专利名称：一种氧化铝陶瓷的净化工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及微波电真空工艺和电真空材料工艺领域，尤其涉及一种氧化铝陶瓷的净化工艺。
背景技术：
电真空陶瓷包括氧化物陶瓷、硅酸盐陶瓷、氮化物陶瓷等。氧化物陶瓷中又包括氧化铝(Al2O3)瓷、 氧化铍(BeO)瓷、氧化镁(MgO)瓷、氧化锆(ZrO2)瓷等。氧化物瓷的主要成分为单一氧化物结晶，结晶相纯度高，含玻璃相少。原材料纯度高，烧结温度也高，因此瓷的电、热及机械性能都较好，在电真空陶瓷中以氧化铝陶瓷的用量最多。根据Al2O3含量的不同，可分为=Al2O3含量在75%的75瓷、Al2O3含量在(92 97) %的95瓷、Al2O3含量在99%的99瓷、Al2O3含量在99. 9%的透明刚玉瓷等。其中尤以95瓷和99瓷应用最为广泛。电真空陶瓷在零部件的加工制作过程中，随时都有可能被脏物、杂质污染的可能， 被污染的陶瓷零件会导致绝缘强度下降、放气量大、金属化层粘覆不牢等严重影响器件性能的缺陷，所以电真空陶瓷在应用的过程中必须多次进行净化处理。
发明内容
本发明目的是提供一种氧化铝陶瓷的净化工艺，以解决氧化铝陶瓷附着的脏物、 杂质会影响氧化铝陶瓷性能的问题。为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案为 一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于包括以下步骤
(1)、去除氧化铝陶瓷上的粘附物质首先将待净化的氧化铝陶瓷放入装有二甲苯或甲苯的容器中，其次将放入有氧化铝陶瓷的搪瓷锅或烧杯中二甲苯或甲苯沸煮60-65分钟， 直至完全去除脏物，然后倒出容器中的二甲苯或甲苯，并用热水冲洗氧化铝陶瓷，冲洗时间为20-30分钟，最后将氧化铝陶瓷放入烘干箱中进行烘干，烘干时间为10-15分钟，温度为 60-800C ；
(2)、配制去油溶液并对氧化铝陶瓷去油称取草酸钠、酒石酸钠、OP乳化剂、去离子水，将称好的草酸钠和酒石酸钠首先放入酸洗容器中，并倒入去离子水，将去离子水、草酸钠、酒石酸钠构成的溶液加热至40-45°C后，再向加热后的溶液中加入OP乳化剂，得到去油溶液，然后将氧化铝陶瓷放入去油溶液中，浸泡15-20分钟，并在氧化铝陶瓷浸泡去油时用刷子擦拭氧化铝陶瓷，其次将氧化铝陶瓷放入带加热器的超声波清洗槽中进行超声波处理，超声波处理时间至少持续15分钟，超声波震动频率不超过20KHz，最后用热水冲洗零件15-20分钟，热水冲洗后用冷水冲洗零件5-10)分钟；
(3)、对氧化铝陶瓷酸洗按一定体积称取30%过氧化氢、25%氨水、甲酸，将氧化铝陶瓷放入酸洗容器中，并向酸洗容器中倒入30%过氧化氢、25%氨水，所述30%过氧化氢、25%氨水构成的溶液应占酸洗容器容积的三分之一，氧化铝陶瓷应完全被30%过氧化氢、25%氨水构成的溶液浸没，然后以细小的流束倒入甲酸，对氧化铝陶瓷进行酸洗，酸洗时间为8-10 分钟，其次用冷水冲洗氧化铝陶瓷3-5分钟，冷水冲洗后用去离子水清洗氧化铝陶瓷3-5分钟，冷水冲洗后将氧化铝陶瓷置于超声波槽中进行超声波处理，同时用去离子水冲洗氧化铝陶瓷15分钟，超声波振动频率为20 KHz，超声波槽中出口处水的电阻不低于5ΜΩ，最后在烘干箱中对氧化铝陶瓷进行干燥，烘干箱温度为230士20°C，时间为60士5)分钟； (4)、检查完成步骤(3)后的氧化铝陶瓷，如氧化铝陶瓷表面仍有脏物，重复上述步骤。所述的一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于所述步骤(2)中，去油溶液各组分重量配比为 草酸钠 3， 酒石酸钠 2， OP乳化剂 1. 5， 去离子水 1000。所述的一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于所述步骤(3)中，所述30%过氧化氢、25%氨水、甲酸的体积分别为
