化学增幅光阻材料、共聚物及微影方法与流程

技术总结
本发明提供一种化学增幅光阻材料、共聚物及微影方法。敏感材料包含一共聚物，共聚物包括聚合物单元，聚合物单元包括：疏水单元；亲水单元，亲水单元包含酸产生剂；以及连接单元，连接单元接合于疏水单元与亲水单元之间，连接单元包含遇酸不稳定基团。当以此敏感材料作为光阻，在微影工艺期间的酸扩散会受到连接单元的抑制。

技术研发人员：郑雅玲;张庆裕
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
文档号码：201510859835
技术研发日：2015.11.30
技术公布日：2016.11.30