微光刻投射曝光设备的光学系统的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：至少一个偏振影响布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中该第一反射表面(110,210,...)和该第二反射表面(120,220,...)相对于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；其中在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光与该第一反射表面形成45°±5°的角度；及其中该偏振影响布置(100,200,...)可绕着旋转轴(A)旋转，该旋转轴平行于在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光的光传播方向延伸。
【专利说明】微光刻投射曝光设备的光学系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请主张2012年4月16日申请的德国专利申请DE 10 2012 206 153.3和US61/624 429的优先权。所述申请的内容在此以引用方式并入。
【技术领域】
[0003]本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统。
【背景技术】
[0004]微光刻用于制造微结构组件，例如集成电路或IXD。微光刻工艺在所谓的“投射曝光设备”(其包含照明装置(illuminat1n device)和投射镜头(project1nlens))中执行。在此情况中，利用投射镜头将利用照明装置照明的掩模(mask)(=掩模母版(reticle))的图像投射于基板(如硅晶片)上，该基板涂布有感光层(光刻胶(photoresist))且布置在投射镜头的像平面(image plane)中，以将掩模结构转印至基板的光敏涂层上。
[0005]在设计用于EUV范围(即，在如约13nm或约7nm的波长)的投射镜头中，由于缺少可用的合适透光折射材料，故使用反射镜作为成像过程的光学组件。
[0006]在投射曝光设备操作期间，为了优化成像对比度(imaging contrast),需要在照明装置中以有目标的方式(targeted manner)设定光瞳平面(pupil plane)及/或掩模母版中的特定偏振分布(specific polarizat1n distribut1n),且在投射曝光设备运行期间，还必须能够对偏振分布进行改变。
[0007]在此情况中，尤其在EUV系统中发生的一个问题是，与为此目的所需的反射相关联的传输损失(transmiss1n loss)增加，因而损害投射曝光设备的性能特性。
[0008]关于有关改变设计用于EUV范围的投射曝光设备中的偏振分布的先前技术，请参考(仅是举例而言)DE 10 2008 002 749 AUUS 2008/0192225AU WO 2006/111319 A2 及US 6，999，172 B2。
【发明内容】
[0009]本发明的目的在于提供尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统,其除了比较低的传输损失之外，还能灵活设定投射曝光设备中的偏振分布。
[0010]此目的根据独立权利要求的特征而达成。
[0011]根据本发明的尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统包含:
[0012]-至少一个偏振影响布置(polarizat1n-1nfluencingarrangement),其具有第一反射表面和第二反射表面，其中，该第一反射表面和该第二反射表面相对于彼此以0° ±10°的角度或90° ±10°的角度布置；
[0013]-其中，在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面上的光与该第一反射表面形成45° ±5°的角度；及
