光敏组合物及其用途的制作方法

专利名称：光敏组合物及其用途的制作方法
技术领域：
本发明涉及提高某些光致抗蚀剂聚合物组合物的显影特性而不有损于它们的分辩性能。本发明在实现高高宽比图案化方面特别重要，不会在构图的区域留下光致抗蚀剂残余物或浮渣。
背景技术：
在制造构图的结构中，如晶片级封装，随着互连体密度升高，电互连体的电化学沉积已被使用。例如，参见Solomon，Electrochemically Deposited Solder Bumps for Wafer-LevelPackaging，Packaging/Assembly，Solid State Technology，84-88页，2001年4月；其公开内容在此参考引入。晶片级封装产生一种芯片/模具/器件结构，易于直接组装到最终的基材或最终的体系平台上。晶片级封装用于在有源电路上将电互连体制成一个集成电路并随着芯片上输入和输出(I/O)的密度上升而特别重要。
晶片级封装流程使用的是被称作再分配的技术，就是将外围焊盘(pad)与晶片表面上焊料突点的区域阵列连接起来。用再分配进行晶片级封装的基本顺序包括产生一个互连体的层面，该层面定义了一个与外围粘合焊盘连接的下突点焊盘。下突点焊盘通过介电层中的通路而曝光。然后整个晶片收到一个下突点金属(UBM)叠层，该叠层在扩散阻挡层和粘附层顶部提供一个电镀籽层。电镀掩模在光致抗蚀剂中形成，可以从大约1μm-超过200μm的厚度范围，但是一般为25-125μm厚。超过大约100μm-大约125μm的层一般进行两次涂覆。在使用较厚的光致抗蚀剂的情况下焊料突点在通孔内电镀。当厚度＜50μm时焊料突点一般在光致抗蚀剂上部电镀(过电镀或蕈状电镀)。光致抗蚀剂然后汽提和将UBM在没有被焊料突点覆盖的地方蚀刻掉。最后，将突点回流，使得它们重新形成为截顶的球状。
在先进的互连技术中，用于在晶片级封装中再分配的金突点、铜接线柱和铜丝需要后来被电镀形成最后的金属结构的抗蚀剂模具。与用于IC制造中的光致抗蚀剂相比该抗蚀剂层非常厚。特征尺寸和抗蚀剂厚度一般在5μm-100μm，所以高高宽比(抗蚀剂厚度线性尺寸)必须在光致抗蚀剂中被构图。
如果向这里的组合物加入颜料，本发明的光致抗蚀剂还具有在平板显示器中的用途。
至于光致抗蚀剂，用于成像的可光聚合的组合物在本技术领域已久为人知。例如，US专利No.2,760,863建议在印刷板制备中使用可光聚合的组合物。最近，类似的组合物已被建议用于印刷业中的颜色防护体系。从那时起，已有各种各样的该类可光聚合的组合物被描述并且可光聚合的组合物现在已被用于微光刻。
图案是通过光刻技术将抗蚀剂材料图像式曝光于辐射而形成。所用的辐射通常是X射线、UV辐射、电子束辐射或离子束辐射。
本发明的组合物是负性光致抗蚀剂组合物。负性光致抗蚀剂组合物被图像式曝光于辐射，曝光于辐射的抗蚀剂组合物的区域对显影剂溶液的可溶性变差(如交联反应发生)，而光致抗蚀剂涂层未曝光的区域对该溶液保持相对可溶。这样用显影剂处理曝光的负性抗蚀剂导致光致抗蚀剂涂层未曝光区域的去除和在涂层中产生负像，从而露出光致抗蚀剂组合物沉积于其上的底层基材表面所需要的部分。
水性可显影可光聚合组合物对于负性光致抗蚀剂组合物特别重要。该组合物的聚合物粘合剂可以含有酸官能度以便粘合剂组合物可溶于碱性水溶液和从而使得可光聚合的组合物在碱性水溶液中可显影。
在文献中，羧酸官能化的丙烯酸聚合物用作粘合剂聚合物，为确保成像图案的物理性能，使用高分子量的聚合物，它们可以产生较慢的显影速率。
可光聚合的化合物一般是烯属不饱和单体和/或短链低聚体，它们将通过光引发的自由基聚合交联和形成所希望的不溶图案。
但是，已经观察到显示出可接受的显影速率的可光聚合的配方在显影为成像或构图的区域后有光致抗蚀剂残余物或浮渣存在和/或降低了图像分辨率，特别是当图案相对较厚(如大于50μm)时。
发明概述本发明提供用于负性抗蚀剂和对成像辐射敏感的组合物。本发明的组合物一般显示出良好的分辨率及提高的清洁显影而不会有损于显影速度到不希望的程度。
本发明涉及一种组合物，包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的亲水性聚环氧烷单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂。
根据本发明优选的组合物还可以包括一种或多种选自至少一种胺改性的丙烯酸低聚体、染料、粘合促进剂、均化剂、光敏剂、溶剂等的组分。
本发明还涉及一种形成光致抗蚀剂图案的方法。该方法包括1)在一个基材上提供一个光致抗蚀剂组合物的层，该组合物包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂；2)在图案中将该层图像式曝光于光化辐射从而引起曝光处光致抗蚀剂溶解度的变化；和3)显影光致抗蚀剂从而形成图案。
本发明另一方面涉及在一个基材上形成图案。该方法包括1)在一个基材上提供一个抗蚀剂组合物的层，该组合物包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂；2)将抗蚀剂组合物层图像式曝光于辐射；3)显影抗蚀剂形成所希望的通孔图案；4)在通孔中沉积导电材料以形成电互连体的所希望的图案；和
5)去除抗蚀剂。
在上述方法中，a)可优选是一种如下所述的化合物和b)可选自如下所述的烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体。
在本发明中，a)优选是选自如下物质的化合物(i)具有下式的化合物 其中R1和R2可以相同或不同，和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-20烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代，R7a和R7b的每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70，其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地是选自O，S或NR100，其中R100是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和每一个独立地选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；和R40是可与[ ]j，[ ]k，[ ]e，和/或[ ]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[ ]j，[ ]k，[ ]e，和/或[ ]t确定的那些部分；和j，k，e，t，和z分别是整数，使得j，k，e，t，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，z，e和/或t可以是0；(ii)具有下式的化合物
其中g是3-10的整数和X是如上所述；和(iii)具有下式的化合物 其中f是3-10的整数；R14和R15可以相同或不同和分别独立地可以选自氢和C1-20烷基，其中所述C1-20烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代；和X是如上所述。
更优选地，a)是具有下式结构的化合物(i) 其中R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t分别不是0，和z是0；或R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个不是0；和R40是 其中[ ]z中的R3和[ ]z中的R5是氢，[ ]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[ ]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0；或R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个分别是0。
烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体b))优选选自二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙烯酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙基酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯。
对于c)来说，非离子表面活性剂优选选自烷氧基化醇、烷氧基化烷基酚或它们的混合物，更优选烷氧基化的醇和更优选用大约5-12mol的环氧乙烷乙氧基化的C8-12醇。
对于d)来说，优选使用两种或多种光引发剂。
