技术总结
本发明提供一种掩模组。掩模组包括第一掩模以及第二掩模。第一掩模包括多个彼此平行排列的第一主要图案、多个第一次解析辅助图案以及多个第二次解析辅助图案，第二次解析辅助图案彼此分离设置于第一主要图案的一侧，第一次解析辅助图案彼此分离设置于第一主要图案与第二次解析辅助图案之间，且第一主要图案的延伸方向平行于第二次解析辅助图案的延伸方向。第二掩模包括多个彼此平行排列的第二主要图案，当第一掩模与第二掩模置于负型显影光致抗蚀剂层上方的预定位置以分别进行曝光时，第二主要图案与第一主要图案交错，且第二主要图案与第一次解析辅助图案重叠。本发明提供的掩模组可以提升微影工艺的工艺裕度。
技术研发人员：洪永文
受保护的技术使用者：华邦电子股份有限公司
文档号码：201510170604
技术研发日：2015.04.13
技术公布日：2016.11.23