[0014]-其中，该偏振影响布置可绕着旋转轴旋转，该旋转轴平行于在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面上的光的光传播方向(light propagat1n direct1n)延伸。
[0015]本发明尤其基于以下构想:已经使用两个反射表面或反射镜元件从原始未偏振输入光(尤其是EUV光)产生线偏振输出光，其中利用实质上以布鲁斯特角(Brewsterangle)发生的两个反射产生线性输出偏振。因为所有适当(层)材料在小于15nm的EUV波长的折射率接近值1，所以EUV系统中的所述布鲁斯特角通常约45°。
[0016]在此情况中，两个反射表面可以实质上彼此平行或实质上彼此垂直而偏移的方式布置。由于反射以布鲁斯特角在第一反射表面发生，在根据本发明的布置中从第一反射表面传到第二反射表面的光几乎已经完全S-偏振，因此与未偏振照明情况中的反射率相比，第二反射表面处的反射率增加。
[0017]在根据本发明的偏振影响布置中利用线性输出偏振的该有效产生，从该布置或从该布置的第二反射表面发出的光的偏振方向可因以下事实而有所变化:该布置构造为可绕着旋转轴旋转，其中该旋转轴平行于在光学系统运行期间入射在第一反射表面上的光的光传播方向延伸。此方法基于以下考虑:偏振影响布置绕着沿着相应输入光线指向的旋转轴旋转旋转角β还造成输出偏振方向旋转相同的旋转角β，因为该布置关于布鲁斯特角或布鲁斯特反射的入射平面的偏振确定几何布局(polarizat1n-determining geometry)同样旋转该旋转角β。
[0018]例如，与藉由产生偏斜光线(skew light ray)(及藉由多个(至少三个)反射)针对预定输入偏振实现几何偏振旋转(geometrical polarizat1n rotat1n)相比,在本发明中，可使用未偏振光设定所要的偏振分布。此外，在根据本发明的构造中，可因较少数量的所要反射表面而显著减少传输损失。
[0019]根据一个实施例，在光学系统运行期间，由第二反射表面反射的光线被反射到输出方向(output direct1n)上,该输出方向平行于入射在第一反射表面上的光的输入方向(input direct1n)。
[0020]根据另一方面，本发明还涉及尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，其包含:
[0021]-至少一个偏振影响布置,其具有第一反射表面和第二反射表面，其中，在该光学系统运行期间在该第二反射表面反射的光被反射为平行于入射在该第一反射表面上的光的输入方向；
[0022]-其中，在该光学系统运行期间，光以Θ= ?b±5°的入射角入射在该第一反射表面上，其中?B代表该第一反射表面在该光学系统的工作波长的布鲁斯特角；及
[0023]-其中，该偏振影响布置可绕着旋转轴旋转，该旋转轴平行于在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面上的光的光传播方向延伸。
[0024]根据一个实施例，偏振影响布置将在光学系统运行期间入射在第一反射表面上的未偏振光转换成从第二反射表面发出的线偏振光。
[0025]根据一个实施例，光学系统另外包含分别指派给每个第二反射表面的反射镜元件(mirror element)，所述反射镜元件在光学系统运行期间反射在相关第二反射表面反射的光。所述反射镜元件尤其可以关于至少一个倾翻轴可倾翻的方式布置。此外，反射镜元件可具有大致环形的几何布局(substantially annular geometry)的光学活性表面(optically active surface)。
[0026]在其它实施例中，相应偏振影响光学布置的第二反射表面还以关于至少一个倾翻轴可倾翻的方式布置。
[0027]根据一个实施例，光学系统包含由根据本发明的多个偏振影响布置构成的阵列，其中多个对应的偏振影响布置在两个较佳互相垂直的空间方向上分别彼此相邻。在此情况中，在所述阵列中，在两个互相垂直的空间方向之一上分别彼此相邻的反射表面尤其可彼此平行延伸。
[0028]利用此阵列，在根据本发明的构想中，可实现偏振分布的灵活设定(在下文中又称为“偏振成形(polarizat1n shaping)”)和光瞳平面中的强度分布(intensitydistribut1n)的灵活设定(在下文中又称为“光瞳成形(pupil shaping) ”)，其中，根据本发明，这尤其已经藉由仅两个反射及因此对应低的强度损失(及还有对应地节省结构空间)而实现。