更优选的组合物包括至少一种胺改性的丙烯酸低聚体、均化剂和一种或多种溶剂。
发明详述本发明提供可用于负性抗蚀剂和对成像辐射敏感的组合物。本发明的组合物一般显示良好的分辨率及提高的清洁显影而不会有损于显影速度到不希望的程度。
本发明涉及一种组合物，包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂。
根据本发明优选的组合物还可包括一种或多种选自至少一种胺改性的丙烯酸低聚体、染料、粘合促进剂、均化剂、光敏剂、溶剂等的组分。
本发明还涉及一种形成光致抗蚀剂图案的方法。该方法包括1)在一个基材上提供一个光致抗蚀剂组合物的层，该组合物包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂；
2)在图案中将该层图像式曝光于光化辐射从而引起曝光处光致抗蚀剂溶解度的变化；和3)显影光致抗蚀剂从而形成图案。
本发明另一方面涉及在一个基材上形成图案。该方法包括1)在一个基材上提供一个抗蚀剂组合物的层，该组合物包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂；2)将抗蚀剂组合物层图像式曝光于辐射；3)显影抗蚀剂形成所希望的通孔图案；4)在通孔中沉积导电材料以形成电互连体的所希望的图案；和5)去除抗蚀剂。
在上述方法中，a)可优选是一种如下所述的化合物和b)可选自如下所述的烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体。
本发明的组合物包括a)一种含有至少两个侧挂的不饱和反应基团的可光聚合的化合物作为一种组分。侧挂的不饱和反应基团的一个例子是乙烯基团。
文献中可以找到很多该类化合物和a)可光聚合的化合物可进一步描述为选自如下物质的化合物(i)具有下式的化合物 其中R1和R2可以相同或不同，和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链稀基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代，R7a和R7b的每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70，其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地是选自O，S或NR100，其中R100是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和每一个独立地选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；和R40是可与[ ]j，[ ]k，[ ]e，和/或[ ]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[ ]j，[ ]k，[ ]e，和/或[ ]t确定的那些部分；和j，k，e，t，和z分别是整数，使得j，k，e，t，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，z，e和/或t可以是0；(ii)具有下式的化合物 其中g是3-10的整数和X是如上所述；和(iii)具有下式的化合物 其中f是3-10的整数；R14和R15可以相同或不同和分别独立地可以选自氢和C1-20烷基，其中所述C1-20烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代；和X是如上所述。
更优选地，a)是具有下式结构的化合物(i) 其中R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t分别不是0，和z是0；或R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个不是0；和R40是 其中[ ]z中的R3和[ ]z中的R5是氢，[ ]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[ ]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0；或R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个分别是0。
上述(i)的单体的例子包括酸官能和非酸官能的单体，例如，和并非局限于，丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、马来酸酐、富马酸、富马酸酐、柠檬酸、柠檬酸酐、衣康酸、衣康酸酐、乙烯基羧酸、2-丙烯酸酰胺基-2-甲基丙磺酸、2-羟基乙基烯丙酰磷酸酯，2-羟基丙基烯丙酰磷酸酯、2-羟基-α-烯丙酰磷酸酯等；丙烯酸的酯类，例如，丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸羟基乙基酯、丙烯酸羟基乙基酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙基酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸2-羟基丁酯、丙烯酸3-羟基丁酯、丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丁酯、甲基丙烯酸3-羟基丁酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲氧基丙二醇丙烯酸酯、甲氧基丙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基二甘醇丙烯酸酯、甲氧基二甘醇甲基丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇甲基丙烯酸酯、丙烯酸异冰片基酯、甲基丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸二环戊二烯基酯、甲基丙烯酸二环戊二烯基酯、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙基酯、甲基丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸甲瓦龙酸内酯、甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯，甲基丙烯酸异金刚烷基酯、3-羟基-1-甲基丙烯酰氧基金刚烷、3，5-二羟基-1-甲基丙烯酰氧基金刚烷、β-甲基丙烯酰氧基-γ-丁内酯、α-甲基丙烯酰氧基-γ-丁内酯、二丙烯酸1，5-戊二醇酯、丙烯酸N，N-二乙基氨基乙基酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1，3-丙二醇酯、二丙烯酸癸二醇酯、二甲基丙烯酸癸二醇酯、二丙烯酸1，4-环己二醇酯、2，2-二羟甲基丙烷二丙烯酸酯、二丙烯酸甘油酯、二丙烯酸三丙二醇酯、三丙烯酸甘油酯、2，2-二(对-羟基苯基)-丙烷二甲基丙烯酸酯、二丙烯酸三甘醇酯、聚氧乙基-2-2-二(对-羟基苯基)-丙烷二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸三甘醇酯，聚氧丙基三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸丁二醇酯、二甲基丙烯酸1，3-丙二醇酯、三甲基丙烯酸1，2，4-丁三醇酯、二甲基丙烯酸2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇酯、三甲基丙烯酸季戊四醇酯、1-苯基亚乙基-1，2-二甲基丙烯酸酯、四甲基丙烯酸季戊四醇酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸1，5-戊二醇酯、1，4-苯二酚二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-乙酰乙酰氧基乙基酯、丙烯酸2-乙酰乙酰氧基乙基酯、甲基丙烯酸3-乙酰乙酰氧基丙基酯、丙烯酸3-乙酰乙酰氧基丙基酯、甲基丙烯酸2-乙酰乙酰氨基乙基酯、和丙烯酸2-乙酰乙酰氨基乙基酯；芳族乙烯基化合物，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、邻-甲氧基苯乙烯、间-甲氧基苯乙烯、对-甲氧基苯乙烯、邻-乙烯基甲苯、间-乙烯基甲苯、对-乙烯基甲苯、邻-乙烯基苄基甲基醚、间-乙烯基苄基甲基醚、对-乙烯基苄基甲基醚、邻-乙烯基苄基缩水甘油基醚、间-乙烯基苄基缩水甘油基醚、对-乙烯基苄基缩水甘油基醚、乙酰氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、溴苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲基酯等、二乙烯基苯、和乙烯基甲苯和乙烯基酯，如丙烯酸乙烯酯和甲基丙烯酸乙烯酯等。
