蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法
【专利摘要】本发明公开了一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法，该喷淋处理设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋处理液。通过上述方式，本发明能够提升处理液处理基材的均匀性。
【专利说明】蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及喷淋处理【技术领域】，特别是涉及一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法。
【背景技术】
[0002]现有的喷淋处理设备通常通过朝下喷淋处理液对水平移动的材料进行化学反应或清洗，处理液因重力作用在水平移动的基材上面形成一层水膜，阻碍新的处理液与材料接触而造成上表面存在“水池效应”，从而使得喷淋的液体不能直接喷洒到水平移动基材上，造成化学反应或清洗不均匀。
[0003]因此，需要提供一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法，以解决上述问题。
【发明内容】
[0004]本发明主要解决的技术问题是提供一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法，能够避免与基材反应过的处理液阻挡新的处理液与基材反应，能够提升处理液处理基材的均匀性。
[0005]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种喷淋处理设备，喷淋处理设备包括:支撑装置，用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置，用于向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0006]其中，支撑装置设有用于传送基材的传送机构。
[0007]其中，支撑装置的两侧均设置有喷淋装置。
[0008]其中，支撑平面与水平面的夹角为2?70度。
[0009]其中，支撑装置还包括用于调节支撑平面的倾斜角度的角度调节装置。
[0010]其中，喷淋装置与支撑装置平行设置，且喷淋装置喷出处理液的方向与支撑装置支撑的基材表面垂直；或者喷淋装置水平设置，且喷淋装置喷出处理液的方向与水平面垂直。
[0011]其中，支撑装置包括至少两个子支撑装置，喷淋装置包括至少两个子喷淋装置，且每个子支撑装置对应设置至少一个子喷淋装置。
[0012]其中，至少两个子支撑装置的两支撑平面相交。
[0013]其中，至少两个子支撑装置的两支撑平面关于同一铅垂面对称设置。
[0014]为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是:提供一种蚀刻设备，该蚀刻设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋蚀刻液。
[0015]为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是:提供一种显影设备，显影设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋显影液。
[0016]为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是:提供一种清洗设备，该清洗设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋清洗液。
[0017]为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是:提供一种褪膜设备，该褪膜设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋褪膜液。
[0018]为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是:提供一种喷淋处理方法，喷淋处理方法包括:将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0019]其中，将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上包括:将待处理基材置于支撑装置包括的至少两个支撑平面倾斜设置的子支撑装置上；利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液包括:将喷淋装置设置为包括至少两个子喷淋装置，利用至少两个子喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0020]本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况，本发明通过设置支撑平面倾斜的支撑装置，使基材上的处理液快速流走避免“水池效应”，确保新鲜处理液持续快速与基材表面反应，不会产生处理液到不了的死角，从而提升处理液处理基材的均匀性。
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1是本发明喷淋处理设备的第一实施例的结构示意图；
[0022]图1a是支撑装置和喷淋装置倾斜的另一种情况示意图；
[0023]图2是本发明喷淋处理设备的第二实施例的结构示意图；