[0029]根据一个实施例，光学系统为此目的可另外包含具有多个个别反射镜的反射镜布置(mirror arrangement),从第二反射表面发出的光可经由该多个个别反射镜反射。所述个别反射镜尤其可彼此独立地调整，以便以灵活的方式实现上述光瞳成形。
[0030]根据另一方面，本发明涉及设计用于在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的照明装置，其中照明装置包含具有上述特征的光学系统。
[0031]根据一个实施例，照明装置包含具有多个场分面(field facet)的场分面反射镜(field facet mirror)及具有多个光瞳分面(pupil facet)的光瞳分面反射镜(pupilfacet mirror),其中，在照明装置运行期间在场分面反射的光线的光束路径(beam path)中，相应布置影响所述光线的偏振状态(polarizat1n state)的偏振影响布置之一。
[0032]本发明另外涉及:包含照明装置及投射镜头的微光刻投射曝光设备，其中，照明装置包含具有上述特征的光学系统；以及微光刻制造微结构组件的方法。
[0033]根据一个实施例，对于在光传播方向上在偏振影响布置下游的投射镜头及/或照明装置中所布置的所有反射镜，相应反射表面相对于在投射曝光设备运行期间入射在所述反射表面上的光的方向，以最大20° (较佳最大15° )的角度、或90° ±10° (较佳90° ±5° )的角度布置。换言之，在光传播方向上在偏振影响布置下游的投射镜头及/或照明装置中，仅提供此类反射镜:以掠入射(grazing incidence)(入射光相对于相应反射表面的角度最大20°、较佳最大15° )或实质上法线入射(normal incidence)(即，相对于相应反射表面的角度为90° ±10°、更较佳为90° ±5° )运行。此构造具有以下优点:至少大体上以未改变的方式维持以相关角度发生的反射的偏振状态(及未显著受到如所谓s-p分离(s-p splitting)的影响)。在本申请的上下文中，应将措辞如“以90° ±10°的角度”理解为“以80°至100°的范围中的角度”，以此类推。
[0034]可从说明书及从属权利要求获悉本发明的其它构造。下文基于附图中所示示例性实施例更详细解说本发明。
【专利附图】
【附图说明】
[0035]附图中:
[0036]图1显示解说本发明原理的示意图；
[0037]图2-7显示用于解说本发明的不同实施例的示意图；
[0038]图8显示解说本发明在设计用于在EUV中运行的投射曝光设备的照明装置中的一个可能实现的示意图；
[0039]图9a_b显示解说本发明另一可能实施例的示意图；以及
[0040]图10显示设计用于在EUV中运行的投射曝光设备的一个基本可能构造的示意图。
【具体实施方式】
[0041]图10显示示例性投射曝光设备的示意图，该投射曝光设备设计用于在EUV中运行并可在其中实现本发明。根据图10，设计用于EUV的投射曝光设备975中的照明装置980包含场分面反射镜981 (具有分面982)及光瞳分面反射镜983 (具有分面984)。来自光源单元985 (包含等离子体光源986及聚光反射镜(collector mirror) 987)的光被导引到场分面反射镜981上。第一望远镜反射镜(telescope mirror)988及第二望远镜反射镜989布置在光瞳分面反射镜983下游的光路中。偏转反射镜(deflect1n mirror) 990布置在光路下游，该偏转反射镜将入射在其上的辐射引到投射镜头995 (包含六个反射镜M1-M6)的物平面(object plane) OP中的物体场991上。反射结构承载掩模M布置在物场(objectfield) 991的位置，该掩模借助投射镜头995(具有六个反射镜M1-M6)被成像至像平面IP中。
[0042]在此照明装置980中，现在可利用根据本发明的偏振影响光学布置进行偏振分布的灵活设定(又称为“偏振成形”)以及光瞳平面中的强度分布的灵活设定(“光瞳成形”)，如下文将参考图8所说明。下文中，就此而言，首先将参考图1说明本发明的原理。