术语“芳基”指的是由芳烃通过消除一个氢原子衍生得到的基团和可以被取代或未取代。芳烃可以是单核的或多核的。单核型芳基的例子包括苯基、甲苯基、二甲苯基、基、枯烯基等。多核型芳基的例子包括萘基、蒽基、菲基等。芳基可以具有至少一个选自例如卤素、羟基、氰基、羧基、硝基、氨基、低级烷基、低级烷氧基等的取代基。
这里所用的术语“烷芳基”指的是带有一个烷基的芳基；术语“芳烷基”指的是带有一个芳基的烷基；术语“芳烷基芳基”指的是带有一个带有芳基的烷基的芳基。
术语“碳环”指的是未取代的或取代的、饱和的、不饱和的或芳族的烃环基团。碳环是单环的或稠合的、桥连的或螺多环体系。例子包括降冰片烯、金刚烷和四环十二碳烯。碳环上的取代基可以是脂肪族或环脂族烷基、酯、酸、羟基、腈、烷基衍生物等。
这里所用的“芳烷氧基”是具有一个芳烷基取代基的氧基团。
这里所用的“芳氧基”是具有一个芳基取代基的氧基团(即-O-芳基)。
(ii)的那些可以由酚或其衍生物和甲醛的缩合产物制得。(ii)和(iii)的那些更充分地描述于US专利No.3,825,430。
本发明组合物的a)可光聚合的化合物优选是中等分子量的低聚体或低分子量聚合物。低聚体或聚合物的重均分子量一般大约20,000或更低；更一般的是大约2,000-大约20,000和优选大约2,000-大约10,000。较低分子量具有的好处是更易溶和从而在未曝光区域更快和更清洁地显影。
a)可光聚合的化合物的例子包括已用烯属不饱和度，优选丙烯酸或甲基丙烯酸官能度部分酯化了的苯乙烯/马来酸酐低聚体。典型的苯乙烯/马来酸酐低聚体是苯乙烯和马来酸酐的共聚物，摩尔比大约1∶1，但是也可以从1∶4-4∶1。苯乙烯/马来酸酐低聚体可以以例如SMA-1000、SMA-2000和SMA-3000(Sartomer Company)得到和描述于US专利No.3,825,430；4,820,773和6,074,436中，与该苯乙烯/马来酸酐树脂相关的内容参考引入。苯乙烯/马来酸酐低聚体然后可以与，例如，羟基烷基烯丙酰基或HO-X反应，其中X如上述定义(其例子包括丙烯酸羟基乙酯、甲基丙烯酸羟基乙酯、丙烯酸羟基丙酯、甲基丙烯酸羟基戊酯)。此类反应描述于，例如，US专利No.3,825,430中。苯乙烯/马来酸酐半酯低聚体也可以从Sartomer公司得到，商品名为SARBOX。
a)可光聚合物化合物的其它例子包括在US专利No.4,722,947；4,745,138；和5,137,952中找到的那些。
组合物中a)可光聚合的化合物的量从大约30-大约55％重量，和更典型地从大约35-大约50％重量。
本发明的组合物还含有b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体，典型地通过光引发自由基聚合反应交联形成所希望的不溶图案。聚环氧烷片段一般应当足够长以具有一定程度的水溶解度，而不能太长而危及交联物质的物理化学性质使得不能承受后成像工艺如金属电镀。这里，环氧烷指的是环氧乙烷或环氧丙烷和聚-意思是1或多个，例如1-100，更优选2-10。
亲水性聚环氧烷单体一般具有多(就是2或多个)α，β-烯属不饱和官能和2-10个环氧乙烷或环氧丙烷单元。在这些单体中，α，β-烯属不饱和部分，典型地丙烯酸或甲基丙烯酸单元，用环氧烷单元酯化。环氧乙烷和/或环氧丙烷单元赋予单体亲水性和因此与水性显影剂更好地相容。环氧乙烷单元比环氧丙烷单元优选是由于它们更亲水。如果使用环氧丙烷单元，一般比用环氧乙烷单元每单体分子使用更大量的该单元。
所述至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体的例子包括，但不局限于，二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯等。前述的例子可由Sartomer Company(Exton，PA)得到。亲水性聚环氧烷单体另外的例子可在US专利No.3,368,900，3,380,831和4,180,474中找到。
组合物中存在的亲水性聚环氧烷单体的量是大约5-大约35％重量，和更典型地在组合物中大约10-大约20％重量。
本发明的组合物还包含c)至少一种非离子表面活性剂。表面活性剂被认为促进了水性显影剂对疏水性抗蚀剂的润湿和供给无残余物图案。
非离子表面活性剂的例子包括，但不局限于，烷基乙氧基化的表面活性剂、嵌段共聚物表面活性剂、和脱水山梨糖醇酯表面活性剂以及本领域熟练技术人员所熟知的那些。
一种非离子表面活性剂是烷基烷氧基化的表面活性剂，如环氧乙烷或环氧丙烷与脂肪醇、脂肪酸、脂肪胺等的加成产物。任选地，环氧乙烷和环氧丙烷的混合物与脂肪醇、脂肪酸、脂肪胺的加成产物可以使用。烷氧基化的表面活性剂包括具有下面通式的化合物R8-Z-(A)sB其中R8是烷基或烷基芳基，选自伯、仲和支链烷基、伯、仲和支链链烯基，和/或伯、仲和支链烷基-和链烯基-取代的具有大约6-大约20个碳原子，优选大约8-大约18个，更优选大约10-大约15个碳原子的酚基；s是大约2-大约50的整数，优选大约2-大约20，更优选大约2-大约15；A是EO(环氧乙烷)、PO(环氧丙烷)或它们的混合物；B是氢、羧酸根基团、或硫酸根基团；和连接基Z选自-O-，-N(R)x-，-C(O)O-，-C(O)N(R)-，-C(O)N(R)-，和它们的混合物，其中R，如果存在，是R8、具有大约1-大约4个碳原子的低级烷基、聚环氧烷或氢，x是1或2。
这些非离子表面活性剂的另外的具体例子包括，特别是，环氧烷基团与有机疏水化合物，如脂肪族化合物或与烷基芳族化合物的缩合产物。非离子表面活性剂通常是有机脂肪族或烷基芳族疏水化合物和亲水的环氧乙烷基团的缩合产物。实际上任何具有羧基、羟基、带有连接到氮上的自由氢的酰胺基或氨基的疏水性化合物可以与环氧乙烷(丙烷)或与其多水合产物、聚乙二醇(或聚丙二醇)缩合形成水溶性非离子表面活性剂。
该类非离子表面活性剂的一个例子是1mol具有含6-12个碳原子的烷基的烷基酚与大约5-25mol环氧烷的缩合产物。该类非离子表面活性剂的另一个例子是1mol脂肪醇，可以是具有6-18个碳原子的伯、仲或叔醇，与1-大约10mol环氧烷的缩合产物。优选的环氧烷是环氧乙烷或环氧丙烷，它们可以单独存在或者两者共存。
典型的烷氧基化醇是非离子烷氧基化伯或仲醇，和可用下式表示(Z是-O-和B是H) 其中R8是C10-18伯、仲或支链烷基和s是3-50的整数。
非离子表面活性剂的其他例子包括伯和仲线性和支化的醇乙氧基化物，如另外包括每mol醇平均2-80mol乙氧基化的基于C6-C18醇的那些。这些非离子表面活性剂的例子以Neodol可得(这，例如，包括含有大约9-15个碳原子的高级脂肪族伯醇，如与4-10mol环氧乙烷缩合的C9-11链烷醇(Neodol 91-8或Neodol 91-5)，与6.5mol环氧乙烷缩合的C12-13链烷醇(Neodol 23-6.5)，与12mol环氧乙烷缩合的C12-15链烷醇(Neodol 25-12)，与13mol环氧乙烷缩合的C14-15链烷醇(Neodol 45-13)等)(Shell Chemcal Company，Houston，TX)或Genapol系列(这，例如，包括与1mol环氧乙烷缩合的C12-16线性醇(Genapol 24-L-3)；与1.6mol环氧乙烷缩合的C12-16线性醇(Genapol 26-L-1.6)；与2mol环氧乙烷缩合的C12-16线性醇(Genapol 26-L-2)；与3mol环氧乙烷缩合的C12-16线性醇(Genapol26-L-3)；与3mol环氧乙烷缩合的C12-16线性醇(Genapol 24-L-5)及与不同量的环氧乙烷缩合的C12-16线性醇以提供表面活性剂的具体的浊点(即Genapol 26-L-60，Genapol 26-L-60N和Genapol 26-L-98N)(Clariant Corporations，Charlotte，NC)。
其他例子包括仲C12-15醇乙氧基化物，包括具有大约3-大约10mol乙氧基化的那些。这些物质可以得到，例如，Tergitol系列非离子表面活性剂(例如，与9EO(Tergitol 15-S-9)或12EO(Tergitol 15-S-12)缩合的C11-15仲链烷醇(Dow Chemical，Midland，MI)。
一些其他典型的烷氧基化醇包括ICONOLTM乙氧基化癸醇(氧化物含量为4-6mol的EO)，ICONOL乙氧基化十三烷醇(氧化物含量为3-10mol的EO)，Macol月桂醇乙氧基化物(氧化物含量为4-23mol的EO)，PlurafacA系列硬脂酰醇乙氧基化物(氧化物含量为25-50mol的EO)(BASF Corporation)，DETROLTMOC烷基乙氧基化物(Dexter Chemical L.L.C.)，和TRITONTM醇烷氧化物(Rohm & Haas)。其他例子示于实施例。
