显示设备的制作方法

此申请要求2015年8月11日提交到韩国知识产权局的韩国专利申请10-2015-0113267的优先权和权益，其全部内容通过引用被合并于此。

技术领域

所描述的技术总地来说涉及显示设备。

背景技术：

液晶显示器(LCD)通常包括在其上形成有诸如像素电极和公共电极的场产生电极的两个显示面板、以及被插入在两个显示面板之间的液晶层。当电压被施加到场产生电极以在液晶层上产生电场时，液晶层的液晶分子的取向被确定，入射光的偏振通过所产生的电场被控制，以显示图像。

形成液晶显示器的两个显示面板可以是薄膜晶体管阵列面板和相对的显示面板。在薄膜晶体管阵列面板中，发送栅极信号的栅极线和发送数据信号的数据线被形成为交叉，被连接到栅极线和数据线的薄膜晶体管和被连接到薄膜晶体管的像素电极可以被形成。相对的显示面板可以包括阻光构件、滤色器、公共电极等。在一些情况下，阻光构件、滤色器和公共电极可以被形成在薄膜晶体管阵列面板中。

液晶显示器可以被制造为具有大显示区域，以被用作电视。在这种情况下，电视的边缘可以被利用作为次要区域以显示频道、音量或字幕，该边缘可以被弯曲以形成弯曲形状。然而，弯折常规液晶显示器使得边缘部分具有弯曲形状的工艺是不容易的。

在此背景技术部分公开的上述信息仅用于增强对所描述的技术的背景的理解，因此可能包含不构成在该国家本领域普通技术人员已经知晓的现有技术的信息。

技术实现要素：

本公开提供了一种具有弯曲形状的边缘的显示设备。

根据一个示例性实施例的显示设备包括：主面板；被定位在主面板的两个相对边缘处的辅助面板；以及覆盖主面板和辅助面板的前表面的盖玻璃，其中辅助面板具有弯曲形状。

主面板可以具有平坦形状。

盖玻璃可以包括覆盖主面板的主区域和覆盖辅助面板的辅助区域，主区域可以具有平坦形状，并且辅助区域可以具有弯曲形状。

主面板可以由液晶面板或有机发光面板制成。

液晶面板可以包括：基底；被定位在基底上的薄膜晶体管；被连接到薄膜晶体管的像素电极；被定位为经由在像素电极上的多个微腔与像素电极隔开的顶层；填充微腔的液晶层；以及被定位在顶层上并密封微腔的保护层。

辅助面板可以由液晶面板、有机发光面板和发光二极管(LED)面板中的至少一个形成。

主面板和辅助面板可以被一体形成。

主面板可以具有弯曲形状。

主面板的弯折方向和辅助面板的弯折方向可以不同。

主面板可以具有在主视图中的凹曲面，并且辅助面板可以具有在主视图中的凸曲面。

盖玻璃可以包括覆盖主面板的主区域和覆盖辅助面板的辅助区域，并且主区域和辅助区域可以具有弯曲形状。

主区域的弯折方向和辅助区域的弯折方向可以不同。

主区域可以具有在主视图中的凹曲面，并且辅助区域可以具有在主视图中的凸曲面。

主面板可以由液晶面板或有机发光面板形成。

液晶面板可以包括：基底；被定位在基底上的薄膜晶体管；被连接到薄膜晶体管的像素电极；被定位为经由在像素电极上的多个微腔与像素电极隔开的顶层；填充微腔的液晶层；以及被定位在顶层上并密封微腔的保护层。

辅助面板可以由液晶面板、有机发光面板和发光二极管(LED)面板中的至少一个形成。

主面板和辅助面板可被一体形成。

盖玻璃可以由钢化玻璃形成。

显示设备可以被用作电视。

辅助面板可以显示频道、音量、字幕、电子邮件、互联网图标或生物节律中的至少一个，或被用作灯。

根据一个示例性实施例的显示设备具有以下效果。

在根据一个示例性实施例的显示设备中，通过单独形成主面板和辅助面板并将它们粘附到盖玻璃，可以容易地制造具有弯曲形状的边缘的显示设备。

另外，通过使用包括单个基底的液晶面板和有机发光面板一体地形成主面板和辅助面板，可以容易地制造具有弯曲形状的边缘的显示设备。

附图说明

图1是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图。

图2是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图。

图3是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

图4是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的俯视图。

图5是根据一个示例性实施例的沿图4的线V-V截取的显示设备的局部面板的剖视图。

图6是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的俯视图。

图7是根据一个示例性实施例的沿图6的线VII-VII截取的显示设备的局部面板的剖视图。

图8是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的俯视图。

图9是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的局部像素的俯视图。

图10是根据一个示例性实施例的沿图9的线X-X截取的显示设备的局部面板的剖视图。

图11是根据一个示例性实施例的沿图9的线XI-XI截取的显示设备的局部面板的剖视图。

图12是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图。

图13是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图。

图14是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

图15是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图。

图16是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图。

图17是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

图18是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图。

图19是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图。

图20是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

具体实施方式

在下文中将参考其中示出了本系统和方法的示例性实施例的附图更充分地描述本系统和方法。如本领域技术人员将认识到的那样，所描述的实施例可以以各种不同的方式修改，所有这些都不脱离本公开的精神或范围。

