技术总结
本发明公开了一种测距、对焦处理方法及装置，其中，该方法包括：获取投影到幕布处的投影光源产生的灰阶值；根据该灰阶值从预先确定的映射表中确定该投影到幕布的距离区间或距离，其中，该映射表为该投影光源的灰阶值与该投影到幕布的距离之间的映射表；根据确定的该投影到幕布的距离区间或距离进行对焦处理，解决了相关技术中需要额外附加专业的测距装置进行对焦导致成本高的问题，在不增加额外测距成本的情况下，提高了对焦速度。
技术研发人员：曾慧鹏
受保护的技术使用者：中兴通讯股份有限公司
文档号码：201510564692
技术研发日：2015.09.07
技术公布日：2017.03.15