[0024]图3是本发明喷淋处理设备的第三实施例的结构示意图；
[0025]图4是本发明喷淋处理设备的第四实施例的结构示意图；
[0026]图5是本发明喷淋处理设备的第五实施例的结构示意图；
[0027]图6是本发明喷淋处理方法的优选实施例的流程图。
【具体实施方式】
[0028]下面结合附图和实施例对本发明进行说明。
[0029]请参阅图1，图1是本发明喷淋处理设备的第一实施例的结构示意图。在本实施例中，在本实施例中，喷淋处理设备包括支撑装置10和喷淋装置11。
[0030]支撑装置10用于支撑待处理的基材12，且支撑装置10的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材12与水平面成预定角度倾斜。
[0031]喷淋装置11用于向倾斜设置的基材12喷淋处理液。喷淋装置11进一步相对水平面倾斜设置，优选地，喷淋装置11与支撑装置10平行设置，且喷淋装置11喷出处理液的方向与支撑装置10支撑的基材12表面垂直。当然，在其他实施例中，喷淋装置11也可以是水平设置。
[0032]喷淋装置11包括安装板111和喷头112，安装板111用于固定喷头112，喷头112用于喷淋处理液。优选地，安装板111与支撑装置10支撑平面平行设置。在本发明其他实施例中，安装板111与支撑装置10支撑平面也可以成一定的角度设置，比如安装板111水平设置。
[0033]优选地，喷淋处理设备也包括用于调节喷淋装置的倾斜角度的角度调节装置。
[0034]优选地，喷淋处理设备设有用于调节喷淋装置11旋转角度的调节装置(图未示)，喷淋处理设备还设有用于调节支撑装置10旋转角度的调节装置。
[0035]优选地，支撑装置10设有用于传送基材12的传送机构，即支撑装置10还用于传送基材12。传送机构包括若干通过动力驱动而转动的辊轴101，基材12支撑在多个辊轴101形成的支撑平面上，由辊轴101转动从而传送基材12。
[0036]优选地，辊轴101之间有间隙，喷淋装置11喷出的处理液通过间隙喷淋至基材12上。
[0037]优选地，支撑装置10具有一个整体的支撑平面支撑基材12。
[0038]优选地，支撑装置10的两侧均设置有喷淋装置11。
[0039]优选地，支撑装置10还包括用于调节支撑平面的倾斜角度的角度调节装置。
[0040]优选地，支撑装置10支撑平面与水平面的夹角为2?70度。
[0041]更为优选地，支撑装置10支撑平面与水平面的夹角为3?10度。
[0042]由于基材12支撑在支撑平面上，基材12与水平面的夹角和支撑装置10支撑平面与水平面的夹角相等。
[0043]优选地，处理液为显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜液中的一种或组合。例如，当处理液为显影液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为显影设备，当处理液为蚀刻液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为蚀刻设备，当处理液为清洗液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为清洗设备。当处理液为褪膜液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为褪膜设备，当然在有多个子喷淋装置和子支撑装置而在不同的子喷淋装置上喷淋不同的处理液时，本发明的喷淋处理设备也可以是一种流水线处理设备，例如流水线处理设备利用不同的子喷淋装置按一定的顺序喷淋显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜液中的至少两种，从而来实现一道流水线工序。
[0044]优选地，蚀刻液是盐酸、氯酸钠溶液、三氯化铁溶液、或氯化氨溶液中的一种或几种。优选地，基材采用铜或不锈钢制作。显影液是碳酸钠溶液或碳酸钾溶液中的一种或几种。在其他实施例中，基材也可以采用感光油墨或干膜制作。
[0045]优选地，支撑装置10能够绕支撑平面的法线方向旋转。
[0046]在本实施例中，喷淋处理设备包括操作面和与非操作面，正常操控设备时，操作员面向的平面为操作面，而非操作面为与操作面垂直的平面。如图1中所示，与纸面平行的平面为操作面，与纸面垂直的平面为非操作面，则在本实施例中，支撑装置10和喷淋装置11优选为在操作面平面旋转而产生倾斜。当然在其他实施例中，也可以是另一种情况的倾斜，请进一步参阅图la，图1a是支撑装置和喷淋装置倾斜的另一种情况示意图。如图1a所示，与纸面垂直的平面为操作面，而与纸面平行的平面为非操作面，则另一种情况是支撑装置1a和喷淋装置Ila优选为在非操作面旋转而产生倾斜。
[0047]请参阅图2，图2是本发明喷淋处理设备的第二实施例的结构示意图。在本实施例中，喷淋处理设备包括支撑装置20和喷淋装置21。
[0048]支撑装置20用于支撑待处理的基材22，且支撑装置20支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜。喷淋装置21用于向倾斜设置的基材22喷淋处理液。
[0049]优选地，支撑装置20设有用于传送基材22的传送机构。传送机构包括若干通过动力驱动而转动的辊轴201，基材22支撑在多个辊轴201形成的支撑平面上，辊轴201有上下两排，上下两排辊轴201平行且间隔设置，基材22穿过两排辊轴201之间，由辊轴201转动从而传送基材22。同一排辊轴201中，多个辊轴201中相邻两个辊轴201间隔设置形成多个间隙。