在图中，为了清楚，层、膜、面板、区域等的厚度被夸大了。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。可以理解的是，当诸如层、膜、区域或基底的元件被称为在另一元件“上”时，它可以直接在另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称为“直接”在另一元件“上”时，不存在中间元件。

首先参考图1至图3描述根据一个示例性实施例的显示设备。

图1是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图，图2是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图，图3是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

如图1至图3所示，根据一个示例性实施例的显示设备包括主面板1200和辅助面板1300。

主面板1200可以具有平坦形状。主面板1200可以是液晶面板或有机发光二极管显示面板。液晶面板可以具有其中液晶层位于两个基底之间的结构。此外，液晶面板可以由单个基底制成。在这种情况下，液晶面板可具有其中多个微腔被形成在一个片基底上、液晶层位于微腔中并且微腔由保护层密封的结构。液晶面板和有机发光面板的结构参考图4至图11详细描述。

辅助面板1300可具有弯曲形状。辅助面板1300可以由液晶面板、有机发光面板或发光二极管(LED)面板制成。在这种情况下，辅助面板1300包括诸如塑料的可以被弯曲的材料形成的基底。在液晶面板包括两个片基底的情况下，由于不容易实现弯曲形状，如果辅助面板1300由被形成为单个基底的液晶面板、有机发光面板或发光二极管(LED)面板制成将是有利的。然而，本公开不限于此，辅助面板1300可以由可容易实现弯曲形状的各种显示面板制成。

主面板1200可以位于中心，辅助面板1300可以位于主面板1200的相对边缘上。然而，本公开不限于此，辅助面板1300的位置可以进行各种改变。例如，辅助面板1300可位于主面板1200的上边缘和/或下边缘上。此外，辅助面板1300可位于主面板1200的三个或更多边缘上。

根据一个示例性实施例的显示设备可以被制造为具有大的区域，以被用作电视。在这种情况下，主面板1200可以显示运动图像，诸如电影、戏剧或新闻。辅助面板1300可以显示其它附属信息。例如，辅助面板1300可显示频道、音量、字幕、电子邮件、因特网图标、生物节律等。此外，辅助面板1300可以被用作灯。

当在主面板1200上显示运动图像时，辅助面板1300可显示其相关的附加信息。例如，被显示在主面板1200上的运动图像的信息，诸如频道、音量或字幕，可以被显示在辅助面板1300上。辅助面板1300可以单独显示附加信息，而不管被显示在主面板1200上的图像。例如，用户可以通过辅助面板1300检查所发送的邮箱，诸如个人电子邮件，并可以编写和发送电子邮件。辅助面板1300可显示各种应用程序(APP，应用)。当主面板1200处于关闭状态时，也可以使用辅助面板1300。例如，当主面板1200处于关闭状态时，辅助面板1300可以被用作灯。也就是说，主面板1200和辅助面板1300可以一起工作，或者可以被分别独立地使用。

根据一个示例性实施例的显示设备可以进一步包括覆盖主面板1200和辅助面板1300的前表面的盖玻璃1100。

盖玻璃1100包括主区域MD和辅助区域SD。主区域MD覆盖主面板1200的前表面，辅助区域SD覆盖辅助面板1300的前表面。因此，盖玻璃1100的主区域MD可以接触主面板1200，辅助区域SD可接触辅助面板1300。

盖玻璃1100可以由透明和坚硬的材料制成。例如，盖玻璃1100可以由钢化玻璃制成，并且可以由康宁公司制造的大猩猩玻璃(Gorilla Glass)制成。盖玻璃1100覆盖主面板1200和辅助面板1300的前表面，也就是在其中显示图像的表面，从而如果盖玻璃1100由具有高透射率的材料制成可能是有利的。此外，由于盖玻璃1100用于保护主面板1200和辅助面板1300的前表面，如果盖玻璃1100由坚硬和耐用的材料制成可能是有利的。

接下来在下面描述根据一个示例性实施例的制造显示设备的方法。

首先，热被施加到由平坦基底制成的钢化玻璃，以模制边缘使得具有弯曲的表面，由此制备盖玻璃1100。

接着，具有平坦形状的主面板1200被粘附到盖玻璃1100。主面板1200可以通过使用透明粘合材料被粘附到盖玻璃1100。粘合材料可以由OCA(光学透明粘合剂)、OCR(光学透明树脂)或透明粘合片制成。

