显示面板的制作方法

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板。

背景技术：

传统的显示面板一般包括彩色滤光片基板、液晶层、薄膜晶体管阵列基板、背光模组。所述彩色滤光片基板、所述薄膜晶体管阵列基板、所述背光模组叠加组合为一体，所述液晶层设置于所述彩色滤光片基板和所述薄膜晶体管阵列基板之间。

其中，上述传统的所述薄膜晶体管阵列基板的像素电极一般都是扁平状的。

扁平状的所述像素电极和所述彩色滤光片基板中的共通电极层所形成的电场力无法使得液晶分子产生更大幅度的偏转。

上述传统的显示面板的显示效果不够理想。

故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种显示面板，其能提高显示效果。

为解决上述问题，本发明的技术方案如下：

一种显示面板，所述显示面板包括第一偏光板、彩色滤光片基板、液晶层、薄膜晶体管阵列基板、第二偏光板、背光模组和控制电路，所述控制电路与所述背光模组、所述彩色滤光片基板和所述薄膜晶体管阵列基板电性连接；所述第一偏光板、所述彩色滤光片基板、所述薄膜晶体管阵列基板、所述第二偏光板和所述背光模组叠加组合为一体，所述液晶层设置于所述彩色滤光片基板和所述薄膜晶体管阵列基板之间；所述彩色滤光片基板包括第一基板、彩膜层、黑色矩阵层、共通电极层、间隔子组合层、第一配向膜层，所述彩膜层包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块、白色色阻块；所述背光模组包括光源、导光板、反射板、散射板，所述光源设置于所述导光板的一侧边上，所述背光模组用于向由所述第一偏光板、所述彩色滤光片基板、所述液晶层、所述薄膜晶体管阵列基板和所述第二偏光板所组成的整体提供光源；其中，所述薄膜晶体管阵列基板包括：器件组合板，所述器件组合板包括：第二基板；第一信号线层，所述第一信号线层包括扫描线、栅极；第一绝缘层，所述第一绝缘层设置于所述第二基板和所述第一信号线层上；半导体层；第二绝缘层，所述第二绝缘层设置于所述第一绝缘层和所述半导体层上；以及第二信号线层，所述第二信号线层包括数据线、源极、漏极；钝化层，所述钝化层设置在所述器件组合板上，所述钝化层上设置有孔洞和凹槽阵列，所述凹槽阵列包括至少一凹槽；像素电极层，所述像素电极层设置在所述钝化层上以及所述凹槽阵列内，所述像素电极层通过所述孔洞与所述第二信号线层连接；第二配向膜层。

在上述显示面板中，所述孔洞的第一横截面的形状与所述凹槽的第二横截面的形状相同；所述第一横截面的面积与所述第二横截面的面积相同。

在上述显示面板中，在所述显示面板所对应的平面上，所述孔洞与所述凹槽的最短距离与相邻两所述凹槽之间的距离相等。

在上述显示面板中，所述孔洞具有第一深度，所述凹槽具有第二深度；所述凹槽阵列和所述孔洞均是通过相同的光罩制程和蚀刻制程来形成的。

在上述显示面板中，所述光罩制程所对应的掩模包括：一第一区域，所述第一区域具有第一透光率，所述第一区域与所述孔洞对应，所述第一透光率与所述第一深度对应；至少一第二区域，所述第二区域具有第二透光率，所述第二区域与所述凹槽对应，所述第二透光率与所述第二深度对应。

在上述显示面板中，所述掩模为半色调掩模。

在上述显示面板中，所述凹槽阵列和所述孔洞是通过对所述钝化层上的光阻材料层进行所述光罩制程，以在所述光阻材料层上的第三区域和第四区域上分别形成第一凹陷和第二凹陷，并在所述第一凹陷和所述第二凹陷处对所述钝化层和所述光阻材料层进行蚀刻来形成的；其中，所述第三区域与所述第一区域对应，所述第四区域与所述第二区域对应，所述第一凹陷具有第三深度，所述第二凹陷具有第四深度。

