1.一种掩模组，用以对一负型显影光致抗蚀剂层进行双重曝光，其特征在于，所述掩模组包括：
一第一掩模，包括多个彼此平行排列的第一主要图案、多个第一次解析辅助图案以及多个第二次解析辅助图案，该些第二次解析辅助图案彼此分离设置于所述第一主要图案的一侧，该些第一次解析辅助图案彼此分离设置于所述第一主要图案与该些第二次解析辅助图案之间，且该些第一主要图案的延伸方向平行于该些第二次解析辅助图案的延伸方向；以及
一第二掩模，包括多个彼此平行排列的第二主要图案，当所述第一掩模与所述第二掩模置于负型显影光致抗蚀剂层上方的一预定位置以分别进行曝光时，该些第二主要图案与该些第一主要图案交错，且该些第二主要图案与该些第一次解析辅助图案重叠。
2.根据权利要求1所述的掩模组，其特征在于，当所述第一掩模与所述第二掩模置于所述预定位置以分别进行曝光时，该些第一主要图案的延伸方向垂直于该些第二主要图案的延伸方向。
3.根据权利要求1所述的掩模组，其特征在于，当所述第一掩模与所述第二掩模置于所述预定位置以分别进行曝光时，该些第一次解析辅助图案的延伸方向平行于该些第二主要图案的延伸方向。
4.根据权利要求1所述的掩模组，其特征在于，该些第一次解析辅助图案的排列间距与该些第二主要图案的排列间距相同。
5.根据权利要求1所述的掩模组，其特征在于，当所述第一掩模与所述第二掩模置于所述预定位置以分别进行曝光时，该些第二次解析辅助图案不与该些第一主要图案以及该些第二主要图案重叠。
6.根据权利要求1所述的掩模组，其特征在于，所述第二掩模还包括多个第三次解析辅助图案以及多个第四次解析辅助图案，该些第四次解析辅助图案彼此分离设置于所述第二主要图案的一侧，该些第三次解析辅助图案彼此分离设置于所述第二主要图案与该些第四次解析辅助图案之间，且该些第二主要图案的延伸方向平行于该些第四次解析辅助图案的延伸方向。
7.根据权利要求6所述的掩模组，其特征在于，当所述第一掩模与所述第二掩模置于所述预定位置以分别进行曝光时，该些第三次解析辅助图案的 延伸方向平行于该些第一主要图案的延伸方向。
8.根据权利要求6所述的掩模组，其特征在于，该些第三次解析辅助图案的排列间距与该些第一主要图案的排列间距相同。
9.根据权利要求6所述的掩模组，其特征在于，当所述第一掩模与所述第二掩模置于所述预定位置以分别进行曝光时，各所述第三次解析辅助图案分别设置于相邻二第一主要图案之间，且该些第三次解析辅助图案不与该些第一主要图案重叠。
10.根据权利要求6所述的掩模组，其特征在于，当所述第一掩模与所述第二掩模置于所述预定位置以分别进行曝光时，该些第四次解析辅助图案不与该些第一主要图案以及该些第二主要图案重叠。