接着，具有弯曲形状的辅助面板1300被粘附到盖玻璃1100。辅助面板1300可通过使用透明粘合材料被粘附到盖玻璃1100。

当将包括两个基底的液晶面板应用到大型电视时，可能不容易对边缘进行局部弯折以实现弯曲表面。在本示例性实施例中，通过将具有平坦形状的主面板粘附到单个盖玻璃的主区域并将具有弯曲形状的辅助面板粘附到辅助区域，容易地实现其中边缘被部分弯曲的显示设备。在这种情况下，如果具有弯曲形状的辅助面板由被形成为单个基底的液晶面板、有机发光面板或发光二极管(LED)面板制成可能是有利的。

接下来将参考图4和图5描述根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板。图4和图5示出了液晶面板，特别地，示出了包括两个基底的液晶面板。这可被用作根据一个示例性实施例的显示设备的主面板。

图4是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的俯视图，图5是根据一个示例性实施例的沿图4的线V-V截取的显示设备的局部面板的剖视图。

如图4和图5所示，根据一个示例性实施例的显示设备的液晶面板包括薄膜晶体管阵列面板100和相对的显示面板200以及被插入在两个显示面板100和200之间的液晶层3。

首先描述薄膜晶体管阵列面板100。

栅极线121和栅电极124被形成在由透明玻璃或塑料制成的第一基底110上。

栅极线121主要在水平方向上延伸，并发送栅极信号。栅极信号可以由栅极导通电压和栅极截止电压组成。栅电极124从栅极线121突出。栅电极124通过栅极线121接收栅极信号。

栅极绝缘层140被形成在栅极线121和栅电极124上。栅极绝缘层140可以由诸如氮化硅(SiNx)和氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料制成。栅极绝缘层140可以由单层或多层制成。

半导体154被形成在栅极绝缘层140上。半导体154被定位为重叠栅电极124。半导体154可以由非晶硅、多晶硅或金属氧化物制成。

欧姆接触163和165被形成在半导体154上。欧姆接触可以由诸如n+氢化非晶硅的其中n型杂质以高浓度掺杂的材料或者由硅化物材料形成。在一些情况下，欧姆接触163和165可以被省略。

包括多条数据线171、源电极173和漏电极175的数据导体被形成在欧姆接触163和165上。

数据线171主要在纵向方向上延伸，从而跨过栅极线121，并发送数据信号。

源电极173从数据线171突出，以重叠栅电极124。在图4的情况下，源电极173被形成为条状，然而，本公开不限于此，它可具有弯曲的形状，诸如字母“C”的形状。

漏电极175被形成为与源电极173隔开，并重叠栅电极124。源电极173面对漏电极175。当源电极173被形成为“C”形状时，源电极173可以具有围绕漏电极175的形状。然而，本公开不限于此，漏电极175可以具有被弯折的形状，诸如字母“C”的形状。

栅电极124、源电极173和漏电极175连同半导体154形成薄膜晶体管(TFT)。在这种情况下，薄膜晶体管的沟道被形成在半导体154中被暴露在源电极173和漏电极175之间的部分中。

钝化层180被形成在数据线171、源电极173、漏电极175和半导体154上。钝化层180可以由有机绝缘材料或无机绝缘材料制成，并且可以由单层或多层形成。

钝化层180具有接触孔181。接触孔181可暴露薄膜晶体管的至少一部分，特别是漏电极175的至少一部分。

像素电极191被形成在钝化层180上。像素电极191可以由诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明金属氧化物制成。像素电极191可以被制成为具有大致包括两条长边和两条短边的矩形形状。然而，像素电极191的形状不限于此，而是可以进行各种变化。此外，像素电极191可以被制成为具有横向杆、纵向杆和从其延伸的多个微小分支的形状。此外，一个像素电极191可以被分成两个，以形成子像素电极。在这种情况下，被施加到两个子像素电极的电压可以不同，以提高可视性，被连接到两个子像素电极的薄膜晶体管的布置可以进行各种变化。

虽然未示出，下对准层可以被形成在像素电极191和钝化层180上。下偏振器可以被形成在第一基底110的下方。

接下来描述相对的显示面板200。

滤色器230和阻光构件220被形成在可以由透明玻璃或塑料制成的第二基底210下方。

液晶面板可以包括多个像素，滤色器230可以被定位在每个像素中，阻光构件220可以被定位在每个像素的边界上。阻光构件220可以被进一步形成在重叠薄膜晶体管的位置。

滤色器230可以由红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器制成。然而，本公开不限于此，滤色器230可以由青色滤色器、洋红色滤色器、黄色滤色器和白色滤色器制成。

阻光构件220被称为黑矩阵(black matrix)并防止漏光。

由有机材料制成以提供平坦表面的平坦化层250被形成在滤色器230和黑矩阵220下方。

公共电极270被形成在平坦化层250下方。公共电极270可以由诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明金属氧化物制成。

在上述中，滤色器230和阻光构件220被形成在相对的显示面板200中，然而，本公开不限于此。滤色器230和/或阻光构件220可以被形成在薄膜晶体管阵列面板100中。

虽然未示出，上对准层可被进一步形成在公共电极270下方。此外，上偏振器可被进一步形成在第二基底210的顶表面上。下偏振器和上偏振器的透射轴彼此交叉。在一些情况下，两个偏振器中的一个可以被省略。

