括通过在所述至少一个隧道中延伸的传送设备的多个段连接至上游站和下游站的处理装置。
[0014]上游站可以例如是用于清洁容器的站，且下游站可以例如是用于填充容器的站。
[0015]本发明的其它特征和优点在阅读以下对本发明的特别的非限制性实施例的描述后显而易见。
[0016]参照唯一附图，该附图是示出根据本发明的装置的一部分的示意图。
[0017]参照该附图，该例中跟本发明的处理装置被布置为通过使容器受到电子轰击来消毒容器。
[0018]本发明的装置位于生产线中，例如，在用于吹塑瓶容器的站的下游以及在用于填充所述容器的站的上游。
[0019]所述装置包括结构1，所述结构1上安装有用于传送容器100的设备(给予该设备一整体标记10)。
[0020]传送设备1的一部分被容纳于屏蔽室2中，位于室2内部包含的福射发射器3附近。该例中的福射发射器3执行电子轰击。
[0021]所述室具有进出隧道40，所述进出隧道40具有跨隧道40延伸的屏蔽的内部隔墙以便限定如整体标记50所示的挡板通道，所述传送设备10的一段延伸通过所述挡板通道。
[0022]更准确地说，第一隔墙51在第二隔墙52和第三隔墙53之间，自隧道40的底面41向隧道40的顶面42延伸，第二隔墙52和第三隔墙53两者都自顶面42向底面41延伸。隔墙51、52和53彼此基本平行。第一隔墙51具有顶边缘55，顶边缘55与顶面42合作以限定第一开孔61。第二隔墙52和第三隔墙53具有相应的底边缘56和57，底边缘56和57与底面41合作以限定相应的第二开孔62和第三开孔63。第一隔墙51的顶边缘55在第二隔墙52和第三隔墙53的底边缘56、57的上方延伸。隔墙51、52和53彼此间隔开，并且因此它们被布置成防止X-射线从辐射发射器3直接通到室2的外部。结果，隔墙51、52和53被布置成使通道50在基本竖直的平面(附图中该图的平面)中延伸。
[0023]在该例中，隧道具有在其距室2最远的一端跨隧道40延伸的第四屏蔽隔墙54。第四隔墙54延伸自底面41，且其顶边缘58在第二隔墙52的底边缘56下方延伸。第四隔墙54加强了室2的辐射防护，并且与第二隔墙52合作以限定隧道40的入口开孔/出口开孔。
[0024]术语“屏蔽”用于意指壁或隔墙能防护电子和X-射线。因此，屏蔽的壁或隔墙具有覆盖于不锈钢薄层中的导线层。
[0025]在该例中，传送设备10具有可旋转地安装于结构1上的常规的传送星(transportstar) 11、12、13和14，且它们连接至用于驱动它们旋转的设备(未示出)。传送星11、12、13和14彼此正切，且它们中的每一个都设有用于夹持容器的装置，诸如用于在颈部夹持容器的夹具。
[0026]传送星11位于第四隔墙54和第二隔墙52之间。它致力于将容器100引入隧道40或将容器100排出隧道40。传送星11与至少一个容器传送设备(未示出)正切，所述至少一个容器传送设备被布置成装载和卸载传送星11。
[0027]传送星12安装在第一隔墙51附近，并且设有使容器在第一隔墙51的顶边缘55上方倾斜的装置。传送星具有在顶边缘55上方且跨顶边缘55在第二隔墙52和第三隔墙53之间延伸的平台。容器夹持夹具安装于传送星12的平台上以便在以竖直位置持有容器的位置和以水平位置持有容器的位置之间绕相应的水平轴枢转，从而使容器能够在处于基本水平位置的同时被传递通过顶边缘55，并且使容器在处于竖直位置时既与传送星11交换、又与位于第三隔墙53附近的传送星13交换。
[0028]传送星13和14的旋转轴在第三隔墙53的远离第二隔墙52的一侧上。传送星13的平台跨底边缘57并且在底边缘57下方延伸。传送星13与辐射发射器3相邻。
[0029]传送星11、13和14的平台处在相同水平。当传送星12的夹持夹具处于它们以竖直位置持有容器的位置时，传送星12的夹持夹具与传送星11、13和14的平台也处于相同水平。
[0030]这些星本身是已知的，因此在此不详细描述。
[0031]自然，本发明不限于所述实施例，而是覆盖了落在由权利要求书所定义的本发明的范围内的任何变体。
[0032]特别是，传送设备可以具有传送星、线性运送机、或者能传送容器的任何其他设备。
