针对形貌的改进结构的制作方法

技术总结
在不同实施例中提供了掩模版。掩模版可以包括特征部。特征部可以包括基部结构和阶梯结构。阶梯结构包括中央区域和边缘区域。在顶视图中，中央区域包括比边缘区域更大的宽度。阶梯结构被配置为被布置在待被光刻处理的衬底的形貌阶梯之上。

技术研发人员：S·施密特;O·赫尔蒙德;P·伊尔西格勒;M·塞德-施密特
受保护的技术使用者：英飞凌科技股份有限公司
文档号码：201610617619
技术研发日：2016.07.29
技术公布日：2017.02.22