液晶层3包括多个液晶分子310。液晶分子310可以具有正介电各向异性或者负介电各向异性。液晶分子310可以扭曲状态被初始对准，或者可以在垂直方向或水平方向上被初始对准。

公共电极270被形成在第二基底210下方，然而，本公开不限于此。公共电极270可以被形成在第一基底110上，在这种情况下，液晶分子310可以被水平对准。

接下来参考图6和图7描述根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板。图6和图7示出了有机发光面板。这可被用作根据一个示例性实施例的显示设备的主面板或辅助面板。

图6是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的俯视图，图7是根据一个示例性实施例的沿图6的线VII-VII截取的显示设备的局部面板的剖视图。

如图6和图7所示，在根据一个示例性实施例的显示设备的有机发光面板中，缓冲层120被形成在第一基底110上。

第一基底110可以由柔性材料制成，缓冲层120可以由单层氮化硅(SiNx)或包括氮化硅(SiNx)和氧化硅(SiOx)的双层结构制成。缓冲层120防止诸如杂质或湿气的不必要的成分的渗透，同时用来平坦化表面。

半导体130被形成在缓冲层120上。半导体130包括彼此隔开的开关半导体135a和驱动半导体135b。半导体135a和135b可以由多晶半导体材料或氧化物半导体材料制成。当半导体130由氧化物半导体材料形成时，可以增加单独的保护层来保护易受诸如高温的外部环境影响的氧化物半导体材料。

开关半导体135a和驱动半导体135b被分别分成沟道1355和形成在沟道1355的各自侧的源区1356和漏区1357。开关半导体135a和驱动半导体135b的沟道1355是掺杂有n型或p型掺杂杂质的沟道，开关半导体135a和驱动半导体135b的源区1356和漏区1357是由比沟道掺杂更高掺杂浓度的掺杂杂质接触掺杂的接触掺杂区域。

栅极绝缘层140被形成在开关半导体135a和驱动半导体135b上。栅极绝缘层140可以由包括氮化硅和氧化硅中的至少一种的单层或多层形成。

栅极线121、驱动栅电极125b和第一存储电容器板128被形成在栅极绝缘层140上。栅极线121沿水平方向延伸，发送扫描信号，并包括从栅极线121突出以重叠开关半导体135a的开关栅电极125a。驱动栅电极125b从第一存储电容器板128突出，以重叠驱动半导体135b。开关栅电极125a和驱动栅电极125b分别重叠沟道1355。

层间绝缘层160被形成在栅极线121、驱动栅电极125b和第一存储电容器板128上。类似于栅极绝缘层140，层间绝缘层160可以由诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料制成。此外，层间绝缘层160可以由有机绝缘材料制成。

层间绝缘层160和栅极绝缘层140具有分别暴露源区1356和漏区1357的源极接触孔61和漏极接触孔62、以及暴露第一存储电容器板128的一部分的存储接触孔63。

在层间绝缘层160上形成有具有开关源电极176a的数据线171、具有驱动源电极176b和第二存储电容器板178的驱动电压线172、被连接到第一存储电容器板128的开关漏电极177a、以及驱动漏电极177b。

数据线171发送数据信号Dm，并在和栅极线121交叉的方向上延伸。驱动电压线172发送驱动电压，与数据线171隔开，并在与其相同的方向上延伸。

开关源电极176a从数据线171突出以重叠开关半导体135a，驱动源电极176b从驱动电压线172突出以重叠驱动半导体135b。开关源电极176a与驱动源电极176b分别通过源极接触孔61被连接到源区1356。

开关漏电极177a面对开关源电极176a，驱动漏电极177b面对驱动源电极176b，开关漏电极177a和驱动漏电极177b分别通过漏极接触孔62被连接到漏区1357。

开关漏电极177a延伸以通过形成在层间绝缘层160中的存储接触孔63被电连接到第一存储电容器板128和驱动栅电极125b。

第二存储电容器板178从数据线171突出以重叠第一存储电容器板128。因此，第一存储电容器板128和第二存储电容器板178经由作为介电材料的层间绝缘层160形成存储电容器Cst。

开关半导体135a、开关栅电极125a、开关源电极176a和开关漏电极177a形成开关晶体管T1，驱动半导体135b、驱动栅电极125b、驱动源电极176b和驱动漏电极177b形成驱动晶体管T2。

钝化层180被形成在开关源电极176a、驱动源电极176b、开关漏电极177a和驱动漏电极177b上。

像素电极710被形成在钝化层180上，像素电极710可以由诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟(In2O3)的透明导电材料或诸如锂(Li)、钙(Ca)、氟化锂/钙(LiF/Ca)、氟化锂/铝(LiF/Al)、铝(Al)、银(Ag)、镁(Mg)或金(Au)的反射金属制成。像素电极710通过被形成在层间绝缘层160中的接触孔81与驱动晶体管T2的驱动漏电极177b电连接，以成为有机发光二极管OLED的阳极。

