本实用新型涉及热转印膜技术领域，具体为一种PU发泡热转印膜。
背景技术：
热转印膜一次性加热将热转印上的装饰图案转印于被装饰建材表面上，形成优质饰面膜的过程，在热转印过程中，利用热和压力的共同作用使保护层及图案层从聚酯基片上分离，热熔胶使整个装饰层与基材永久胶合。
目前市场上热转印膜结构比较简单，在加工的过程中容易发生形变的问题，这样会影响到热转印膜的转印质量，而且一般的热转印膜外形比较单一，无法引起人们的注意，达不到展现的效果。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种PU发泡热转印膜，以解决上述背景技术中提出的目前市场上的热转印膜结构比较简单，在加工的过程中容易发生形变的问题，这样会影响到热转印膜的转印质量，而且一般的热转印膜外形比较单一，无法引起人们的注意，达不到展现的效果的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种PU发泡热转印膜，包括保护定位层，所述保护定位层下端固定连接有粘接层，且粘接层下端安装有PU发泡层，所述热熔胶膜层上端固定连接有PU发泡层，且热熔胶膜层下端固定安装有保护层。
优选的，所述保护定位层和保护层均为PE保护膜。
优选的，所述PU发泡层和热熔胶膜层通过复合成型。
优选的，所述PU发泡层近粘接层端为磨砂处理。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该PU发泡热转印膜为多层结构，PU发泡层、黏合剂层和热熔胶层采用复合成型工艺，可以有效的避免该装置在加热和转印的过程中发生形变，该装置PU发泡层表面可以进行图案的设置，可以根据个人喜好来设置不同的图案，提高该装置的美观度，从而提高人们的兴趣，而且该装置PU发泡层表面为磨砂处理，使该装置PU发泡层表面形成一种漫反射状，提高该装置整体的手感。该装置的保护定位层和保护层有效的防止PU发泡层和热熔胶层受到外界划伤，起到良好的保护作用，而粘接层、PU发泡层和热熔胶膜层采用复合成型工艺，结构比较稳定，在转印的过程中不容易发生形变，而PU发泡层表面可以进行图案的设置，美观大方，PU发泡层表面还可以进行磨砂处理增加该装置整体的美观度，粘接层和热熔胶膜层固定粘贴效果比较好，可以有效的避免保护定位层从PU发泡层的外部脱落，而的情热熔胶膜层可以使PU发泡层固定在载体上，不易脱落。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型图1中A-A处剖视结构示意图。
图中：1、保护定位层，2、粘接层，3、PU发泡层，4、热熔胶膜层，5、保护层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种PU发泡热转印膜，包括保护定位层1，保护定位层1下端固定连接有粘接层2，且粘接层2下端安装有PU发泡层3，保护定位层1和保护层5均为PE保护膜，此结构保护定位层1和保护层5起到保护PU发泡层3和热熔胶膜层4的作用，避免保护PU发泡层3和热熔胶膜层4在运输或者加工的过程中出现损伤，PU发泡层3和热熔胶膜层4通过复合成型，此结构的PU发泡层3和热熔胶膜层4结构比较牢固，大大提高该装置的强度和表面质量，提高转印的效果，PU发泡层3近粘接层2端为磨砂处理，此结构的PU发泡层3表面通过磨砂处理后，使PU发泡层3表面形成一种慢反射，形成一种特殊的质感，大大提高该装置PU发泡层3的美观度和手感，热熔胶膜层4上端固定连接有PU发泡层3，且热熔胶膜层4下端固定安装有保护层5。
工作原理：在使用该PU发泡热转印膜时，先通过外置的电脑设备将美观的图案印制到PU发泡层3的表面，然后便可以对该装置进行裁剪的工作，将整个装置裁剪成需要转印的图案，之后将需要转印的载体放置在转印设备上，之后将裁剪好的该装置上的保护层5从热熔胶膜层4表面取下，将热熔胶膜层4对准需要转印的位置，将热熔胶膜层4与转印的载体贴合在一起，之后再通过外置的转印设备对裁剪好的该装置进行加热，转印设备会将热量传递给保护定位层1，保护定位层1再将热量传递给PU发泡层3，PU发泡层3再将热量传递给热熔胶膜层4，热熔胶膜层4受热开始发生融化从而粘贴在转印的载体表面，等待热熔胶膜层4融化粘贴在转印的载体后打开转印设备，将转印好的载体拿出，等待热熔胶膜层4冷却凝固下来后将保护定位层1从PU发泡层3表面取下，而粘接层2起到固定保护定位层1的作用，避免保护定位层1在运输或者转印的过程中从PU发泡层3上脱落，这样便完成该装置的转印，从而完成一系列的工作。
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。