本实用新型涉及纺织机械技术领域，尤其是一种经编机张力器清洁装置。
背景技术：
在纺织过程中，整经是必不可少的，整经时为了使经轴获得良好成形和较大的卷绕密度，在整经筒子架上一般设有张力器，给纱线以附加的张力，设置经纱张力器的目的是调节片纱张力，根据筒子在筒子架上的不同位置，分别给予不同的附加张力，抵消因导纱状态不同产生的张力差异，是全片经纱张力均匀。但是纺织过程中，灰尘和棉絮的出现是不可避免的，长时间的工作后如不及时清理，张力器上就会大量堆积这些灰尘和棉絮，从而影响张力器的使用效果和寿命。
目前市场上出现了经编机张力器的空气清洁装置，如在2016年7月6日公开，公告号为CN205368608U的中国专利文献公开的空气清洁装置，包括框架、框架内部等距排列有张力器杠子组件，张力器杠子组件上均布有张力器，张力器上方设有吹气喷嘴，框架上端设有电磁阀，电磁阀通过气管与吹气喷嘴相连。该文献中通过在张力器上方设置吹气喷嘴，工作时吹气喷嘴将位于张力器上的灰尘和棉絮吹走，但是这种吹气喷嘴只能将灰尘和棉絮吹走，此时灰尘和棉絮就会漫天飘洒，从而影响到工人的作业和其他机器的正常工作。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的问题是提供一种经编机张力器清洁装置，在清除张力器上的灰尘和棉絮并将灰尘和棉絮收集起来，避免再次影响张力器或其他机器的工作。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案如下：
经编机张力器清洁装置，包括张力墙、吸尘机构、至少一个吹气机构和多个张力器，各所述张力器分别安装在张力墙上，其特征在于：所述吸尘机构包括吸尘风机、吸尘通道和集尘盒，所述集尘盒安装在吸尘风机中，所述吸尘通道连通集尘盒，所述吸尘机构位于张力墙下端，所述吹气机构安装在张力墙上端。吹气机构从张力墙的上端向下吹风，清除张力器上的灰尘和棉絮，吸尘机构吸走从张力器上脱离并游离在空气中的灰尘和棉絮。
作为本实用新型的优选方案，所述吹气机构为风扇。吹气机构使用风扇相较吹气喷嘴风力更大，能保证将缠绕在张力器上的棉絮吹落，同时形成从上往下的气流，使灰尘和棉絮跟随气流从上方吹落到下方，便于吸尘机构吸入更多的灰尘和棉絮，保证工作空间的整洁。
上述结构中，风扇从上方向下吹气，将位于张力器上的灰尘和棉絮从张力器上吹落，此时吸尘机构将从张力器上吹落的灰尘和棉絮吸走收集在集尘盒中，通过在上方设置吹气机构，形成从上往下的气流，使灰尘和棉絮跟随气流从张力器上吹落并收集到吸尘机构中，避免了灰尘和棉絮的漫天飞扬，影响到纱线和工作环境。
作为本实用新型的优选方案，所述吸尘通道具有吸尘口，所述吸尘口形状为上大下小的漏斗形。上大下小的漏斗形吸尘口拥有更大的吸尘空间，可以在同一时间内吸走更多的灰尘和棉絮，吸尘效果更好。
作为本实用新型的优选方案，所述张力器清洁装置还包括散热机构，所述散热机构安装在张力墙下端。散热机构可带走张力墙周围的热气，降低了车间的工作环境温度，使纱线的质量和工人的工作效率不会因环境温度过高受到影响。
作为本实用新型进一步的优选方案，所述散热机构为抽风机。
本实用新型与现有技术相比，具有如下优点：
本实用新型中经编机张力器清洁装置结构简单，能在张力墙上形成从上往下的气流，有效清除张力器上的灰尘和棉絮，使灰尘和棉絮跟随气流从上方吹落到下方，同时收集到吸尘机构中，保护了张力器和位于张力器周围机器的使用寿命，使用散热机构能带走空气中的热量，降低了车间的工作环境温度，使纱线的质量和工人的工作效率不会因环境温度过高受到影响。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行具体描述：
如图1所示，经编机张力器清洁装置，包括张力墙1、吸尘机构2、一个吹气机构3和多个张力器4，各所述张力器4均安装在张力墙1上，所述吸尘机构2包括吸尘风机201、吸尘通道202和集尘盒（图中看不见），所述集尘盒安装在吸尘风机201中，所述吸尘通道202连通集尘盒，所述吸尘机构2位于张力墙1下端，所述吹气机构3安装在张力墙1上端。
所述吹气机构3为风扇。风扇3从上方向下吹气，将位于张力器4上的灰尘和棉絮从张力器上吹落，此时吸尘机构2将从张力器4上吹落的灰尘和棉絮吸走收集在集尘盒中，通过在上方设置吹气机构3，形成从上往下的气流，使灰尘和棉絮跟随气流从张力器上吹落并收集到吸尘机构中，避免了灰尘和棉絮的漫天飞扬，影响到纱线和工作环境。
所述吸尘通道202具有吸尘口2021，所述吸尘口2021形状为上大下小的漏斗形。
所述张力器清洁装置还包括散热机构5，所述散热机构5安装在张力墙下端。
所述散热机构5为抽风机。
此外，需要说明的是，本说明书中所描述的具体实施例，其各部分名称等可以不同，凡依本实用新型专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效或简单变化，均包括于本实用新型专利的保护范围内。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离本实用新型的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本实用新型的保护范围。