像素限定层352位于钝化层180和像素电极710的边缘上。像素限定层352具有暴露像素电极710的像素开口351。像素限定层352可以包括诸如聚丙烯酸酯或聚酰亚胺的树脂、二氧化硅基无机材料等等。

有机发射层720被形成在像素限定层352的像素开口351中。有机发射层720被形成为包括发射层、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的一个或多个的多层。在有机发射层720包括所有层的情况下，空穴注入层位于是阳极的像素电极710上，空穴传输层、发射层、电子传输层和电子注入层可以被顺序层叠在其上。

有机发射层720可包括发射红光的红色有机发射层、发射绿光的绿色有机发射层和发射蓝光的蓝色有机发射层。红色有机发射层、绿色有机发射层和蓝色有机发射层被分别形成在红色像素、绿色像素和蓝色像素中，从而实现彩色图像。

此外，有机发射层720可以通过在红色像素、绿色像素和蓝色像素中将红色有机发射层、绿色有机发射层和蓝色有机发射层层叠在一起并对于每个像素形成红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器来实现彩色图像。作为另一示例，发射白光的白色有机发射层被形成在所有的红色像素、绿色像素和蓝色像素中，并且对于每个像素形成红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器，从而实现彩色图像。在通过使用白色有机发射层和滤色器实现彩色图像的情况下，可能不需要使用用于在各自像素，也就是红色像素、绿色像素和蓝色像素上沉积红色有机发射层、绿色有机发射层和蓝色有机发射层的沉积掩模。

公共电极730被形成在像素限定层352和有机发射层720上。公共电极730可以由诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟(In2O3)的透明导电材料或诸如锂(Li)、钙(Ca)、氟化锂/钙(LiF/Ca)、氟化锂/铝(LiF/Al)、铝(Al)、银(Ag)、镁(Mg)或金(Au)的反射金属制成。公共电极730成为有机发光二极管OLED的阴极。像素电极710、有机发射层720和公共电极730构成有机发光二极管OLED。

接下来参考图8至图11描述根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板。图8至图11示出了液晶面板，并且特别示出了包括单个基底的液晶面板。这可被用作根据一个示例性实施例的显示设备的主面板或辅助面板。

图8是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的俯视图，图9是根据一个示例性实施例的显示设备的局部面板的局部像素的俯视图。图10是根据一个示例性实施例的沿图9的线X-X截取的显示设备的局部面板的剖视图，图11是根据一个示例性实施例的沿图9的线XI-XI截取的显示设备的局部面板的剖视图。

如图8所示，在根据一个示例性实施例的显示设备的液晶面板中，由顶层360覆盖的微腔305被形成在第一基底110上。

第一基底110可以由柔性材料制成。

顶层360在行方向上延伸，多个微腔305被形成在一个顶层360下方。然而，本公开不限于此，顶层360可以在列方向上延伸。

微腔305可以以矩阵形式设置，在列方向上提供的相邻微腔305之间提供有第一区域V1，在行方向上提供的相邻微腔305之间提供有第二区域V2。

第一区域V1被提供在多个顶层360的相邻顶层360之间。微腔305可以不被顶层360覆盖，而是可以在接触第一区域V1的部分被暴露到外部。该部分被称为注入孔307a和307b。

注入孔307a和307b被形成在微腔305的各自边缘。注入孔307a和307b被配置有第一注入孔307a和第二注入孔307b。具体地说，第一注入孔307a被形成为暴露微腔305的第一边缘的一侧，第二注入孔307b被形成为暴露微腔305的第二边缘的一侧。微腔305的第一边缘的该侧面对第二边缘的该侧。

顶层360被分别形成为与相邻的第二区域V2之间的基底110隔开，以形成微腔305。也就是说，顶层360被形成为覆盖第一边缘和第二边缘的除了在其上形成注入孔307a和307b的侧部之外的侧部。

根据一个示例性实施例的显示设备的上述结构是一个示例，各种修改是可能的。例如，微腔305、第一区域V1和第二区域V2的布置是可变的，多个顶层360可以在第一区域V1中彼此连接，顶层360的一部分可以被形成为与在第二区域V2中的基底110隔开，以连接相邻的微腔305。

如图9至图11所示，栅极线121和从栅极线121突出的栅电极124被形成在第一基底110上。

栅极线121主要在横向方向上延伸，并发送栅极信号。栅极线121位于在列方向上相邻的两个微腔305之间。也就是说，栅极线121位于第一区域V1。栅电极124从栅极线121突出。

栅极绝缘层140被形成在栅极线121和栅电极124上。栅极绝缘层140可以由诸如氮化硅(SiNx)和氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料制成。此外，栅极绝缘层140可以由单层或多层形成。

