专利名称：一种用于液晶投影仪中的防尘玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶投影仪中的TFT部组内部的防尘玻璃。
背景技术：
现有技术中，用于液晶投影仪中的TFT部组内部的防尘玻璃，顾名思义，该防尘玻 璃主要担负着防止灰尘侵入的重要作用。为了缓和光亮度的衰减，而在防尘玻璃的一侧表 面(外侧表面)镀有防反射膜层。但现有技术中上述防尘玻璃的防反射膜层所采取的技术 方式不尽合理，还有待于进一步改进。此外，防尘玻璃另一侧表面的四周边框部位多采取常 规设计，不能有效地防止对向基板的漏光。
实用新型内容本实用新型的任务在于提供一种用于液晶投影仪中的防尘玻璃。其技术解决方案是一种用于液晶投影仪中的防尘玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的一侧表面设置 有防反射膜层，在玻璃基片的另一侧表面四周边框部位设置有低反射膜层。上述低反射膜层为氧化铬膜层，其膜层的厚度为2000nm。上述防反射膜层由第一膜层至第三膜层依次制备形成，其中第一膜层为与玻璃基 片邻接的膜层，第三膜层作为与玻璃基片最远离的膜层；上述第一膜层为硅与锡复合膜层， 第二膜层为氧化铌膜层，第三膜层为硅与碳化硅复合膜层。上述第一膜层的厚度为77nm，第二膜层的厚度为113nm，第三膜层的厚度为89nm。本实用新型的有益技术效果是1、采取上述低反射膜层方式，利用显像技术，防止对向基板的漏光。2、采取上述防反射膜层方式，经验证波长在450 630nm范围内，反射率能够达 到0. 7 %以下，能够更为有效地抑制光亮衰减，分光透过率从现有技术中的92 %提高到 95. 5%。
以下结合附图
与具体实施方式
对本实用新型作进一步说明图为本实用新型的一种实施方式的剖示结构原理示意图。
具体实施方式
结合附图，一种用于液晶投影仪中的防尘玻璃，在玻璃基片1的一侧表面设置有 防反射膜层，在玻璃基片1的另一侧表面四周边框部位设置有低反射膜层5。上述防反射膜层由第一膜层2、第二膜层3与第三膜层4依次制备形成。第一膜 层2作为最下层即与玻璃基片1邻接的膜层，第三膜层作为最上层即最远离玻璃基片1的 膜层。第一膜层为硅与锡复合膜即由硅与锡混合物制备的膜层，膜层厚度为77nm，第二膜层为氧化铌膜层，膜层厚度为113nm，第三膜层为硅与碳化硅复合膜层即由硅与碳化硅混合物 制备的膜层，膜层厚度为89nm。上述低反射膜层为氧化铬膜层，其膜层的厚度为2000nm。上述防反射膜层中各膜层的制备可采取现有技术中的有关镀膜技术方式如真空 蒸镀法，或磁控管溅镀法等实施。
权利要求一种用于液晶投影仪中的防尘玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的一侧表面设置有防反射膜层，其特征在于在所述玻璃基片的另一侧表面四周边框部位设置有低反射膜层。
2.根据权利要求1所述的用于液晶投影仪中的防尘玻璃，其特征在于所述低反射膜 层为氧化铬膜层，其膜层的厚度为2000nm。
3.根据权利要求1所述的用于液晶投影仪中的防尘玻璃，其特征在于所述防反射膜 层由第一膜层至第三膜层依次制备形成，其中第一膜层为与玻璃基片邻接的膜层，第三膜 层作为与玻璃基片最远离的膜层；上述第一膜层为硅与锡复合膜层，第二膜层为氧化铌膜 层，第三膜层为硅与碳化硅复合膜层。
4.根据权利要求3所述的用于液晶投影仪中的防尘玻璃，其特征在于所述第一膜层 的厚度为77nm，第二膜层的厚度为113匪，第三膜层的厚度为89nm。
专利摘要本实用新型公开一种用于液晶投影仪中的防尘玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的一侧表面设置有防反射膜层，特征是在玻璃基片的另一侧表面四周边框部位设置有低反射膜层。所述低反射膜层为氧化铬膜层，其膜层的厚度为2000nm。所述防反射膜层由第一膜层至第三膜层依次制备形成，其中第一膜层为与玻璃基片邻接的膜层，第三膜层作为与玻璃基片最远离的膜层；上述第一膜层为硅与锡复合膜层，第二膜层为氧化铌膜层，第三膜层为硅与碳化硅复合膜层。本实用新型一是利用显像技术，防止对向基板的漏光；二是经验证波长在450～630nm范围内，反射率能够达到0.7％以下。
文档编号G02F1/13GK201583774SQ20102010272
公开日2010年9月15日 申请日期2010年1月28日 优先权日2010年1月28日
发明者今井贡, 大西智文, 山崎武志, 河野英治, 田中贤治, 茑木一也 申请人:青岛豪雅光电子有限公司