典型的烷氧基化烷基酚由下面通式表示(Z是-O-和B是H) 其中R8是C8-18伯，仲或支链烷基取代的酚基，s是2-50的整数和A代表环氧乙烷，环氧丙烷和其结合。
烷氧化的烷基酚的例子包括ICONOLTM壬基苯酚乙氧基化物，Macol和IconolTM辛基苯酚乙氧基化物，(BASF Corporation)，DEXTROLTMOC烷基酚乙氧基化物(Dexter Chemical L.L.C.)，和TERGITOLTM壬基苯酚乙氧基化物(Dow Chemical Company)。其他例子包括Igepal CO-730，Igepal CO-720，Igepal CO-710，Igepal CO-660，Igepal CO-620和Igepal CO-610，均为聚乙氧基化壬基苯酚和和Igepal CO-530和Igepal CO-520，两种为乙氧基化壬基苯酚，来自Rhodia Corp.；Alkasurf NP-15，Alkasurf NP-12，Alkasurf NP-11，Alkasurf NP-10，Alkasurf NP-9，和Alkasurf NP-8，均为聚乙氧基化壬基苯酚和Alkasurf NP-6，Alkasurf NP-5，和Alkasurf NP-4，均为乙氧基化壬基苯酚，来自Alkaril Chemicals；Surfonic N-120，Surfonic N-102，Surfonic N-100，Surfonic N-95，和SurfonicN-85，均为聚乙氧基化壬基苯酚和Surfonic N-60和SurfonicN-40，两种均为乙氧基化壬基苯酚，来自Texaco Chemical Co.。其他例子还可参见McCutcheon′s Emulsifiers and Detergents(2002)。
非离子表面活性剂的其他例子包括环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共聚物。适合的嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯聚合物表面活性剂包括基于乙二醇、丙二醇、甘油、三羟甲基丙烷和乙二胺作为初始的反应性氢化合物的那些。命名为Pluronic和Tetronic(BASF Corp.，Mt.Olive，NJ)的某些嵌段聚合物表面活性剂化合物很容易得到。
Pluronic表面活性剂具有通式H(EO)n(PO)m(EO)nH，其中EO是环氧乙烷基团，PO是环氧丙烷基团，n和m是表示表面活性剂中基团平均数的值。典型的例子是n是大约3-43时，m是大约16-59，平均分子量大约1800-大约4700，和它们的混合物。
Tetronic表面活性剂具有通式[H(EO)n(PO)m]2-NCH2CH2N-[(PO)m(EO)nH]2，其中EO，PO，n和m具有与上述相同的含义。
″逆向″Pluronic和Tetronic表面活性剂具有下面通式逆向Pluronic表面活性剂H(PO)m(EO)n(PO)mH和逆向Tetronic表面活性剂[H(PO)m(EO)n]2-NCH2CH2N-[(EO)n(PO)mH]2，其中EO，PO，n和m具有与上述相同的含义。
非离子表面活性剂的另一例子包括长链脂肪酸的脱水山梨糖醇酯，长链脂肪酸包括具有14-26个碳原子，理想地16-22个碳原子的长链脂肪酸残基的那些。另外，长链脂肪酸的脱水山梨糖醇聚酯的酯化度理想地为2.5-3.5，特别是2.8-3.2。长链脂肪酸的这些脱水山梨糖醇聚酯典型的例子是脱水山梨糖醇三棕榈酸酯，脱水山梨糖醇三油酸酯，和脱水山梨糖醇动物脂肪酸三酯。其他适合的脱水山梨糖醇酯表面活性剂包括脱水山梨糖醇脂肪酸单酯和三酯，及聚乙氧基化的脱水山梨糖醇脂肪酸酯。
非离子表面活性剂优选选自烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚或它们的混合物，更优选烷氧基化醇和更优选用大约5-12mol的环氧乙烷乙氧基化的C8-12醇。
组合物中存在的c)至少一种非离子表面活性剂的量大约0.01-大约4％重量和更典型的在组合物中大约0.2-大约1％重量。
本发明的组合物还含有d)至少一种光引发剂。适合的光引发剂包括，例如，9-苯基吖啶，9-苯基吖啶同系物(如U.S.专利5,217,845中所述的那些，这里参考引入；其例子包括2，7-二苯甲酰基-9-苯基吖啶，2，7-双(α-羟基苄基)-9-苯基吖啶，2，7-双(α-乙酸基苄基)-9-苯基吖啶，2，7-二甲基-9-(4-甲基苯基)吖啶，2，7-二甲基-9-苯基吖啶，2，7-双(3，4-二甲基苯甲酰基)-9-(3，4-二甲基苯基)吖啶，2，7-双(α-乙酸基-4-叔丁基苄基)-9-(4-叔丁基苯基)吖啶，2，7-二甲基-9-(3，4-二氯苯基)吖啶，2，7-二甲基-9-(4-苯甲酰基苯基)吖啶，2，7-双(2-氯苯甲酰基)-9-(2-氯苯基)吖啶，2-(α-羟基-3-溴苄基)-6-甲基-9-(3-溴苯基)吖啶，2，5-双(4-叔丁基苯甲酰基)-9-(4-叔丁基苯基)吖啶，1，4-双(2，7-二甲基-9-吖啶基)苯，2，7-双(α-苯基氨基羰基氧基-3，4-二甲基苄基)-9-(3，4-二甲基苯基)吖啶和2，7-双(3，5-二甲基-4-羟基-4′-氟二苯基甲基)-9-(4-氟苯基)吖啶)，偶姻类(例如苯偶姻，新戊偶姻等)，偶姻醚(如苯偶姻甲基醚，苯偶姻乙基醚，苯偶姻丙基醚等)，α-二酮化合物或它们的单酮缩醇衍生物(例如联乙酰化合物，偶苯酰，苄基二甲基酮缩醇等)，氢夺取型引发剂(例如占吨酮，噻吨酮，2-异丙基噻吨酮，4-异丙基噻吨酮，2-氯噻吨酮，2-甲基噻吨酮，苯偶酰，二苯酮，乙酰苯，2，2-二乙氧基乙酰苯，2-羟基-2-甲基苯基.乙基酮，4-异丙基-2-羟基-2-甲基苯基.乙基酮，和1，1-二氯乙酰苯，4，4′双(N，N′-二甲基氨基)二苯酮，多核醌类(例如，9，10-蒽醌，9，10-菲醌，2-乙基蒽醌，1，4-萘醌)等)，酰基氧化膦等，及它们中任何两种或多种的混合物。光引发剂另外的例子包括2，4-双-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-s-三嗪，2，4-双-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)-苯基-s-三嗪，2，4-双-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-s-三嗪，2，4-双-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-s-三嗪，双(环戊二烯基)-双[2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)苯基]钛，双(环戊二烯基)双[2，6-二氟-2-(吡咯-1-基)苯基]钛，双(环戊二烯基)-双(2，3，4，5，6-五氟苯基)钛，双-(环戊二烯基)-双[2，5-二氟-3-(吡咯-1-基)苯基]-钛，1-羟基环己基苯基酮，2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮，2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮，2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮，2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮，2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦，1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮，2，4-二乙基噻吨酮，2，4-二甲基噻吨酮，1-氯-4-丙氧基噻吨酮，3，3-二甲基-4-甲氧基二苯酮，1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-十二烷基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮，4-苯甲酰基-4′-甲基二甲基硫化物，4-二甲基氨基苯甲酸，4-二甲基氨基苯甲酸甲基酯，4-二甲基氨基苯甲酸乙基酯，4-二甲基氨基苯甲酸正-丁基酯，4-二甲基氨基苯甲酸2-乙基己基酯，2-异戊基-4-二甲基氨基苯甲酸酯，2，2-二乙氧基乙酰苯，苄基β-甲氧基乙基乙缩醛，1-苯基-1，2-丙二酮-2-(邻-乙氧基羰基)肟，邻-苯甲酰基苯甲酸甲基酯，双(4-二甲基氨基苯基)酮，对-二甲基氨基乙酰苯，对-叔丁基-三氯乙酰苯，对-叔丁基-二氯-乙酰苯，二苯并环庚酮，α，α-二氯-4-苯氧基乙酰苯，4-二甲基氨基苯甲酸戊基酯，2-(邻-氯苯基)-4，5-二苯基咪唑基二聚体，α，α-二烷氧基乙酰苯，α-羟基烷基苯酮，α-氨基烷基苯酮等。优选两种或多种光引发剂的混合物。