半导体154被形成在栅极绝缘层140上。半导体154可以重叠栅电极124。半导体154可以由非晶硅、多晶硅或金属氧化物制成。

欧姆接触(未示出)可以被形成在半导体154上。欧姆接触可以由硅化物或以高浓度掺杂n型杂质的n+氢化非晶硅的材料制成。

在半导体154和栅极绝缘层140上，数据线171、源电极173和漏电极175被形成。

数据线171发送数据信号，并主要在垂直方向上延伸，从而和栅极线121交叉。数据线171位于在行方向上相邻的两个微腔305之间。也就是说，数据线171位于第二区域V2。

源电极173被形成为从在栅电极124上的数据线171突出。也就是说，源电极173的至少一部分可重叠栅电极124。漏电极175被形成为与源电极173隔开。漏电极175的至少一部分可以重叠栅电极124。在本示例性实施例中，源电极173和漏电极175被形成为条形，然而，本公开不限于此。源电极173和漏电极175的形状可以进行各种变化。例如，源电极173可以被形成为字母“U”的弯曲形状，从而围绕漏电极175。在另一情况下，漏电极175可以被形成为围绕源电极173的字母“U”的弯曲形状。另外，源电极173和漏电极175与栅电极124部分重叠，然而，本公开不限于此。源电极173和漏电极175可以不重叠栅电极124，从而隔开预定距离。

栅电极124、源电极173和漏电极175连同半导体154形成薄膜晶体管(TFT)。在这种情况下，薄膜晶体管的沟道被形成在源电极173和漏电极175之间的半导体154中。

钝化层180被形成在数据线171、源电极173、漏电极175和半导体154上。钝化层180可以由有机绝缘材料或无机绝缘材料制成，并且可以由单层或多层形成。

滤色器230被形成在钝化层180上的每个像素中。

每个滤色器可以呈现诸如包括红色、绿色和蓝色的三原色的原色中的一种。然而，由滤色器230显示的颜色不限于诸如红色、绿色和蓝色的三原色，滤色器230可以呈现青色、洋红色、黄色和基于白色的颜色中的一种。根据一个实施例，滤色器230不被形成在第一区域V1和/或第二区域V2。

阻光构件220被形成在相邻的滤色器230之间的区域处。阻光构件220被形成在像素PX和开关元件的边界上，以防止光泄漏。也就是说，阻光构件220可以被形成在第一区域V1和第二区域V2中。滤色器230和阻光构件220可以在部分区域中重叠。

第一绝缘层240可以被进一步形成在滤色器230和阻光构件220上。第一绝缘层240可以由有机绝缘材料形成，并可以用于平坦化滤色器230和阻光构件220的上表面。第一绝缘层240可以由包括由有机绝缘材料制成的层和由无机绝缘材料制成的层的双层制成。第一绝缘层240可在某些情况下被省略。

钝化层180、阻光构件220和第一绝缘层240具有接触孔185。接触孔185暴露薄膜晶体管的至少一部分，并且特别暴露漏电极175的至少一部分。

像素电极191被形成在第一绝缘层240上。像素电极191可以由诸如氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO)的透明金属氧化物制成。

像素电极191被形成为具有两个长边和两个短边的大致矩形形状，并具有其中重叠薄膜晶体管的部分被倒角的形状。然而，像素电极191的形状不限于此，并且可以进行各种变化。此外，像素电极191可以被制成为具有横向杆、纵向杆和从其延伸的多个微小分支的形状。此外，一个像素电极191可以被分成两个，以形成子像素电极。在这种情况下，被施加到两个子像素电极的电压可以不同以提高可视性，被连接到两个子像素电极的薄膜晶体管的布置可以进行各种变化。

公共电极270被形成在像素电极191上，以与像素电极191隔开预定距离。多个微腔305被形成在像素电极191和公共电极270之间。也就是说，微腔305被像素电极191和公共电极270封闭。公共电极270在行方向上延伸，并被形成在微腔305上方并在第二区域V2中。公共电极270被形成为覆盖微腔305的上侧和横向侧的一部分。

然而，本公开不限于此，公共电极270可以被形成在像素电极191和绝缘层之间。微腔305可以被形成在公共电极270上。

公共电极270可以由诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明金属氧化物制成。预定电压可被施加到公共电极270，电场可以被形成在像素电极191和共用电极270之间。

对准层11和21被分别形成在像素电极191的上方和公共电极270的下方。

对准层11和21包括第一对准层11和第二对准层21。第一对准层11和第二对准层21可以被形成为垂直对准层，并且可以由诸如聚酰胺酸、聚硅氧烷或聚酰亚胺的对准材料制成。第一对准层11和第二对准层21可以在微腔305的边缘处被连接到侧壁。

第一对准层11被形成在像素电极191上。第一对准层11可以被直接形成在第一绝缘层240的没有被像素电极191覆盖的一部分上。第一对准层11还可以被形成在第一区域V1中。

第二对准层21被形成在公共电极270的下方，使得它可以面向第一对准层11。

形成有液晶分子310的液晶层被形成在被提供在像素电极191和公共电极270之间的微腔305中。液晶分子310可具有负介电各向异性，使得当没有施加电场时它们可以相对于基底110垂直竖立。也就是说，可以进行垂直对准。然而，本公开不限于此，液晶分子可以被水平对准。