30%过氧化氢 300ml， 25% 氨水 300ml, 甲酸 300ml。所述的一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于所述步骤(3)中，选择氮气干燥设备中进行烘干，烘干温度为80-85°C，烘干持续时间为40-80分钟，氮气流量600升/小时。本发明工艺简单，易于实现，操作方便，是一种行之有效的氧化铝陶瓷的净化工艺，本发明工艺经过实际生产过程中的多次调整和更改，流程清晰，效果较好，能够有效地去除氧化铝陶瓷附着的脏物和杂物。
图1为本发明具体实施方式
流程图。
具体实施例方式如图1所示。本发明包括以下步骤
1.去除陶瓷零件上的粘附物质
1.1将零件放入装有二甲苯或甲苯的搪瓷锅或烧杯中。1. 2将它们沸煮(沸腾)60 65分钟，直至完全去除脏物。 1.3倒出二甲苯。1.4用热水冲洗零件(20-30)分钟。1. 5在烘干箱中对零件进行烘干(10-15)分钟，温度(60-80)0 C。2.零件去油
2.1在托盘天平上称取按下列重量比规定数量的物质
—草酸钠3g —酒石酸钠2g—OP乳化剂:1.5g —去离子水 1000 ml
2. 2将称好的草酸钠和酒石酸钠放入烧杯或搪瓷锅中，并倒入去离子水。2. 3将溶液加热至(40-45) V。2.4向溶液中加入OP乳化剂。
2.5将陶瓷零件放入配置好的溶液中，浸泡(15-20)分钟。2.6在陶瓷去油时用牙刷手工擦拭脏零件。2. 7将陶瓷零件放入带加热器的超声波清洗槽中。超声波处理应至少持续15分钟，震动频率不超过20KHz。2. 8用热水冲洗零件(15-20)分钟。2. 9用冷水冲洗零件(5-10)分钟。3.零件酸洗
3.1按下列数量比配方配制酸洗溶液
—30%过氧化氢300 ml ； —25% 氨水300 ml ； —甲酸 300 ml
3.2将陶瓷零件放入塑料杯中，或放入陶瓷零件酸洗槽中。酸洗溶液应占配制溶液容器容积的三分之一。酸洗时零件应该完全被溶液浸没。最后以细小的流束(流量)倒入甲酸。3.3酸洗零件(8-10)分钟。3.4用冷水冲洗零件(3-5)分钟。3.5用去离子水清洗零件(3-5)分钟。3.6在超声波槽中用去离子水冲洗陶瓷15分钟，振动频率20 KHz，槽中出口处水的电阻不低于5M Ω。3.7在烘干箱中对零件进行干燥，温度(230士20) °C ；时间(60士5)分钟。或在氮气干燥设备中烘干，温度(80-85) °C ；持续时间(40-80)分钟，主要取决于零件的外形结构。氮气流量600升/小时。
4.对陶瓷零件进行外观缺陷检测，并剔除不合格零件 不允许
a)裂纹；
b)陶瓷表面和孔中有外来颗粒；
c)金属化处有锋利的边缘；
d)壁厚不超过Imm的零件上有气孔；
e)被金属化的表面上有气孔；
f)气孔直径超过Imm;
g)设计图纸中规定的其余不允许的缺陷。允许
a )在铸口区域，在零件侧面和端面上有部分带有明显的颜色转换界限； b)被清洁处理后的边缘，它的半径或倒角尺寸应不超过设计图纸的规定。
c)沿所有周边边缘上有不明显的划痕，宽度不超过0.2mm。d)长度不超过0.5mm，零件周长为20mm，不可超过一个划痕，划痕深度应该不超过 0. 2mmοe)零件上分散分布的气孔，直径应不超过0. 8mm。5.将合格零件放入包装物中，并做好标记，按工艺流程图转下一工序。6.净化处理后零件表面仍有脏物时，可重复进行本工艺的操作。注意事项