[0043]根据图1，未偏振光以45°的入射角(对应于布鲁斯特角ΘΒ)入射在第一反射表面110,该未偏振光从该表面被反射向第二反射表面120的方向,第二反射表面120相对于第一反射表面110以90°的角度取向。该布鲁斯特角通常约45°，因为EUV中的折射率接近值I。可在EUV中的反射表面使用的一个合适HR层材料例如为MoSi (即硅基板上的钥层)。
[0044]入射在第一反射表面110上的输入光的未偏振状态在此处及下文中通过以下事实表不:针对相关光线描绘两个偏振方向。
[0045]由于反射以布鲁斯特角在第一反射表面110处发生,S-偏振光以最大可能程度被反射，而P-偏振光则以最大可能程度在材料中被透射或吸收。因此，从第一反射表面110传到第二反射表面120的光已经几乎完全S-偏振，如图1中以定向在示图平面中的明显较小双箭头(表示P-偏振)所示。在第二反射表面120，以布鲁斯特角的重新反射现在再次发生，使得(同样如图1中所示)先前可能仍然存留的P-偏振的残余部分在最后从所述第二反射表面120发出的光中也被消除。
[0046]关于根据本发明的布置100的强度损失，这表示尽管在第一反射表面110的反射的情况中，相对于入射在布置上的未偏振光的强度，发生约5 O %的强度损失,但第二反射表面120的反射率与未偏振照明情况中的反射率相比仍然增加。
[0047]在图1的具体实例中(但本发明并不限于此实例)，第一反射表面110及第二反射表面120均在同一个光学元件100上体现，为了实现上述几何布局或所提反射角，该光学元件100具有图1中的横截面所示的楔形，该楔形继续向示图平面中(即在所描绘坐标系统的y-方向上)延伸，并具有对EUV辐射为高度反射的对应涂层(HR涂层)以形成反射表面110， 120。
[0048]由反射表面110及120构造的偏振影响光学布置100可绕着旋转轴旋转，该旋转轴平行于在光学系统运行期间入射在第一反射表面上的光的光传播方向延伸。在图1中描绘旋转轴“A”，该轴针对以下情况而选取:光束(具有沿着旋转轴延伸的质心光线(centroid ray))入射在此布置或此光学元件100上。相比之下，在光线仅入射在第一反射表面上的情况中，旋转轴较佳沿着该光线精确布置。
[0049]此可旋转构造基于以下考虑:偏振影响光学布置100绕着沿着相应输入光线指向的旋转轴旋转旋转角β还造成输出偏振方向旋转相同的旋转角β，因为该布置100关于布鲁斯特角(尤其是布鲁斯特反射的入射平面)的偏振确定几何布局同样旋转。
[0050]图2显示光学布置200，其同样使用上文参考图1说明的原理，但其中具有所要线性输出偏振方向的光沿与入射在此布置上的未偏振光相同的方向(即，所描绘坐标系统中的正Z-方向)传播，即，如同其处于“准透射(quas1-transmiss1n)”。为此之故,与图1相比，反射表面210、220非垂直布置，而是彼此平行布置。同样在图2的布置200中，整个布置200绕着沿着输入光线指向的旋转轴A旋转旋转角β，造成输出偏振方向旋转相同的旋转角β。此外，从第二反射表面220发出的光线在绕着旋转轴A的圆弧上移动，其中每个旋转角β的输出偏振方向分别相对于旋转轴A正切延伸。
[0051]根据图3，还可提供光学布置300由多个个别布置300a、300b、300c、…构成，该多个个别布置由反射表面310a、320a、310b、320b、310c、320c、…构成，其中光学布置尤其可以矩阵方式建构。在此情况中，与常规用于如照明装置中用于灵活产生不同照明设定的MMA (= “微镜阵列(micro mirror array) ”)形式的反射镜布置相比，根据本发明图3的反射表面310a、320a、310b、320b、310c、320c、…的确还可具有如数量级在1-1Ocm范围中的较大“宏观”尺寸。在另一构造中，图3显示的布置还可藉由以下事实使得“光瞳成形”成为可能:相应第二反射表面320a、320b、320c，…设计为可倾翻，使得取决于设定的倾翻角，分别在第二反射表面320a、320b、320c，…反射的光线被引向光瞳平面中的所要位置(posit1n)，且在该位置处产生对应于预定强度分布或所要照明设定的照明点(illuminat1n spot)。