数据电压被施加到其上的像素电极191与公共电极270产生电场，以确定在电极191和270之间的微腔305中提供的液晶分子310的对准方向。穿过液晶层的光的亮度通过所确定的液晶分子310的对准方向被改变。

第二绝缘层350可以被形成在公共电极270上。第二绝缘层350可以由诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料形成，并且在某些情况下可以被省略。

顶层360被形成在第二绝缘层350上。顶层360可以由有机材料制成。顶层360被形成在行方向上，并被形成在微腔305上方并在第二区域V2中。顶层360被形成为覆盖微腔305的上侧和横向侧的一部分。顶层360由固化工艺制成坚硬，以维持微腔305的形式。顶层360被形成为与像素电极191隔开，微腔305在它们之间。

公共电极270和顶层360被形成为不覆盖在微腔305的边缘的横向侧的一部分，微腔305的没有被公共电极270和顶层360覆盖的部分被称为注入孔307a和307b。注入孔307a和307b由暴露在微腔305的第一边缘处的横向侧的第一注入孔307a和暴露在微腔305的第二边缘处的横向侧的第二注入孔307b构成。第一边缘面对第二边缘，例如，在平面图中，第一边缘可以是微腔305的上边缘，第二边缘可以是微腔305的下边缘。在制造显示设备的工艺中，微腔305由注入孔307a和307b暴露，使得对准剂或液晶材料可以通过注入孔307a和307b被注入到微腔305中。

第三绝缘层370可被进一步形成在顶层360上。第三绝缘层370可以由诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料制成。第三绝缘层370可被形成为覆盖顶层360的上侧和/或横向侧。第三绝缘层370保护由有机材料制成的顶层360，并且可以在某些情况下被省略。

保护层390(封装层)被形成在第三绝缘层370上。保护层390被形成为覆盖在该处微腔305的一部分被暴露到外部的注入孔307a和307b。也就是说，保护层390可密封微腔305，使得被形成在微腔305中的液晶分子310不被排出到外部。由于保护层390与液晶分子310接触，如果保护层390由不与液晶分子310发生反应的材料形成将是有利的。例如，保护层390可由聚对二甲苯等形成。

保护层390可以被制成诸如双层或三层的多层。双层包括由不同材料制成的两层。三层包括三个层，两个相邻层的材料彼此不同。例如，保护层390可包括由有机绝缘材料制成的层和由无机绝缘材料制成的层。

接下来参考图12至图14描述根据一个示例性实施例的显示设备。

根据图12至图14中所示的示例性实施例的显示设备与根据图1至图3中所示的示例性实施例的显示设备的大部分相同。这样，其重复描述被省略。本示例性实施例与在前示例性实施例的不同之处在于主面板和辅助面板被一体形成，这在下面描述。

图12是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图，图13是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图，图14是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

如图12至图14所示，根据一个示例性实施例的显示设备包括其中主面板和辅助面板被一体形成的一个面板2200。

面板2200可以具有平坦形状的中心部分和两个弯曲形状的边缘部分。面板2200可以由液晶面板或有机发光面板制成。如果边缘部分部分地由柔性材料制成以易于在面板2200中弯曲可能是有利的。例如，类似于图6和图7中所示的有机发光面板以及图8至图11中所示的液晶面板，由一个基底制成的显示面板可经历仅对部分区域进行容易弯折的工艺。

根据一个示例性实施例的显示设备可以进一步包括覆盖面板2200的前表面的盖玻璃2100。

盖玻璃2100包括主区域MD和辅助区域SD。盖玻璃2100的主区域MD覆盖面板2200的中心部分的前表面，辅助区域SD覆盖面板2200的相对边缘的前表面。因此，盖玻璃2100的主区域MD可接触面板2200的具有平坦形状的部分，辅助区域SD可接触具有弯曲形状的部分。

接下来参考图15至图17描述根据一个示例性实施例的显示设备。

根据图15至图17中所示的示例性实施例的显示设备与根据图1至图3中所示的示例性实施例的显示设备的大部分相同。这样，其重复详细描述被省略。在本示例性实施例中，不同于在前示例性实施例，主面板具有弯曲形状，这进行详细描述。

图15是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图，图16是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图，图17是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

如图15至图17所示，根据一个示例性实施例的显示设备包括主面板3200和辅助面板3300。

主面板3200可具有弯曲形状。主面板3200可以由液晶面板、有机发光面板等形成。例如，主面板3200可由图4和图5中所示的液晶面板、图6和图7中所示的有机发光面板、或图8至图11中所示的液晶面板形成。

辅助面板3300可具有弯曲形状。辅助面板3300可以由液晶面板、有机发光面板、发光二极管(LED)面板等形成。例如，辅助面板3300可以由图6和图7中所示的有机发光面板或图8至图11中所示的液晶面板制成。