组合物中至少一种光引发剂的量典型地大约0.01-大约4％重量和更典型地在组合物中大约0.1-大约1％重量。
根据本发明的组合物还可包含一种或多种选自染料、至少一种胺改性的丙烯酸低聚体、粘合促进剂、均化剂、光敏剂、溶剂等的组分。
本发明有用的染料的例子包括，但不局限于，那些如Kalle染料(2-二乙基氨基-4-(2，2-二氰基亚乙基)-甲苯)，来提供背景吸收以消除特别是由高反射的基材如金属反射的光化光(例如UV光)引起的显影残余。当然，具有适合的UV吸收其他的染料也可使用。一些其他染料的例子是维多利亚纯蓝FGA(CI碱性蓝81)；Neozapon坚牢红BE(CI溶剂红122)；苏丹蓝II(CI溶剂蓝35)；维多利亚氰F6G(CI 42025)；甲基紫2B(CI 42535)；结晶紫(CI 42555)；孔雀绿(CI 42000)；中性红(CI 50040)；若丹明FB(CI 45170)；若丹明6GCN Extra(CI45160)。当组合物用在具有高反射的基材上时，染料特别重要。
染料的量，如果在组合物中存在的话，典型地是大约0.005-大约0.2％重量和更优选大约0.01-大约0.1％重量。
本发明的组合物优选可包含至少一种胺改性的丙烯酸低聚体(也称作丙烯酸化的胺)作为辅助可光聚合的化合物。典型的胺改性的丙烯酸低聚体的一些例子可由，例如，下式之一表示 其中R100是C1-10烷基，-(EO)aa-，-(PO)aa-或 其中EO是环氧乙烷，PO是环氧丙烷，aa是1-10的整数，R500和R600分别可以相同或不同和分别独立地是C1-10烷基；R200是氢或C1-6烷基，和R300和R400分别可以相同或不同和分别独立地是氢或C1-18烷基，其中所述烷基是未取代的或被至少一种选自卤烷基，C1-4烷氧基，羧基，氨基，羟基，芳基，磺酰基，烷氧基羰基，氨基羰基的成员所取代；和w是1-10的整数。胺丙烯酸低聚体典型地具有的分子量大约200-大约2,000。胺丙烯酸低聚体还可含有聚环氧烷部分。市场上可得的胺改性丙烯酸低聚体的一些例子包括Ebecryl81，Ebecryl83，Ebecryl7100(UCB Chemicals，Smyrna，GA)，LaromerPO 77F(LR8946)，LaromerPO 94F(LR8894)，LaromerLR8956，LaromerLR8996(BASF，Mt.Olive，NJ)，Actilane 584，Actilane 587，Actilane 595(Akcros Chemicals，a division of Akzo Nobel NV)和CN501，CN502，CN550，CN551，CN371，CN381，CN383，CN384，CN385(Sartomer Company，Exton，PA)。
胺改性的丙烯酸低聚体，如果在组合物中存在的话，典型地为大约0.1-大约20％重量和更典型地大约0.5-大约10％重量。
溶剂的例子包括，例如，二醇醚衍生物如乙基溶纤剂，甲基溶纤剂，丙二醇单甲基醚，二甘醇单甲基醚，二甘醇单乙基醚，二丙二醇二甲基醚，丙二醇正丙基醚或二甘醇二甲基醚；二醇醚酯衍生物如乙基乙酸溶纤剂，甲基乙酸溶纤剂或丙二醇单甲基醚乙酸酯；羧酸酯如乙酸乙酯，乙酸正丁酯和乙酸戊酯；二元酸的羧酸酯如二乙氧基化物和二乙基丙二酸酯；二醇的二羧酸酯如乙二醇二乙酸酯和丙二醇二乙酸酯；和羟基羧酸酯如乳酸甲基酯，乳酸乙基酯，甘醇酸乙基酯和3-羟基丙酸乙基酯；酮酯如丙酮酸甲基酯或丙酮酸乙基酯；烷氧基羧酸酯如3-甲氧基丙酸甲基酯，3-乙氧基丙酸乙基酯，2-羟基-2-甲基丙酸乙基酯，或甲基乙氧基丙酸酯；酮衍生物如甲基乙基酮，乙酰丙酮，环戊酮，环己酮或2-庚酮；酮醚衍生物如双丙酮醇甲基醚；酮醇衍生物如丙酮醇或双丙酮醇；内酯如丁内酯；酰胺衍生物如二甲基乙酰胺或二甲基甲酰胺，苯甲醚和它们的混合物。溶剂的量，如果在组合物中存在的话，典型地大约30-大约80％重量。
粘合促进剂的例子包括苯并三唑和苯并三唑衍生物如羧基苯并三唑。苯并三唑衍生物的其他例子可在US专利No.4,428,987中找到。粘合促进剂另外的例子包括酰胺如二异丙基乙酰胺和有机硅烷材料，例如，AP115，来自Silicon Resources(Chandler，AZ)的一种有机硅烷。作为适合的粘合促进剂的有机硅烷材料的其他例子包括但不局限于N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷，N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷，N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷，3-氨基丙基三甲氧基硅烷，3-氨基丙基三乙氧基硅烷，3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1，3-二甲基-亚丁基)丙基胺，N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷，11-氨基十一烷基三甲氧基硅烷，3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷，3-氨基丙基二甲基乙氧基硅烷，3-(1-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三甲氧基硅烷，6-(氨基己基氨基丙基)三甲氧基硅烷，双3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基二亚乙基二胺，三甲氧基甲硅烷基丙基二亚乙基三胺，(氨基乙基氨基甲基)苯乙基三甲氧基硅烷，3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷，甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，苯基三乙氧基硅烷，对-氨基苯基-三乙氧基硅烷，β-(3，4-环氧-环己基)-乙基三甲氧基硅烷；甲基丙烯酸对-甲基-二硅烷-甲基酯；乙烯基三氯硅烷和四甲基二乙烯基二硅氮烷。
适合的均化剂的例子包括表面活性剂如氟化表面活性剂，包括基于氟硅氧烷的非离子表面活性剂(Megafac R-08，Dainippon InkChemical Co.的产品)。另外的非限制性碳氟化合物表面活性剂包括氟化烷基聚氧化烯和氟化烷基酯。这些化合物的代表性结构如下RfR(R1O)xR2(1)RfR-OC(O)R3(2)其中Rf含有大约6-大约18个碳原子，每个连接大约0-大约3个氟。R是烷基或环氧烷基，如果存在，具有大约1-大约10个碳原子和R1表示具有大约1-大约4个碳原子的亚烷基，R2是氢或具有大约1-大约3个碳原子的小的烷基封端基团。R3代表含有包括酯基上的碳大约2-大约22碳原子的烃部分。该烃可以是线性的、支化的或环状的饱和或不饱和的并可以是未取代的或取代的。这些结构的非限制性的商品上可得的例子包括DuPont的Zonyl 9075，FSO，FSN，FS-300，FS-310，FSN-100，FSO-100，FTS和TBC以及位于明尼苏达St.Paul的3M Company的Fluorad表面活性剂FC-430，FC-431，FC-740，FC170C和FC-171。
当均化剂与本发明的组合物一起使用时，其典型的存在量为大约0.001-大约1％重量，更优选大约0.01-大约0.5％重量。
制备的光致抗蚀剂组合物溶液可通过光致抗蚀剂领域所用的任何常规的方法被施涂于基材上，包括浸涂、喷涂、涡涂(whirling)和旋涂。旋涂时，例如，抗蚀剂溶液可调节固含量的百分比，以提供所希望的涂层厚度，只要所用旋涂设备的类型和时间允许用于旋涂方法。适合的基材包括但不局限于金属如钨、金、铜、钛、铂和镍。光致抗蚀剂也可以涂覆在抗反射涂层上。
光致抗蚀剂组合物溶液然后涂覆在基材上，基材在大约70℃-大约150℃温度下在一块电热板上处理大约30秒-大约600秒或在对流炉上处理大约15-大约90分钟。选择温度处理以降低残余溶剂在光致抗蚀剂中的浓度，但又不导致固体组分实质上的热降解。通常，人们希望使溶剂浓度最小化，上述温度处理一直进行到基本上所有的溶剂都蒸发和厚度大约10-125μm数量级的光致抗蚀剂组合物的涂层保留在基材上。在一个优选的实施方案中，温度为大约95℃-大约120℃。进行处理直到溶剂除去的变化速率变得相对可忽略。温度和时间选择取决于用户所希望的光致抗蚀剂性能，以及所用的设备和工业上所希望的涂覆时间。涂覆的基材然后可以以通过使用适合的掩模、负片、镂花模板、模板等产生的任何所希望的图案图像式曝光于光化辐射，如波长大约300nm-大约500nm的紫外辐射，X-射线、电子束、离子束或激光辐射。