[0052]根据图4，布置400(类似于图3而构造)由反射表面410a、420a、410b、420b、410c、420c、…构成，且还可与由多个个别反射镜431、432、433、…构成的另一反射镜布置430结合，以利用偏振影响光学布置400执行偏振成形，及利用反射镜布置430如在照明装置的光瞳平面中执行光瞳成形，即所要强度分布的设定。如可从图4中看见，在此情况中，在第二反射表面420a、420b、420c、…反射的每个光线均被引到反射镜布置430的相应个别反射镜431、432、433、…上，并取决于有关个别反射镜431、432、433、…的倾翻角，由相应个别反射镜431、432、433、…导引到光瞳平面中的所要位置上。
[0053]下文参考图5说明另一实施例，其关于“偏振成形”布置500，基本上基于参考图1说明的原理，因为具有所要线性输出偏振方向且由第二反射表面520反射的光沿相对于入射在布置500的第一反射表面510上的未偏振光的相反方向传播。如为了类似于图4的后续“光瞳成形”，另一反射镜元件540用于将来自布置500 (由第一及第二反射表面构成)的该光“耦出(couplingout)”。为此目的，反射镜元件540可具有实质上环形的(球面壳形的)几何布局。
[0054]在图5的示例性实施例中，为了耦出第二反射表面520反射的光(即，从原始光束路径“反射出”)，两个反射表面510、520以相对于彼此不同于90°的角度(通常与90°相差几度)(即α古90°，如α =94° )布置，从而使在第二反射表面520反射的光线不会精确反射回到入射在第一反射表面510上的光线的相反方向上。因此，根据图5，在第二反射表面520反射的光线可经由反射镜兀件540导引向与入射在偏振影响光学布置上的未偏振光线相同的方向(即在所描绘坐标系统中的负Z-方向)。
[0055]如图5a在示图下方部分及还有如图5b所示，同样在图5的偏振影响光学布置500的情况中，布置500绕着沿着输入光线指向的旋转轴A旋转旋转角β，造成输出偏振方向旋转相同的旋转角β，其中从第二反射表面520发出的光线(现在在反射镜元件540反射后)在绕着旋转轴A的圆弧上移动，其中每个旋转角β的输出偏振方向分别相对于旋转轴A正切延伸。
[0056]如图6所示，反射镜元件640还可设计为是可倾翻的，并因此继而可通过使分别在反射镜元件640反射的光线导引向光瞳平面中的所要位置且在该所要位置处产生对应于所要照明设定的照明点而用于“光瞳成形”。
[0057]在其它实施例中，通过以可倾翻方式构造第一反射表面310a、310b、310c、…或第二反射表面310a、310b、310c、...，还可实现来自图3显示的布置300的光瞳成形。例如，此构造与参考图5及6说明的实施例相比，具有以下优点:例如在设定所谓“低Σ照明设定(low sigma illuminat1n setting) ”(其中意在仅照明光瞳平面中以较小直径的圆限定的区域)时，还可以对应偏振光来照明光瞳中心区中的位置。
[0058]此外，从上文参考图5说明的实施例，类似于图3，同样还可构造由多个对应的个别布置700a、700b、700c、…构成的(尤其矩阵型)偏振影响光学布置700，如图7中所示。
[0059]图8显示解说本发明在设计用于在EUV中运行的投射曝光设备的照明装置中的一个可能实现的示意图。
[0060]在图8中仅说明照明装置的光源单元的聚光反射镜887，类似于图10，照明光从该聚光反射镜经由场分面反射镜881 (具有分面882)入射在光瞳分面反射镜883 (具有分面884)上。如已经说明的，在利用根据本发明的偏振影响光学布置的偏振成形上游的光传播方向中，EUV光并未偏振(至少以最大可能程度)。在场分面反射镜881上游的光路中，利用根据本发明由图8的反射表面810、820构成的布置进行偏振设定。尤其，在场分面反射镜881的每个个别分面882的上游，可提供由反射表面810、820构成的对应(“双反射镜”)布置800，其中所述布置的每一个继而以可绕着旋转轴(沿着分别入射的光线延伸)旋转的方式构造，用于根据本发明的偏振设定。在其它实施例中，取决于照明装置的具体设计，还可在光传播方向上在场分面反射镜881及光瞳分面反射镜883之间或在光传播方向上在光瞳分面反射镜883下游，提供由反射表面810、820构成的布置或对应个别布置的阵列式或矩阵式布置。
