专利名称：硅片清洗槽水位控制装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种水位测试装置，尤其涉及光伏电池生产全自动硅片清洗机溶 液槽的水位监测装置。
技术背景随着太阳能光伏产业技术的不断提升，对于太阳能产品的质量以及成本提出了新 的要求。而制作太阳能电池的原料为硅料，硅料拉制成硅棒，硅片是由硅棒通过多线切割机 切割制备而成的，切好的硅片，表面附着砂浆等杂质并且表面凹凸不平，因此在制造电池之 前要先进行硅片的表面处理，包括硅片的化学清洗和硅片的表面腐蚀。化学清洗是为了除 去硅片上的各种杂质，表面腐蚀的目的是除去硅片表面的切割损伤，获得适合制结要求的 硅表面。制结前硅片表面的性能和状态，直接影响结的特性，从而影响成品电池的性能。硅 片经过表面处理后即开始制绒，制绒工艺是整个工艺生产线中最为重要的一环，其目的是 通过化学腐蚀的方法在硅片表面进行织构化处理，形成良好的陷光效应，降低硅片表面发 射率。目前通用的生产工艺是采用槽式制绒，在较高的温度环境中用KOH或者NaOH溶液进 行各向异性腐蚀，在硅片表面腐蚀出类似于金字塔结构的角锥体，来实现入射光的多次反 射，降低表面反射率。而槽内腐蚀液的均勻性和温度场的均勻性就决定了大批量工业化生 产的稳定性。目前采用的溶液配制是向清洗槽中通入热水与酸或碱混合，热水在独立的水槽中 加热并加入清洗槽，清洗槽消耗热水，因此清洗槽中必须不断加水才能满足需要，在添加纯 水进入清洗槽时，打开阀门，使纯水通过一根纯水管道直接进入槽体中，待水位达到所需水 位时，关闭阀门，停止加入纯水。传统的清洗机中，操作人员需要在槽体内壁使用记号笔画上记号，以标记所需水 位的高低，如图1所示，原硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽1、进水阀2、最低水位标 记A和最高水位标记B，进水阀2向清洗槽1中加水，最低水位标记A和最高水位标记B设 置在清洗槽1的内壁上，当清洗槽1的水位低于最低水位标记A时，操作者必须打开进水阀 2，反之当清洗槽1的水位高于最高水位标记B时，操作者必须关闭进水阀2。在实际操作过 程中，由于操作者是站着从清洗槽1的上口向清洗槽1的内壁观察最低水位标记A和最高 水位标记B的，操作者的观测视角与身高有关，不同的操作者会产生不同视角误差，从而影 响清洗槽1中水位的准确性，使得清洗质量波动增大
实用新型内容
为了克服以上不足之处，本实用新型提供了一种硅片清洗槽水位控制装置，它能 对清洗槽的水位进行准确的控制，避免了因视觉误差造成的水位控制不准的问题。本实用新型所采用的技术方案是一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽和进水阀，其特征是它还包括透明 观察管，透明观察管的底部与清洗槽的底部相通连，透明观察管的高度与清洗槽的高度一
3[0008]进一步，它还包括低位光电开关、高位光电开关和控制进水阀的电磁换向阀，最高 水位标记和最低水位标记设置在透明观察管上，低位光电开关对应透明观察管上的最低水 位标记，高位光电开关对应透明观察管上的最高水位标记，电磁换向阀分别与低位光电开 关和高位光电开关电连接。由于在清洗槽外增加了一个透明观察管，透明观察管上设有最高水位标记和最低 水位标记，操作者根据这两个标记，可以准确控制进水阀，使清洗槽内的水位始终处于最高 水位标记和最低水位标记之间。当采用人工观察最高水位标记和最低水位标记控制进水阀 时，操作者不会产生视觉误差，从而影响清洗槽内水位的准确性。当采用光电开关监控透 明观察管上的最高水位标记和最低水位标记时，光电开关监控可将获得的电信号发给电磁 阀，控制进水阀的开关，从而自动控制清洗槽内水位，无需操作者用肉眼观察，有效避免因 视觉误差造成的水位控制不准的问题。