光致抗蚀剂可以任选地在显影前经受曝光后二次焙烧或热处理。加热温度为大约90℃-大约150℃，和更优选大约100℃-大约130℃。加热在电热板上可进行大约30秒-大约2分钟，更优选大约60秒-大约90秒或通过对流炉进行大约30-大约45分钟。
通过浸入到显影溶液中或通过喷雾显影法显影曝光的光致抗蚀剂涂覆的基材显影除去未曝光的区域。溶液优选通过，例如，氮气流而搅动。基材可以保留在显影剂中直到所有的光致抗蚀剂涂层从未曝光的区域溶解。显影剂包括氢氧化铵或碱金属氢氧化物的水溶液。一个优选的显影剂是四甲基氢氧化铵的水溶液。从显影溶液中除去构图案的基材后，可以进行任选的后显影热处理或焙烧以提高涂层的粘合性和对后成像处理的耐化学性。后显影热处理可包括在涂层的软化点之下电热板或炉子焙烧涂层和基材或UV硬化法。
下面具体的实施例提供了生产和利用本发明的组合物的方法的证明。但是，这些实施例并不是要以任何方式限制或限定本发明并且不应把这认作为提供了实践本发明必须排他性的使用的条件、参数或数值。除非另有说明，所有的份和百分比都是按重量计算。
计量的组分在适当的条件下没有特定或统一的顺序加入到合适尺寸的容器中，这表明各成分的加入次序不是很严格。所有的成分在室温下供应。实施例配方的组成列于表1。表1中所列的量是“照现原样的”(和从供应商那里所接到的一样)。这里所述用于生产各种配方的组分的来源公开于下面表2，包括每个不是100％重量的成分的“活性”百分比。


抗蚀剂的样品(实施例1到实施例7)旋涂于镀铜的4”硅片表面上到60μm厚并在110℃焙烧10分钟以驱除溶剂。硅片用Perkin Elmer340校准器在700-1000mJ/cm2的能量下曝光。显影在0.261N的四甲基氢氧化铵水溶液中进行(3×60秒搅炼)。显影的抗蚀剂显示出良好的分辨率、清洁的显影、正确的轮廓和加热到120℃没有热流。当用缓冲的0.12N的氢氧化钾水溶液(3×60秒搅炼)，或缓冲的0.08N的氢氧化钾水溶液(4×60秒搅炼)显影曝光的抗蚀剂时预期有类似的结果。
本发明的上述说明书阐明和描述了本发明。另外，公开的内容显示和描述的仅仅是本发明优选的实施方案，但是，如上所述，应当理解本发明能够在各种其他结合、更改和环境下使用，并且能够在这里所述的与上述教导和/或相关技术领域的技能或知识相当的本发明构思的范围内改变或更改。上述实施方案进一步的意图是解释实践本发明已知的最好的模式和使本领域其他技术人员能够在那些实施方案或其它实施方案中和在特别应用领域或本发明的用途所要求的各种更改之内利用本发明。因此，说明书不是要将本发明限制于这里所公开的形式。其意图还在于所附权利要求书要认为是包括了替代的实施方案。
权利要求
1.一种组合物，包括a)含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；c)至少一种非离子表面活性剂；和d)至少一种光引发剂。
2.权利要求1的组合物，其中对于a)，侧挂的不饱和基团是乙烯基。
3.权利要求2的组合物，其中a)是选自如下物质的化合物(i)具有下式的化合物 其中R1和R2可以相同或不同，和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代，R7a和R7b的每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70，其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地是选自O，S或NR100，其中R100是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和每一个独立地选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；和R40是可与[]j，[]k，[]e，和/或[]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[]j，[]k，[]e，和/或[]t确定的那些部分；和j，k，e，t，和z分别是整数，使得j，k，e，t，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，z，e和/或t可以是0；(ii)具有下式的化合物 其中g是3-10的整数和X是如上所述；和(iii)具有下式的化合物 其中f是3-10的整数；R14和R15可以相同或不同和分别独立地可以选自氢和C1-20烷基，其中所述C1-20烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代；和X是如上所述。
4.权利要求3的组合物，其中a)是化合物(i)和R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t分别不是0，和z是0。
5.权利要求3的组合物，其中a)是化合物(i)和R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个不是0；和R40是 其中[]z中的R3和[]z中的R5是氢，[]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0。
6.权利要求3的组合物，其中a)是化合物(i)和R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个分别是0。
7.权利要求3的组合物，其中b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体选自二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙烯酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙基酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯。
8.权利要求3的组合物，其中c)至少一种非离子表面活性剂是选自烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚，或其混合物。
9.权利要求8的组合物，其中c)至少一种非离子表面活性剂是烷氧基化醇。
10.权利要求3的组合物，它进一步包括至少一种胺改性的丙烯酸低聚物。
11.权利要求10的组合物，其中胺改性的丙烯酸低聚物是选自 其中R100是C1-10烷基，-(EO)aa-，-(PO)aa-或 其中EO是环氧乙烷，PO是环氧丙烷，aa是1-10的整数，R500和R600分别可以相同或不同和分别独立地是C1-10烷基；R200是氢或C1-6烷基，和R300和R400分别可以相同或不同和分别独立地是氢或C1-18烷基，其中所述烷基是未取代的或被至少一个选自卤烷基，C1-4烷氧基，羧基，氨基，羟基，芳基，磺酰基，烷氧基羰基，氨基羰基的成员所取代；和w是1-10的整数。
12.一种组合物，包括a)具有下式的可光聚合的化合物 其中R1和R2可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团所取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团所取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团所取代，R7a和R7b每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70，其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地选自O，S或NR100其中R100，是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团所取代，和R40是可以与在[]j，[]k，[]e，和/或[]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[]j，[]k，[]e，和/或[]t确定的那些部分；和j，k，和z分别是整数，使得j，k，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，和z可以是0，和e是1-25的整数；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体，选自二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙烯酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙基酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯；c)至少一种非离子表面活性剂，选自烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚，和其混合物；和d)至少一种光引发剂。