[0050]优选地，支撑装置20包括至少两个子支撑装置20a、20b，喷淋装置21包括至少两个子喷淋装置21a、21b，且每个子支撑装置20a、20b对应设置至少一个子喷淋装置21a、21b。子支撑装置20a、20b中至少有一个子支撑装置20a、20b的支撑平面相对水平面倾斜设置。
[0051 ] 优选地，支撑装置20包括两个子支撑装置20a、20b，两个子支撑装置20a、20b用于在喷淋装置21向基材22喷淋同种处理液时依次支撑基材22，两个子支撑装置20a、20b的支撑平面均相对于水平面倾斜设置，且二者相对同一水平面的倾斜方向相反。例如，如图2中所示，子支撑装置20a相对于水平面的倾斜方向向上，而子支撑装置20b相对于水平面的倾斜方向向下。当然，在其他的实施例中，也可以是子支撑装置20a相对于水平面的倾斜方向向下，而子支撑装置20b相对于水平面的倾斜方向向上。
[0052]优选地，至少两个子支撑装置20a、20b的两支撑平面相交。在其他实施例中，至少两个子支撑装置20a和20b的两支撑平面也可以是不相交。优选地，至少两个子支撑装置20a、20b的两支撑平面关于同一铅垂面对称设置。优选地，两个子支撑装置20a、20b的支撑平面与同一水平面的夹角相等，且两个子支撑装置的支撑平面的夹角为钝角。例如，若两个子支撑装置20a、20b的支撑平面相交则二者相交形成相交线，而经过这条相交线有一个竖直平面，两个子支撑装置20a、20b的支撑平面与同一水平面的夹角相等即两个子支撑装置20a、20b的支撑平面关于经过二者相交形成的相交线的竖直平面对称；若两个子支撑装置20a、20b不相交则二者的延伸面相交形成相交线，而经过这条相交线也有一个竖直平面，两个子支撑装置20a、20b的支撑平面与同一水平面的夹角相等即两个子支撑装置20a、20b的支撑平面关于经过二者的延伸面形成的相交线的竖直平面对称。
[0053]优选地，在本实施例中，两个子支撑装置20a、20b相交设置，如图2中所示，两个子支撑装置20a、20b首尾相接。
[0054]优选地，两个子支撑装置20a和20b支撑平面与水平面的夹角根据基材22的厚度确定，基材22的厚度越大，则调整支撑平面与水平面的夹角越大，反之，基材22的厚度越小，则调整支撑平面与水平面的夹角越小。优选地，至少有一个子支撑装置20a、20b的支撑平面与水平面的夹角为2°?70°。更为优选地，至少有一个子支撑装置20a、20b的支撑平面与水平面的夹角为3°?10°。在本实施例中，两个子支撑装置20a、20b的支撑平面与水平面的夹角均为2?70度，更为优选地两个子支撑装置20a、20b的支撑平面与水平面的夹角均为3?10度。优选地，每个子支撑装置20a、20b都设有用于调节子支撑装置20a、20b的支撑平面倾斜角度的角度调节装置。在其他实施例中，喷淋处理设备也可以包括同时调节各个子支撑装置20a、20b倾斜角度的角度调节装置。
[0055]优选地，喷淋装置21包括两个与子支撑装置20a、20b对应设置的子喷淋装置21a、21b。例如，子喷淋装置21a与子支撑装置20a对应设置，以通过子喷淋装置21a喷淋处理液至子支撑装置20a所支撑的基材22上；而子喷淋装置21b与子支撑装置20b对应设置，以通过子喷淋装置21b喷淋处理液至子支撑装置20b所支撑的基材22上。
[0056]优选地，至少有一个子喷淋装置21a、21b与至少一个子支撑装置20a、20b平行设置，且子喷淋装置21a、21b喷出处理液的方向与对应的子支撑装置20a、20b的支撑平面上的基材22表面垂直。
[0057]优选地，两个子喷淋装置21a、21b均相对于水平面倾斜设置。在其他实施例中，也可以是两个子喷淋装置21a、21b中至少有一个子喷淋装置21a、21b水平设置。
[0058]优选地，子喷淋装置21a、21b与对应的子支撑装置20a、20b支撑平面平行设置，且子喷淋装置21a、21b喷出处理液的方向与对应的子支撑装置20a、20b的支撑平面上的基材22表面垂直.例如，子喷淋装置21a与对应的子支撑装置20a支撑平面平行设置，而子喷淋装置21b与对应的子支撑装置20b支撑平面平行设置。当然，在其他实施例中，子喷淋装置21a、21b也可以是与对应子支撑装置20a、20b均倾斜设置而二者不相互平行。
[0059]每一个子喷淋装置21a或者21b包括安装板211和喷头212，安装板211用于固定喷头212，喷头212用于喷淋处理液。优选地，安装板211与对应的子支撑装置20a或者20b平行设置。
[0060]优选地，至少有一个子支撑装置20a、20b的两侧均设置有子喷淋装置21a、21b。更为优选地，在本实施例中，子支撑装置20a的两侧均设置有子喷淋装置21a，而子支撑装置20b的两侧均设置有子喷淋装置21b。
[0061]子支撑装置20a两侧的两个子喷淋装置21a间隔设置且子支撑装置20a和基材22设置在两个子喷淋装置21a之间，使得两个子喷淋装置21a分别对基材22的两个表面喷淋处理液。类似的，子支撑装置20b两侧的两个子喷淋装置21b间隔设置且子支撑装置20b和基材22设置在两个子喷淋装置21b之间，使得两个子喷淋装置21b分别对基材22的两个表面喷淋处理液。
[0062]优选地，喷淋处理设备还包括与每一子喷淋装置21a、21b对应设置的且用于调节子喷淋装置21a、21b的倾斜角度的角度调节装置。
[0063]优选地，两相邻辊轴201之间的间隙与喷头212的位置对应，以使得喷头212喷出的处理液可以通过该间隙直接喷洒于基材22上。