在本示例性实施例中，主面板3200和辅助面板3300两者都具有弯曲形状。在这种情况下，主面板3200的弯折方向和辅助面板3300的弯折方向不同。例如，主面板3200可具有在主视图中的凹曲面，辅助面板3300可以具有在主视图中的凸曲面。可替代地，主面板3200可具有在主视图中的凸曲面，辅助面板3300可以具有在主视图中的凹曲面。此外，主面板3200的曲率和辅助面板3300的曲率可以不同。

根据一个示例性实施例的显示设备可以进一步包括覆盖主面板3200和辅助面板3300的前表面的盖玻璃3100。

盖玻璃3100包括主区域MD和辅助区域SD。盖玻璃3100的主区域MD覆盖主面板3200的前表面，辅助区域SD覆盖辅助面板3300的前表面。因此，盖玻璃3100的主区域MD可以接触主面板3200，辅助区域SD可接触辅助面板3300。

盖玻璃3100的主区域MD的弯折方向和辅助区域SD的弯折方向不同。例如，盖玻璃3100的主区域MD可具有在主视图中的凹曲面，辅助区域SD可具有在主视图中的凸曲面。可替代地，盖玻璃3100的主区域MD可具有在主视图中的凸曲面，辅助区域SD可具有在主视图中的凹曲面。此外，盖玻璃3100的主区域MD的曲率和辅助区域SD的曲率可以不同。

盖玻璃3100的主区域MD的弯折方向和主面板3200的弯折方向相同。盖玻璃3100的辅助区域SD的弯折方向和辅助面板3300的弯折方向相同。此外，盖玻璃3100的主区域MD的曲率和主面板3200的曲率基本上相同。盖玻璃3100的辅助区域SD的曲率和辅助面板3300的曲率基本上相同。

当将包括两个基底的液晶面板应用到大型电视时，可能不容易实现对于每个区域具有不同弯折方向的弯曲表面。在本示例性实施例中，通过在单个盖玻璃的主区域和辅助区域上粘附具有不同方向的面板，可以容易地实现具有在不同方向上弯曲的曲面的显示设备。在这种情况下，辅助面板可以有利地由被形成为单个基底的液晶面板、有机发光面板或发光二极管(LED)形成。

现在参考图18至图20描述根据一个示例性实施例的显示设备。

根据图18至图20中所示的示例性实施例的显示设备与根据图15至图17中所示的示例性实施例的显示设备的大部分相同。在本示例性实施例中，与在前示例性实施例不同，主面板和辅助面板被一体形成。

图18是根据一个示例性实施例的显示设备的透视图，图19是根据一个示例性实施例的显示设备的顶视图，图20是根据一个示例性实施例的显示设备的分解透视图。

如图18至图20所示，根据一个示例性实施例的显示设备包括其中主面板和辅助面板被集成的一个面板4200。

面板4200可以具有中心部分和两个具有弯曲形状的边缘部分。在这种情况下，面板4200的中心部分的弯折方向和两个边缘部分的弯折方向不同。例如，面板4200的中心部分可具有在主视图中的凹曲面，两个边缘部分可以具有凸曲面。可替代地，面板4200的中心部分可以具有在主视图中的凸曲面，两个边缘部分可以具有凹曲面。此外，面板4200的中心部分的曲率和两个边缘部分的曲率可以不同。

面板4200可以由液晶面板或有机发光面板形成。如果面板4200的中心部分和两个边缘部分在不同方向上由柔性材料形成可能是有利的。例如，面板4200可以由包括像图6和图7中所示的有机发光面板或图8至图11中所示的液晶面板的一个基底的显示面板形成。

根据一个示例性实施例的显示设备可以进一步包括覆盖面板4200的前表面的盖玻璃4100。

盖玻璃4100包括主区域MD和辅助区域SD。盖玻璃4100的主区域MD覆盖面板4200的中心部分的前表面，辅助区域SD覆盖面板4200的两个边缘部分的前表面。因此，盖玻璃4100的主区域MD可接触面板4200的中心部分，辅助区域SD可接触面板4200的两个边缘部分。

盖玻璃4100的主区域MD的弯折方向和辅助区域SD的弯折方向不同。此外，盖玻璃4100的主区域MD的曲率和辅助区域SD的曲率可以不同。

盖玻璃4100的主区域MD的弯折方向和面板4200的中心部分的弯折方向相同。盖玻璃4100的辅助区域SD的弯折方向和面板4200的两个边缘部分的弯折方向相同。此外，盖玻璃4100的主区域MD的曲率和面板4200的中心部分的曲率基本上相同。盖玻璃4100的辅助区域SD的曲率和面板4200的两个边缘部分的曲率基本上相同。

尽管已经结合目前被认为是实际的示例性实施例描述了此公开，但是应当理解，公开不限于所公开的实施例，而是相反，意在覆盖被包括在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。

<符号说明>

1100、2100、3100、4100：盖玻璃

1200、3200：主面板

1300、3300：辅助面板

2200、4200：面板