13.权利要求12的组合物，它进一步包括至少一种胺改性的丙烯酸低聚物。
14.权利要求13的组合物，其中胺改性的丙烯酸低聚物是选自 其中R100是C1-10烷基，-(EO)aa-，-(PO)aa-或 其中EO是环氧乙烷，PO是环氧丙烷，aa是1-10的整数，R500和R600分别可以相同或不同和分别独立地是C1-10烷基；R200是氢或C1-6烷基，和R300和R400分别可以相同或不同和分别独立地是氢或C1-18烷基，其中所述烷基是未取代的或被至少一个选自卤烷基，C1-4烷氧基，羧基，氨基，羟基，芳基，磺酰基，烷氧基羰基，氨基羰基的成员取代；和w是1-10的整数。
15.权利要求12的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个不是0；和R40是 其中[]z中的R3和[]z中的R5是氢，[]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0。
16.权利要求12的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10，是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t分别不是0，和z是0。
17.权利要求12的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X其中X，是-C(＝O)-R10其中R10，是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；和e，t和z每一个是0。
18.一种组合物，包括a)约30-约55重量％具有下式的可光聚合的化合物 其中R1和R2可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代，R7a和R7b每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70，其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地选自O，S或NR100其中R100，是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；和R40是可以与在[]j，[]k，[]e，和/或[]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[]j，[]k，[]e，和/或[]t确定的那些部分；和j，k，和z分别是整数，使得j，k，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，和z可以是0，和e是1-25的整数；b)约5-约35重量％至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体，选自二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙烯酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙基酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯；c)约0.01-约4重量％至少一种非离子表面活性剂，选自烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚，和其混合物；和d)约0.01-约4重量％至少一种光引发剂。
19.权利要求18的组合物，它进一步包括约0.1-约20重量％至少一种胺改性的丙烯酸低聚物。
20.权利要求19的组合物，其中胺改性的丙烯酸低聚物是选自 其中R100是C1-10烷基，-(EO)aa-，-(PO)aa-或 其中EO是环氧乙烷，PO是环氧丙烷，aa是1-10的整数，R500和R600分别可以相同或不同和分别独立地是C1-10烷基；R200是氢或C1-6烷基，和R300和R400分别可以相同或不同和分别独立地是氢或C1-18烷基，其中所述烷基是未取代的或被至少一个选自卤烷基，C1-4烷氧基，羧基，氨基，羟基，芳基，磺酰基，烷氧基羰基，氨基羰基的成员取代的；和w是1-10的整数。
21.权利要求18的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个不是0；和R40是 其中[]z中的R3和[]z中的R5是氢，[]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0。
22.权利要求18的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t不是0，和z是0。
23.权利要求18的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；和e，t和z每一个分别是0。
24.一种组合物，包括a)具有下式的可光聚合的化合物 其中R1和R2可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代，R7a和R7b每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地是选自O，S或NR100其中R100，是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和分别可以独立地选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；和R40是可以与在[]j，[]k，[]e，和/或[]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[]j，[]k，[]e，和/或[]t确定的那些部分；和j，k，e，t，和z分别是整数，使得j，k，e，t，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，和z，e和/或t可以是0；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体，选自二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙烯酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙基酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯；c)至少一种非离子表面活性剂，选自烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚，和其混合物；d)至少一种光引发剂；和至少一种胺改性的丙烯酸低聚物。
25.权利要求24的组合物，其中胺改性的丙烯酸低聚物是选自 其中R100是C1-10烷基，-(EO)aa-，-(PO)aa-或 其中EO是环氧乙烷，PO是环氧丙烷，aa是1-10的整数，R500和R600分别可以相同或不同和分别独立地是C1-10烷基；R200是氢或C1-6烷基，和R300和R400分别可以相同或不同和分别独立地是氢或C1-18烷基，其中所述烷基是未取代的或被至少一个选自卤烷基，C1-4烷氧基，羧基，氨基，羟基，芳基，磺酰基，烷氧基羰基，氨基羰基的成员取代；和w是1-10的整数。
26.权利要求24的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t分别不是0，和z是0。
27.权利要求24的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z不是0；和R40是 其中[]z中的R3和[]z中的R5是氢，[]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0。
28.权利要求24的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；和e，t和z每一个分别是0。