[0064]优选地，处理液为显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜液中的一种或组合。例如，当处理液为显影液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为显影设备，当处理液为蚀刻液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为蚀刻设备，当处理液为清洗液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为清洗设备。当处理液为褪膜液的时候，本发明的喷淋处理设备可以为褪膜设备，当然在有多个子喷淋装置和子支撑装置而在不同的子喷淋装置上喷淋不同的处理液时，本发明的喷淋处理设备也可以是一种流水线处理设备，例如流水线处理设备利用不同的子喷淋装置按一定的顺序喷淋显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜液中的至少两种，从而来实现一道流水线工序。
[0065]优选地，蚀刻液是盐酸、氯酸钠溶液、三氯化铁溶液、或氯化氨溶液中的一种或几种。优选地，基材采用铜或不锈钢制作。显影液是碳酸钠溶液或碳酸钾溶液中的一种或几种。在其他实施例中，基材也可以采用感光油墨或干膜制作。
[0066]值得注意的是，在本实施例中，喷淋装置仅包括两个子支撑装置，喷淋装置仅包括两个与子支撑装置对应设置的子喷淋装置，然而本领域技术人员可以理解的是在其他的实施例中，支撑装置也可以包括两个以上的子支撑装置，而对应的喷淋装置也可以包括与子支撑装置对应数量的子喷淋装置，而倾斜的方式采用波浪形倾斜，即相邻两个子支撑装置的倾斜方向相反。
[0067]请参阅图3，图3是本发明喷淋处理设备的第三实施例的结构示意图。本发明喷淋处理设备的第三实施例与第二实施例的不同之处在于，在本实施例中，支撑装置30包括至少两个子支撑装置30a、30b，两个子支撑装置30a、30b用于在喷淋装置向基材喷淋同种处理液时依次支撑基材32。在本实施例中，至少两个子支撑装置30a、30b的两支撑平面平行设置或共面设置。即两个子支撑装置30a、30b的支撑平面均相对于水平面倾斜设置，且二者相对同一水平面的倾斜方向相同。例如，如图3所示，两个子支撑装置30a、30b均向上倾斜，当然，在其他实施例中，两个子支撑装置30a、30b也可以是均向下倾斜。优选地，两个子支撑装置30a、30b首尾相连接，两个子支撑装置30a、30b的两支撑平面共面设置，即两个子支撑装置30a、30b的两支撑平面位于同一平面上。在本实施例中，两个子支撑装置30a、30b还可以不是首尾相接，两个子支撑装置30a、30b的两支撑平面相互平行设置。
[0068]请参阅图4，图4是本发明喷淋处理设备的第四实施例的结构示意图。本发明喷淋处理设备的第四实施例与第二实施例的不同之处在于，在本实施例中，喷淋装置41包括两个子喷淋装置41a、41b。两个子喷淋装置41a、41b均水平设置。
[0069]请参阅图5，图5是本发明喷淋处理设备的第五实施例的结构示意图。本发明喷淋处理设备的第五实施例与第二实施例的不同之处在于，在本实施例中，两个子支撑装置50a、50b不相交，如图5中所示，两个子支撑装置50a、50b首尾不相连接。
[0070]请参阅图6，图6是本发明喷淋处理方法的优选实施例的流程图。在本实施例中，喷淋处理方法包括:
[0071]步骤Sll:将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上，以使得基材与水平面成预定角度倾斜。
[0072]在步骤Sll中，支撑装置的支撑平面与水平面的夹角为2?70度。由于基材支撑在支撑平面上，基材与水平面的夹角也为2?70度。更为优选地，支撑装置支撑平面与水平面的夹角为3?10度。具体地，支撑装置可以为上述任意一实施例中的支撑装置，此处不再赘述。
[0073]步骤S12:利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0074]在步骤S12中，喷淋装置可以为上述任意一实施例中的喷淋装置，此处不再赘述。
[0075]优选地，本实施例的喷淋处理方法还包括:当喷淋装置向基材喷淋处理液时，利用支撑装置的传送机构传送基材，以带动基材从喷淋室的入口向喷淋室的出口传送。
[0076]优选地，利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液包括:利用喷淋装置从基材的两侧向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0077]优选地，利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液包括:利用喷淋装置以垂直于基材的角度向倾斜设置的基材喷淋处理液。在其他实施例中，利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液也可以是包括:利用喷淋装置以垂直于水平面的角度向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0078]优选地，将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上包括:将待处理基材置于支撑装置包括的至少两个支撑平面倾斜设置的子支撑装置上；利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液包括:将喷淋装置设置为包括至少两个子喷淋装置，利用至少两个子喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0079]优选地，将待处理基材置于至少两个子支撑装置上包括:将待处理基材置于至少一个支撑平面相对水平面倾斜设置的子支撑装置上。将待处理基材置于至少两个子支撑装置上包括:将待处理基材置于至少两个支撑平面相交设置的子支撑装置上。更为优选地，将待处理基材置于至少两个支撑平面相交设置的子支撑装置上包括:将待处理基材置于至少两个支撑平面关于同一铅垂面对称设置的子支撑装置上。