[0061]此外，在照明装置内的光传播方向上的根据本发明的偏振影响光学布置之后的其它光学组件或反射镜的布置构成为使得在根据本发明的偏振成形的下游，在光路中仅布置以掠入射(如，以入射光线与相应反射镜的反射表面之间的小于15°、尤其小于10°的角度)或以法线入射(如，以入射光线与相应反射镜的反射表面之间的至少80°、尤其90°的角度)工作的反射镜。以此方式可达成的是，维持利用根据本发明的偏振影响光学布置设定的偏振，及在其它光学组件或反射镜处发生的反射率还尽可能与设定的偏振方向无关。
[0062]图9a_b显示解说本发明另一可能实施例的示意图。类似于图2的实施例，图9a_b中显示的布置包含彼此平行布置的两个反射表面910、920。然而，与图2不同的是，两个反射表面910、920不仅可绕着沿着输入光线指向的旋转轴“A”(即，在所描绘坐标系统中，绕着沿着Z-方向指向的旋转轴，见图9b)旋转，还可绕着垂直于示图平面的额外旋转轴(即，在所描绘坐标系统中，绕着沿着y-方向指向的旋转轴，见图9a)旋转。由于此额外旋转轴及因此达成的额外自由度，尤其可在以下两个位置之间修改两个反射表面910、920的位置或定向(orientat1n):图9b的位置,其中反射实质上以布鲁斯特角在反射表面910、920发生；及图9a的位置，其中反射以比布鲁斯特角小的入射角，例如5°与30°之间的入射角(相对于相应反射表面上的表面法线而定义)在反射表面910、920发生。
[0063]在后一位置(在图9a中显示)中，由于在反射布置的几何布局中缺少关于偏振的“较佳方向”(即由于反射布置对传入光的偏振不敏感)，从第二反射表面920发出的光实质上仍未偏振。此外，通过绕着沿着y-方向的旋转轴旋转反射表面910、920，偏振度(degreeof polarizat1n) ( “D0P”)实质上可在DOP = O及DOP = I的极值之间调整。此外，整个布置900绕着沿着输入光线指向的旋转轴“A”旋转旋转角β，造成输出偏振方向旋转相同的旋转角β，如上文已经参考图2及其后各图所讨论。
[0064]即使本发明已基于特定实施例加以说明，但本领域技术人员如通过个别实施例的特征的组合及/或交换，可明显看出许多变化及替代实施例。因此，对于本领域技术人员不言可喻的是，这种变化及替代实施例是本发明包含的伴随物，本发明范围仅限于所附专利权利要求及其等同物的意义内。
【权利要求】
1.一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含: ?至少一个偏振影响布置(100，200，...),其具有第一反射表面(110，210，...)和第二反射表面(120，220，...)，其中，所述第一反射表面(110，210，...)和所述第二反射表面(120,220，...)相对于彼此以0° ±10°的角度或90° ±10°的角度布置； ?其中，在所述光学系统运行期间入射在所述第一反射表面(110,210，...)上的光与所述第一反射表面形成45° ±5°的角度；及 ?其中，所述偏振影响布置(100，200，...)可绕着旋转轴旋转，所述旋转轴平行于在所述光学系统运行期间入射在所述第一反射表面(110,210，...)上的光的光传播方向延伸。
2.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，在所述光学系统运行期间，由所述第二反射表面(120,220)反射的光线被反射到输出方向上,所述输出方向平行于入射在所述第一反射表面(110,210，...)上的光的输入方向。
3.一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含: ?至少一个偏振影响布置(100，200，...),其具有第一反射表面(110，210，...)和第二反射表面(120，220，...)，其中，在所述光学系统运行期间在所述第二反射表面(120，220,...)反射的光被反射为平行于入射在所述第一反射表面(110，210,...)上的光的输入方向； ?其中，在所述光学系统运行期间，光以O = ?b±5°的入射角入射在所述第一反射表面(110，210,...)上,其中，ΘΒ代表所述第一反射表面(110，210,...)在所述光学系统的工作波长的布鲁斯特角；及 ?其中，所述偏振影响布置(100，200，...)可绕着旋转轴旋转，所述旋转轴平行于在所述光学系统运行期间入射在所述第一反射表面(110,210，...)上的光的光传播方向延伸。