29.一种组合物，包括a)具有下式的可光聚合的化合物 其中R1和R2可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，2，3-环氧丙基，氰基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C1-10烷氧基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R3选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，和卤素，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，和C2-20链烯基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；R4，R6，和R6a可以相同或不同和分别独立地可以选自氢，氰基，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，卤素，在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的烷氧基化基团，该基团可以有1-20个重复单元和用氢或C1-4烷基封端，X，和-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，C5-50碳环，NR7aR7b，2，3-环氧丙基，n是0-3的整数，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，和C5-50碳环是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代，R7a和R7b每一个独立地是氢或C1-20烷基和X是-C(＝O)-R10或-R60-C(＝O)-CH2-R70，其中R10选自-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，-O-R11-NH-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，和-NH-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，其中R11是线性或支化的二价C1-40亚烷基或在每一烷氧基化基团中含有2-4个碳原子的其烷氧基化衍生物，该基团可以有1-20个重复单元；R60是-C(＝O)-W-R11-V-；W和V每一个独立地是选自O，S或NR100，其中R100是氢或C1-6烷基；R11是如上所述，R70是-C(＝O)-R50或-氰基，其中R50是氢或C1-10烷基；R12是氢或C1-5烷基；R5和R5a可以相同或不同和分别可以独立地选自氢，C1-50烷基，C6-20芳基，C1-20烷芳基，C1-20芳烷基，C3-18环烷基，C2-20链烯基，氰基，2，3-环氧丙基，卤素和羧基，其中所述C1-50烷基，C6-20芳基，C1-18烷芳基，C1-20芳烷基，C2-20链烯基，和C3-12环烷基是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，氰基，C1-5烷基，C1-6烷氧基，C6-20芳氧基，C1-20芳烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，或卤素基团取代；和R40是可以与在[]j，[]k，[]e，和/或[]t中发现的部分共聚合的任意单体，包括对于[]j，[]k，[]e，和/或[]t确定的那些部分；和j，k，e，t，和z分别是整数，使得j，k，e，t，和z之和为约2-约20，其中j和k分别等于或大于1，和z，e和/或t可以是0；b)至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体，选自二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，二甘醇二甲基丙烯酸酯，三甘醇二甲基丙烯酸酯，三丙二醇二丙烯酸酯，三丙二醇二甲基丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二甲基丙烯酸酯，五甘醇二丙烯酸酯，五甘醇二甲基丙烯酸酯，五丙二醇二丙烯酸酯，五丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙氧基化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，乙氧基化(2)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯，乙氧基化(8)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二丙烯酸酯，乙氧基化(6)双酚A二甲基丙烯酸酯，丙氧基化(2)新戊二醇二丙烯酸酯，丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二甲基丙烯酸酯，丙烯酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙基酯，乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯，高度丙氧基化(5.5)甘油基三丙烯酸酯，乙氧基化甘油基三丙烯酸酯，和丙氧基化(3)甘油基三丙烯酸酯；c)至少一种非离子表面活性剂，选自烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚，和其混合物；d)至少一种光引发剂；和至少一种胺改性的丙烯酸低聚物，选自 其中R100是C1-10烷基，-(EO)aa-，-(PO)aa-或 其中EO是环氧乙烷，PO是环氧丙烷，aa是1-10的整数，R500和R600分别可以相同或不同和分别独立地是C1-10烷基；R200是氢或C1-6烷基，和R300和R400分别可以相同或不同和分别独立地是氢或C1-18烷基，其中所述烷基是未取代的或被至少一个选自卤烷基，C1-4烷氧基，羧基，氨基，羟基，芳基，磺酰基，烷氧基羰基，氨基羰基的成员取代；和w是1-10的整数。
30.权利要求29的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e和t分别不是0，和z是0。
31.权利要求29的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个不是0；和R40是 其中[]z中的R3和[]z中的R5是氢，[]z中的R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，n是0；[]z中的R6是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是被C1-6烷氧基取代的C1-50烷基，和n是0。
32.权利要求29的组合物，其中对于a)，R1是氢和R2是未取代的或被一个或多个C3-12环烷基，C1-6烷氧基，2，3-环氧丙基，羟基，氰基，C1-5烷基，或卤素基团取代的C6-20芳基；R5a是氢；R6a是氢；R3是氢；R4是-(CH2)n-C(＝O)-OR7，其中R7是氢，和n是0；R5是氢；R6是X，其中X是-C(＝O)-R10，其中R10是-O-R11-O-C(＝O)-C(R12)＝CH2，R11是C2亚烷基，R12是氢；e，t和z每一个分别是0。
33.形成光致抗蚀剂图案的方法，包括1)在一个基材上提供一个权利要求3的化合物的层；2)将该层图像式曝光于图案中的光化辐射从而引起曝光处光致抗蚀剂溶解度的变化；和3)显影光致抗蚀剂从而形成图案。
34.权利要求33的方法，其中组合物进一步包括至少一种胺改性的丙烯酸低聚物。
35.在基材上形成图案的方法，包括1)在一个基材上提供一个权利要求3的化合物的层；2)将光致抗蚀剂组合物层图像式曝光于辐射；3)显影光致抗蚀剂形成所希望的通孔图案；4)在通孔中沉积导电材料以形成电互连体的所希望的图案；和5)去除光致抗蚀剂。
36.权利要求35的方法，其中组合物进一步包括至少一种胺改性的丙烯酸低聚物。
全文摘要
提供了一种组合物，包括含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；至少一种非离子表面活性剂；和至少一种光引发剂。该组合物还优选含有至少一种胺改性的丙烯酸低聚体和一种染料。其他常规的光致抗蚀剂组分如光敏剂、粘合促进剂、均化剂和溶剂也可包括在组合物中。该组合物可用于在基材上形成一种图案，如在基材上构图微光刻电路。
文档编号G03F7/033GK1754127SQ200480005372
公开日2006年3月29日 申请日期2004年2月13日 优先权日2003年2月27日
发明者庄弘, J·E·奥伯兰德, 卢炳宏, S·F·万纳特, R·R·普拉斯 申请人:Az电子材料美国公司