本发明属于领域，具体涉及一种雕刻机。
背景技术：
雕刻机分为激光雕刻和机械雕刻两类，这两类都有大功率和小功率之分。小功率的雕刻机一般只适合做双色板、建筑模型、小型标牌、三维工艺品等。而大功率雕刻机可以做小功率雕刻机的东西，特别适合做大型切割、浮雕、雕刻。雕刻机在工作的过程中，不可避免地在被雕刻的产品的表面产生碎屑，从而在产品雕刻完成后需要对其表面进行专门的清洁，以保证产品较好的外观，现有技术中，大多是采用设有专门的清洁工序和专门的清洁工位，这势必增加生产成本，且操作繁琐，降低产品的生产率。
技术实现要素：
针对上述问题，本发明提出一种雕刻机。
实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种雕刻机，包括工作台、位于工作台两侧的纵向支架、横向支架、雕刻刀、工业摄像机、第一清洁装置和机械手；横向支架的两端分别与纵向支架相连，且与工作台的台面平行，横向支架上设有滑轨；所述雕刻刀具通过滑块滑动设置在横向支架上，由气缸驱动在垂直方向做上下运动；所述工作台的台面分被分为检测区和工作区；所述工业摄像机通过滑块滑动设置在横向支架上的滑轨内，可沿横向支架水平滑动，其工作面正对于检测区；所述工作区的上表面设有防滑层，工作区和防滑层上均设有若干个通孔，且工作区的下方均设有顶部开口的收纳箱；所述第一清洁装置通过气缸与工作台上位于工作区的立柱相连接，气缸驱动第一清洁装置在水平方向做来回运动，第一清洁装置的工作面正对于工作台的台面；所述机械手安装在检测区与工作区之间，用于将检测过的产品移动到工作区。
作为优选，所述第一清洁装置为清洁毛刷。
作为优选，所述收纳箱与工作台的下表面贴合。
作为优选，所述工作台的检测区上还设有压力传感器，用于测量待雕刻产品的重量。
作为优选，所述防滑层为橡胶防滑层。
作为优选，所述工作区和防滑层上的通孔为菱形。
作为优选，所述机械手的末端设有若干个吸盘，用于吸附待雕刻的产品。
本发明的有益效果：
本发明的一张雕刻机，在工作台上设置检测区和工作区；首先将待雕刻的产品放置在检测区，利用工业摄像机来检查待雕刻产品的表面平整度；然后利用机械手将待雕刻的产品从检测区移动到工作区，且工作区上设有若干个通孔，用于配合清洁毛刷将被雕刻物件上的碎屑清理到工作台面下的收纳箱，完成产品的表面清洁，且本发明占地面积小，结构简单，具有很好的推广应用前景。
附图说明
图1为本发明一种实施例的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
下面结合附图对本发明的应用原理作详细的描述。
一种雕刻机，包括工作台1、位于工作台1两侧的纵向支架2、横向支架3、雕刻刀4、工业摄像机5、第一清洁装置6和机械手7；横向支架3的两端分别与纵向支架2相连，且与工作台1的台面平行，横向支架3上设有滑轨8；所述雕刻刀4具通过滑块滑动设置在横向支架3上，且由气缸驱动在垂直方向做上下运动；所述工作台1的台面分被分为检测区101和工作区102；所述工业摄像机5通过滑块滑动设置在横向支架3上的滑轨8内，可沿横向支架3水平滑动，其工作面正对于检测区101；所述工作区102的上表面设有防滑层（图中未示出），工作区101和防滑层上均设有若干个通孔105，且工作区101的下方均设有顶部开口的收纳箱103；所述第一清洁装置6通过气缸与工作台1上位于工作区的立柱104相连接，气缸驱动第一清洁装置6在水平方向做来回运动，第一清洁装置6的工作面正对于工作台1的台面；所述机械手7安装在检测区101与工作区102之间，用于将检测过的产品移动到工作区。
在本发明的一种实施例中，所述第一清洁装置6为清洁毛刷。
在本发明的一种实施例中，所述收纳箱103与工作台的下表面贴合。
在本发明的一种实施例中，所述工作台的检测区101上还设有压力传感器（图中未示出），用于测量待雕刻产品的重量。
在本发明的一种实施例中，所述防滑层为橡胶防滑层。
在本发明的一种实施例中，所述工作区和防滑层上的通孔105为菱形。
在本发明的一种实施例中，所述机械手7的末端设有若干个吸盘（图中未示出），用于吸附待雕刻的产品。
综上所述，本发明的工作原理是：
本发明的一种雕刻机，在工作台上设置检测区和工作区；首先将待雕刻的产品放置在检测区，利用工业摄像机来检查待雕刻产品的表面平整度；然后利用机械手将待雕刻的产品从检测区移动到工作区，且工作区上设有若干个通孔，用于配合清洁毛刷将被雕刻物件上的碎屑清理到工作台面下的收纳箱，完成产品的表面清洁，且本发明占地面积小，结构简单，具有很好的推广应用前景。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。