4.如权利要求1至3中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述偏振影响布置(100, 200,...)将在所述光学系统运行期间入射在所述第一反射表面(110，210，...)上的未偏振光转换成从所述第二反射表面(120，220,...)发出的线偏振光。
5.如前述权利要求中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述系统另外包含指派给所述第二反射表面(520，620)的反射镜元件(540，640)，所述反射镜元件反射在所述光学系统运行期间在所述相关第二反射表面(520，620)反射的光。
6.如权利要求5所述的光学系统,其特征在于,所述反射镜兀件(540，640)以关于至少一个倾翻轴可倾翻的方式布置。
7.如权利要求5或6所述的光学系统,其特征在于,所述反射镜兀件(540,640)具有大致环形几何布局的光学活性表面。
8.如前述权利要求中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述第二反射表面(120，220，...)以关于至少一个倾翻轴可倾翻的方式布置。
9.如前述权利要求中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述系统包含由多个这种偏振影响布置构成的阵列(300，400, 700)。
10.如权利要求9所述的光学系统，其特征在于，在所述阵列(300,400，700)中，在两个互相垂直的空间方向之一上分别彼此相邻的反射表面彼此平行延伸。
11.如权利要求9或10所述的光学系统，其特征在于，所述系统另外包含具有多个个别反射镜(431，432，433，…)的反射镜布置(430)，从所述第二反射表面(120，220，...)发出的光能够经由所述多个个别反射镜(431，432，433，…)反射。
12.如权利要求11所述的光学系统，其特征在于，所述个别反射镜(431，432，433，...)可被彼此独立地调整。
13.一种设计用于在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的照明装置，其特征在于，所述照明装置包含如前述权利要求任一项所述的光学系统。
14.如权利要求13所述的照明装置，其特征在于，所述装置包含具有多个场分面的场分面反射镜和具有多个光瞳分面的光瞳分面反射镜，其中，在所述照明装置运行期间在所述场分面反射的光线中的至少一个的光束路径中，分别布置用于影响所述光线的偏振状态的所述偏振影响布置之一。
15.一种微光刻投射曝光设备，其包含照明装置和投射镜头，其特征在于，所述照明装置根据权利要求13或14所述而实施。
16.如权利要求15所述的微光刻投射曝光设备,其特征在于,对于在所述光传播方向上在所述偏振影响布置(100，200,...)下游的所述投射镜头和/或所述照明装置中所布置的所有反射镜，相应反射表面相对于在所述投射曝光设备运行期间入射在所述反射表面上的光的方向，以最大20°、优选最大15°的角度,或者，以90° ±10°、优选90° ±5°的角度布置。
17.—种微光刻制造微结构组件的方法，包含以下步骤: ?提供基板，在其上至少部分施加由光敏材料构成的层； ?提供掩模，其具有要成像的结构； ?提供如权利要求15或16所述的微光刻投射曝光设备；及 ?借助所述投射曝光设备，将所述掩模的至少一部分投射于所述层的区域上。
【文档编号】G03F7/20GK104246616SQ201380020363
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2013年3月26日 优先权日:2012年4月16日
【发明者】I.萨恩杰, F.施勒塞纳 申请人:卡尔蔡司Smt有限责任公司