a.工作时必须接通排风扇，穿戴好工作服，佩戴橡胶手套。b.酸洗溶液只使用一次，对于去油溶液来说，20升溶液可用于1000只零件。c.除零件缺陷检测之外，其它工艺过程操作时必须按通通风装 置。
权利要求
1.一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于包括以下步骤(1)、去除氧化铝陶瓷上的粘附物质首先将待净化的氧化铝陶瓷放入装有二甲苯或甲苯的容器中，其次将放入有氧化铝陶瓷的搪瓷锅或烧杯中二甲苯或甲苯沸煮60-65分钟， 直至完全去除脏物，然后倒出容器中的二甲苯或甲苯，并用热水冲洗氧化铝陶瓷，冲洗时间为20-30分钟，最后将氧化铝陶瓷放入烘干箱中进行烘干，烘干时间为10-15分钟，温度为 60-800C ；(2)、配制去油溶液并对氧化铝陶瓷去油称取草酸钠、酒石酸钠、OP乳化剂、去离子水，将称好的草酸钠和酒石酸钠首先放入酸洗容器中，并倒入去离子水，将去离子水、草酸钠、酒石酸钠构成的溶液加热至40-45°C后，再向加热后的溶液中加入OP乳化剂，得到去油溶液，然后将氧化铝陶瓷放入去油溶液中，浸泡15-20分钟，并在氧化铝陶瓷浸泡去油时用刷子擦拭氧化铝陶瓷，其次将氧化铝陶瓷放入带加热器的超声波清洗槽中进行超声波处理，超声波处理时间至少持续15分钟，超声波震动频率不超过20KHz，最后用热水冲洗零件15-20分钟，热水冲洗后用冷水冲洗零件5-10)分钟；(3)、对氧化铝陶瓷酸洗按一定体积称取30%过氧化氢、25%氨水、甲酸，将氧化铝陶瓷放入酸洗容器中，并向酸洗容器中倒入30%过氧化氢、25%氨水，所述30%过氧化氢、25%氨水构成的溶液应占酸洗容器容积的三分之一，氧化铝陶瓷应完全被30%过氧化氢、25%氨水构成的溶液浸没，然后以细小的流束倒入甲酸，对氧化铝陶瓷进行酸洗，酸洗时间为8-10 分钟，其次用冷水冲洗氧化铝陶瓷3-5分钟，冷水冲洗后用去离子水清洗氧化铝陶瓷3-5分钟，冷水冲洗后将氧化铝陶瓷置于超声波槽中进行超声波处理，同时用去离子水冲洗氧化铝陶瓷15分钟，超声波振动频率为20 KHz，超声波槽中出口处水的电阻不低于5ΜΩ，最后在烘干箱中对氧化铝陶瓷进行干燥，烘干箱温度为230士20°C，时间为60士幻分钟；(4)、检查完成步骤(3)后的氧化铝陶瓷，如氧化铝陶瓷表面仍有脏物，重复上述步骤。
2.根据权利要求1所述的一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于所述步骤(2)中， 去油溶液各组分重量配比为草酸钠 3，酒石酸钠 2，OP乳化剂 1. 5，去离子水 1000。
3.根据权利要求1所述的一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于所述步骤(3)中， 所述30%过氧化氢、25%氨水、甲酸的体积分别为30%过氧化氢 300ml，25% 氨水 300ml,甲酸 300ml。
4.根据权利要求1所述的一种氧化铝陶瓷的净化工艺，其特征在于所述步骤(3)中， 选择氮气干燥设备中进行烘干，烘干温度为80-85°C，烘干持续时间为40-80分钟，氮气流量600升/小时。
全文摘要
本发明公开了一种氧化铝陶瓷的净化工艺，工艺流程如下去除陶瓷零件表面的粘附物质→零件去油→零件酸洗→缺陷检测和剔除废品→零件包装→二次清洗。本发明适合应用于75瓷、95瓷、99瓷、透明刚玉瓷的清洁。本发明工艺简单，易于实现，操作方便，能够有效地去除氧化铝陶瓷附着的脏物和杂物。
文档编号C04B41/80GK102153370SQ201010597359
公开日2011年8月17日 申请日期2010年12月21日 优先权日2010年12月21日
发明者吴华夏, 张丽, 江祝苗, 王莹, 陈明龙 申请人:安徽华东光电技术研究所