在上述显示面板中，所述半导体层包括非晶硅。

在上述显示面板中，所述半导体层包括多晶硅。

在上述显示面板中，所述半导体层包括铟镓锌氧化物。

相对现有技术，本发明能提高显示效果。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

附图说明

图1为本发明的显示面板中的薄膜晶体管阵列基板的示意图。

图2为图1所示的薄膜晶体管阵列基板的制作过程中所使用的掩模的示意图。

图3为本发明的显示面板中的透明盖板的示意图。

具体实施方式

参考图1，图1为本发明的显示面板中的薄膜晶体管阵列基板的示意图。

本发明的显示面板可以是TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示面板）。

本发明的显示面板包括第一偏光板、彩色滤光片基板、液晶层、薄膜晶体管阵列基板、第二偏光板、背光模组和控制电路，所述控制电路与所述背光模组、所述彩色滤光片基板和所述薄膜晶体管阵列基板电性连接。

所述第一偏光板、所述彩色滤光片基板、所述薄膜晶体管阵列基板、所述第二偏光板和所述背光模组叠加组合为一体，所述液晶层设置于所述彩色滤光片基板和所述薄膜晶体管阵列基板之间。

所述彩色滤光片基板包括第一基板、彩膜层、黑色矩阵层、共通电极层、间隔子组合层、第一配向膜层，所述彩膜层包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块、白色色阻块。

所述背光模组包括光源、导光板、反射板、散射板，所述光源设置于所述导光板的一侧边上，所述背光模组用于向由所述第一偏光板、所述彩色滤光片基板、所述液晶层、所述薄膜晶体管阵列基板和所述第二偏光板所组成的整体提供光源。

其中，所述薄膜晶体管阵列基板包括：器件组合板101、钝化层102、像素电极层103、第二配向膜层。

所述器件组合板101包括：第二基板1011、第一信号线层、第一绝缘层1013、半导体层1014、第二绝缘层1015、第二信号线层。所述第一信号线层包括扫描线、栅极1012。所述第一绝缘层设置于所述第二基板和所述第一信号线层上。所述第二绝缘层设置于所述第一绝缘层和所述半导体层上。所述第二信号线层包括数据线、源极1016、漏极1017。

所述第一信号线层可以是扫描线层，所述第二信号线层可以是数据线层。所述扫描线层设置在所述半导体层（所述半导体层为所述非晶硅层）的下方，所述扫描线层与所述非晶硅层之间设置有所述第一绝缘层，所述第二绝缘层设置在所述非晶硅层的上方，所述数据线层设置在所述第二绝缘层的上方，并且所述数据线层穿过所述第二绝缘层与所述非晶硅层相连；或者，所述扫描线层设置在所述半导体层（所述半导体层为所述多晶硅层）的上方，所述多晶硅层与所述扫描线层之间设置有所述第一绝缘层，所述第二绝缘层设置在所述扫描线层的上方，所述数据线层设置在所述第二绝缘层的上方，并且所述数据线层穿过所述第一绝缘层和所述第二绝缘层与所述多晶硅层相连。

所述钝化层设置在所述器件组合板上，所述钝化层上设置有孔洞104和凹槽阵列，所述凹槽阵列包括至少一凹槽105。所述像素电极层设置在所述钝化层上以及所述凹槽阵列内，所述像素电极层通过所述孔洞与所述第二信号线层连接。

所述像素电极层设置在所述钝化层上以及所述凹槽阵列内，所述像素电极层通过所述孔洞与所述第二信号线层连接。

所述孔洞的第一横截面的形状与所述凹槽的第二横截面的形状相同。

所述第一横截面的面积与所述第二横截面的面积相同。

在所述显示面板所对应的平面上，所述孔洞与所述凹槽的最短距离与相邻两所述凹槽之间的距离相等。

所述孔洞具有第一深度，所述凹槽具有第二深度。所述凹槽阵列和所述孔洞均是通过相同的光罩制程和蚀刻制程来形成的。也就是说，所述凹槽阵列与所述孔洞均是在同一道光罩制程中形成的。

