专利名称：一种显影去膜槽用酸性洗槽剂的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种显影去膜槽用酸性洗槽剂。
背景技术：
PCB的内层制作流程包括裁板、前处理、涂布、曝光、显影、蚀刻、去膜等步骤，现有 技术中，碳酸钠、碳酸钾广泛用于干膜绿漆显影去膜过程，由于槽液中含有大量的碳酸根离 子，当其和水中的钙镁离子结合时，便会生成沉淀，随着设备使用时间的延长，又不及时清 槽时，大量的沉淀附着于槽壁等易结垢的地方，堵塞在管路与喷嘴中，影响设备正常工作甚 至降低设备的寿命，然而，现有洗槽剂的清洗效果并不理想。
发明内容
本发明的目的是提供一种显影去膜槽用酸性洗槽剂。本发明所采取的技术方案是
一种显影去膜槽用酸性洗槽剂，其包括以下质量百分比的原料20-35%的盐酸、 10-20%的磷酸三钠、2-7%的PMA、5-15%的柠檬酸。其包括以下质量百分比的原料25-32%的盐酸、12-18%的磷酸三钠、3_6%的PMA、 8-12%的柠檬酸。所述的磷酸三钠为无水级磷酸三钠。所述盐酸的浓度为37%。本发明的有益效果是本发明所提供的洗槽剂清洗效果好，能有效清除附着在槽 壁上、管路以及喷嘴等处的附着物。
图1是未经清洗的主槽内的滚轮的实物图。图2是使用本发明的洗槽剂清洗后滚轮的实物图。图3为未经清洗的滤网实物图。图4为经过本发明的洗槽剂清洗后的滤网实物图。
具体实施例方式下面结合具体实施例来说明本发明的配方 实施例1
本发明的显影去膜槽用酸性洗槽剂的配方组成如下表1 表1 显影去膜槽用酸性洗槽剂的原料组成
权利要求
1.一种显影去膜槽用酸性洗槽剂，其特征在于其包括以下质量百分比的原料: 20-35%的盐酸、10-20%的磷酸三钠、2-7%的PMA、5_15%的柠檬酸。
2.根据权利要求1所述的一种显影去膜槽用酸性洗槽剂，其特征在于其包括以下质 量百分比的原料25-32%的盐酸、12-18%的磷酸三钠、3_6%的PMA、8-U%的柠檬酸。
3.根据权利要求1所述的一种显影去膜槽用酸性洗槽剂，其特征在于所述的磷酸三 钠为无水级磷酸三钠。
4.根据权利要求1所述的一种显影去膜槽用酸性洗槽剂，其特征在于所述盐酸的浓 度为37%。
全文摘要
本发明公开了一种显影去膜槽用酸性洗槽剂，其包括以下质量百分比的原料20-35%的盐酸、10-20%的磷酸三钠、2-7%的PMA、5-15%的柠檬酸。本发明所提供的洗槽剂清洗效果好，能有效清除附着在槽壁上、管路以及喷嘴中的附着物。
文档编号C11D7/10GK102127492SQ20111008038
公开日2011年7月20日 申请日期2011年3月31日 优先权日2011年3月31日
发明者胡先萍 申请人:珠海顺泽电子实业有限公司