专利名称：圆片的光刻方法
技术领域：
本发明涉及一种圆片的光刻方法。
背景技术：
现有圆片的光刻，采用的光刻机强度低，只有2. 5mW/cm2，导致生产效率低下。
发明内容
本发明目的是针对现有技术存在的缺陷提供一种圆片的光刻方法。本发明为实现上述目的，采用如下技术方案本发明圆片的光刻方法，包括如下步骤将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强 8 12mW/cm2、曝光时间3 6秒，所述圆片为勻胶后的硅片。所述光刻机为北京四十五所生产的401A型本发明提高汞光灯的光强，大大降低了工作时间，提高了效率。
具体实施例方式实施例1本发明圆片的光刻方法，包括如下步骤将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强 8mw/cm2、曝光时间6秒。实施例2本发明圆片的光刻方法，包括如下步骤将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强 12mw/cm2、曝光时间3秒。所述光刻机为北京四十五所生产的401A型本发明提高汞光灯的光强，大大降低了工作时间，提高了效率。
权利要求
一种圆片的光刻方法，其特征在于包括如下步骤将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强8～12mw/cm2、曝光时间3～6秒，所述圆片为匀胶后的硅片。
2.根据权利要求1所述的圆片的光刻方法，其特征在于所述光刻机为北京四十五所生 产的401A型。
全文摘要
本发明公布了一种圆片的光刻方法，将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强8～12mw/cm2、曝光时间3～6秒。本发明提高汞光灯的光强，大大降低了工作时间，提高了效率。
文档编号G03F7/20GK101963764SQ201010253479
公开日2011年2月2日 申请日期2010年8月13日 优先权日2010年8月13日
发明者张春华, 张馨月 申请人:无锡春辉科技有限公司