[0080]优选地，利用子喷淋装置向倾斜设置的基材淋处理液包括:利用至少两个子喷淋装置以垂直于基材的角度或以垂直于水平面的角度向倾斜设置的基材喷淋处理液。
[0081]优选地，利用子喷淋装置向倾斜设置的基材淋处理液包括:利用至少两个子喷淋装置向至少一个倾斜设置的子支撑装置的两侧喷淋处理液。
[0082]值得注意的是本发明喷淋处理方法可利用上述喷淋处理设备执行，具体请参见上文的描述。
[0083]优选地，喷淋处理设备包括与操作员相对的操作面和与操作面垂直的非操作面，支撑平面在操作面内旋转而倾斜。在其他的实施例中，支撑平面也可以在非操作面内旋转而倾斜。
[0084]优选地，处理液为显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜液中的一种或组合。优选地，蚀刻液是盐酸、氯酸钠溶液、三氯化铁溶液、或氯化氨溶液中的一种或几种。优选地，基材采用铜或不锈钢制作。显影液是碳酸钠溶液或碳酸钾溶液中的一种或几种。在其他实施例中，基材也可以采用感光油墨或干膜制作。具体请参见上述上文的描述。
[0085]区别于现有技术的情况，本发明通过设置支撑平面倾斜的支撑装置，使基材上的处理液快速流走避免“水池效应”，确保新鲜处理液持续快速与基材表面反应，不会产生处理液到不了的死角，从而提升处理液处理基材的均匀性。
[0086]以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的【技术领域】，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种喷淋处理设备，其特征在于，所述喷淋处理设备包括: 支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋处理液。
2.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置设有用于传送基材的传送机构。
3.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置的两侧均设置有喷淋装置。
4.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑平面与水平面的夹角为2?70度。
5.根据权利要求4所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置还包括用于调节所述支撑平面的倾斜角度的角度调节装置。
6.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述喷淋装置与所述支撑装置平行设置，且所述喷淋装置喷出处理液的方向与所述支撑装置支撑的基材表面垂直；或者所述喷淋装置水平设置，且所述喷淋装置喷出处理液的方向与水平面垂直。
7.根据权利要求1-6任一项所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置包括至少两个子支撑装置，所述喷淋装置包括至少两个子喷淋装置，且每个所述子支撑装置对应设置至少一个子喷淋装置。
8.根据权利要求7所述的喷淋处理设备，其特征在于，至少两个所述子支撑装置的两支撑平面相交。
9.根据权利要求8所述的喷淋处理设备，其特征在于，至少两个所述子支撑装置的两支撑平面关于同一铅垂面对称设置。
10.一种蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备包括: 支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋蚀刻液。
11.一种显影设备，其特征在于，所述显影设备包括: 支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋显影液。
12.一种清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括: 支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋清洗液。
13.一种褪膜设备，其特征在于，所述褪膜设备包括: 支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋褪膜液。
14.一种喷淋处理方法，其特征在于，所述喷淋处理方法包括: 将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 利用喷淋装置向倾斜设置的所述基材喷淋处理液。
15.根据权利要求14所述的喷淋处理方法，其特征在于，将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上包括: 将待处理基材置于所述支撑装置包括的至少两个支撑平面倾斜设置的子支撑装置上； 利用喷淋装置向倾斜设置的所述基材喷淋处理液包括:将所述喷淋装置设置为包括至少两个子喷淋装置，利用至少两个子喷淋装置向倾斜设置的所述基材喷淋处理液。
【文档编号】H01L21/67GK104282598SQ201410491350
【公开日】2015年1月14日 申请日期:2014年9月23日 优先权日:2014年9月23日
【发明者】孙尚传 申请人:安徽省大富光电科技有限公司