图1为原清洗机水位控制装置的示意图；图2为本实用新型的一种实施例，肉眼观察手工进水补偿；图3为本实用新型的另一种实施例，光电监控自动进水补偿。图中1-清洗槽；2-进水阀；3-透明观察管；4-低位光电开关；5-高位光电开关； 6-电磁换向阀；A-最低水位标记；B-最高水位标记。
具体实施方式
以下结合附图说明本实用新型的具体实施方案实施例1 一种硅片清洗槽水位控制装置，如图2所示，它是一种依靠操作者肉眼 观察手工进水补偿的控制装置，它包括清洗槽1、进水阀2和透明观察管3，透明观察管3的 底部与清洗槽1的底部相通连，透明观察管3的高度与清洗槽1的高度一致，在透明观察管 3上设有最高水位标记B和最低水位标记A，由于透明观察管3中水位与清洗槽1相同，当 操作者发现水位低于最低水位标记A时，必须立即打开进水阀2向清洗槽1中放水，当水位 到达最高水位标记B时，操作者立即关闭进水阀2。实施例2 —种硅片清洗槽水位控制装置，如图3所示，它是一种光电监控自动进 水补偿的控制装置，它包括清洗槽1、进水阀2、透明观察管3、低位光电开关4、高位光电开 关5和电磁换向阀6，透明观察管3的底部与清洗槽1的底部相通连，透明观察管3的高度 与清洗槽1的高度一致，在透明观察管3上标有最低水位标记A和最高水位标记B，低位光 电开关4对应最低水位标记A，高位光电开关5对应最高水位标记B，电磁换向阀6与低位 光电开关4和高位光电开关5电连接，当透明观察管3中的水位低于最低水位标记A时，低 位光电开关4就能监控到，并将检测到的电信号发给电磁换向阀6，使进水阀2打开向清洗 槽1中加水；当高位光电开关5监测到最高水位标记B有水时，电磁换向阀6则自动关闭进 水阀2，停止向清洗槽1内加水，从而能自动控制清洗槽1中的水位。
权利要求1.一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽(1)和进水阀0)，其特征是它还包 括透明观察管(3)，透明观察管(3)的底部与清洗槽(1)的底部相通连，透明观察管(3)的 高度与清洗槽(1)的高度一致。
2.根据权利要求1所述硅片清洗槽水位控制装置，其特征是它还包括低位光电开关 G)、高位光电开关( 和控制进水阀( 的电磁换向阀(6)，最高水位标记(B)和最低水位 标记(A)设置在透明观察管(3)上，低位光电开关(4)对应透明观察管C3)上的最低水位 标记(A)，高位光电开关( 对应透明观察管C3)上的最高水位标记(B)，电磁换向阀(6) 分别与低位光电开关⑷和高位光电开关(5)电连接。
专利摘要一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽、进水阀、透明观察管、低位光电开关、高位光电开关和电磁换向阀，透明观察管与清洗槽的底部相通连，透明观察管的高度与清洗槽的高度一致，在透明观察管上标有最低水位标记和最高水位标记，采用光电开关和电磁阀则能对清洗槽的水位进行自动监控和补液。透明观察管的增设提高了人们观察精度，确保清洗槽内的水位始终符合清洗工艺要求。若配备了光电开关，光电开关可以自动感知透明观察管中的实际水位，然后由电磁阀来控制进水阀向清洗槽内加水。
文档编号B08B3/00GK201859354SQ20102054655
公开日2011年6月8日 申请日期2010年9月29日 优先权日2010年9月29日
发明者何垚, 屈莹, 梁雪美, 郝子龙 申请人:常州亿晶光电科技有限公司