[0033]该装置可具有某个其它数量的传送星。
[0034]这些隔墙的排列可以不同于所示排列。更准确地说，第一隔墙可以在第二隔墙和第三隔墙之间，自隧道40的顶面42向隧道40的底面41延伸，其中第二隔墙和第三隔墙两者都自底面41向顶面42延伸。于是，第一位置会具有一底边缘，所述底边缘与底面41合作用于限定第一开孔。第二隔墙和第三隔墙于是会具有相应的顶边缘，所述相应的顶边缘与顶面42合作分别用于限定第二开孔和第三开孔。第一隔墙的底边缘于是会比第二隔墙和第三隔墙的顶边缘更低地延伸。隧道也会由以锯齿形配置延伸的顶壁和底壁限定，以便限定竖直的隔板通道。然而，这一排列会比以上所述的排列制造起来更为复杂。
[0035]装置也可以包括入口隧道和出口隧道，或者它可以具有既充当装置入口也充当装置出口的单个隧道。
[0036]装置会具有由星14承载的发射器以及/或者静止的一个或多个发射器，或者它可以仅具有一个或多个静止发射器，或者它可以仅具有由星14承载的发射器。
[0037]星可具有与所述结构不同的结构，特别是关于它们如何夹持容器。
[0038]本发明可应用于除容器以外的用品以及/或者应用于其他类型的辐射。
【主权项】
1.用于通过辐射来处理用品的装置，所述装置包括其上安装有用品传送设备(10)的结构(1)，所述用品传送设备(10)的一部分容纳于屏蔽室(2)中、位于至少一个辐射发射器(3)附近，所述装置的特征在于所述室具有限定隔板通道(50)的至少一个隧道(40)，所述传送设备的一段延伸通过所述隔板通道，且所述隔板通道在基本竖直的平面中延伸。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述隔板通道由横向延伸、突出到隧道中的多个壁限定，以便限定在高度上彼此偏移的连续开孔。3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，第一隔板(51)在第二隔板(52)和第三隔板(53)之间自所述隧道(40)的底面(41)朝向所述隧道的顶面(42)延伸，所述第二隔板和所述第三隔板自所述顶面朝向所述底面延伸，所述第一隔板具有顶边缘(55)，所述顶边缘(55)与所述顶面合作以限定第一开孔(61)，所述第二隔墙和所述第三隔墙具有底边缘(56，57)，所述底边缘(56，57)与所述底面合作以限定相应的第二开孔￠2)和第三开孔(63)，所述第一隔板的顶边缘高于所述第二隔板和所述第三隔板的底边缘。4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述隧道(40)具有在其距所述室(2)最远的一端相对于所述隧道(40)横向延伸的屏蔽的第四隔板(54)，所述第四隔板(54)自所述底面(41)延伸且其顶边缘(58)在所述第二隔板(52)的底边缘(56)下方延伸。5.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述传送设备具有安装在所述第一隔板附近并且设有用于使所述用品在所述第一隔板的顶边缘上方倾斜的装置的旋转星。6.用于将物质封装于容器中的封装装置，所述封装装置包括根据前述权利要求的任一项的处理装置，所述处理装置通过在所述至少一个隧道中延伸的所述传送设备的分段连接至上游站以及下游站。
【专利摘要】本发明涉及用于采用辐射处理物品的设备，包括其上安装有物品传送设备(10)的框架，物品传送设备(10)的一部分容纳于有防御的腔室(2)中、位于至少一个辐射发射器(3)附近。腔室包括隧道(40)，所述隧道(40)包括限定锯齿形通道(50)的内部横向隔墙(51，52，53，54)，所述传送设备的一部分延伸至所述锯齿形通道中。所述隔墙被排列以使锯齿形通道沿着基本竖直的平面延伸。本申请还公开了用于将材料封装于容器中的设备，其包括这种处理设备。
【IPC分类】A61L2/08
【公开号】CN105263530
【申请号】CN201480031810
【发明人】N·捷斯罗特
【申请人】西拉克集团公司
【公开日】2016年1月20日
【申请日】2014年5月30日
【公告号】EP3003405A1, US20150034839, WO2014195240A1