所述凹槽阵列和所述孔洞均是通过相同的光罩制程和蚀刻制程来形成的。

所述光罩制程所对应的掩模201包括：第一区域2011和第二区域2012。所述第一区域具有第一透光率，所述第一区域与所述孔洞对应，所述第一透光率与所述第一深度对应。所述第二区域具有第二透光率，所述第二区域与所述凹槽对应，所述第二透光率与所述第二深度对应。

所述掩模为半色调掩模。

所述孔洞和所述凹槽阵列是通过对所述钝化层上的光阻材料层进行所述光罩制程，以在所述光阻材料层上的第三区域和第四区域上分别形成第一凹陷和第二凹陷，并在所述第一凹陷和所述第二凹陷处对所述钝化层和所述光阻材料层进行蚀刻来形成的。

其中，所述第三区域与所述第一区域对应，所述第四区域与所述第二区域对应，所述第一凹陷具有第三深度，所述第二凹陷具有第四深度。

所述半导体层包括非晶硅、多晶硅、铟镓锌氧化物中的至少一种。

相比传统的技术方案，上述技术方案可以节约一道光罩制程，有利于节省所述薄膜晶体管阵列基板的制作成本，以及提高所述薄膜晶体管阵列基板的制作效率。

参考图2，图2为图1所示的薄膜晶体管阵列基板的制作过程中所使用的掩模的示意图。

在本实施例中，所述光罩制程所对应的掩模包括第一区域及第二区域。所述第一区域具有第一透光率，所述第一区域与所述孔洞对应，所述第一透光率与所述第一深度对应。所述第二区域具有第二透光率，所述第二区域与所述凹槽对应，所述第二透光率与所述第二深度对应。

优选地，在本实施例中，所述掩模为半色调掩模（HTM，Half Tone Mask）。

所述孔洞的深度（所述第一深度）和所述凹槽的深度（所述第二深度）可根据HTM的透光率（0-100%的开区间）来设置。

也就是说，所述钝化层中的所述第一深度和所述第二深度是通过这样的方式来形成的：

利用具有所述第一区域和所述第二区域的所述掩模，对所述钝化层实施所述光罩制程，以同时形成所述第一深度和所述第二深度，其中，所述第一区域具有所述第一透光率，所述第二区域具有所述第二透光率。例如，所述第一透光率为100%，所述第二透光率（a%）处于0%至100%的范围（开区间）内，例如，所述a%为0.35%、0.55%、0.85%、1.6%、2.3%、3%、3.3%、4.5%、4.7%、5%、5.9%、7%、8.1%、9%、9.3%、10.5%、11%、12.7%、13%、13.9%、14.1%、15%、15.3%、16.2%、17%、17.7%、19%、21%、23%、23.5%、23.9%、25%、26.7%、27%、29%、29.3%、29.7%、31%、33%、33.6%、34.1%、35%、35.3%、37%、38.3%、39%、41%、42.3%、43%、45%、45.7%、47%、47.9%、49%、49.5%、51%、52.1%、53%、55%、55.7%、55.8%、57%、59%、59.8%、61%、62.1%、63%、63.6%、65%、65.4%、67%、67.7%、69%、69.4%、71%、71.8%、73%、73.1%、75%、75.9%、77%、77.3%、79%、79.6%、81%、81.2%、83%、83.7%、85%、85.6%、87%、88.7%、89%、89.3%、91%、91.5%、93%、93.3%、95%、96.5%、97%、99%、99.5%。

在本实施例中，所述凹槽阵列和所述孔洞是通过对所述钝化层上的光阻材料层进行所述光罩制程，以在所述光阻材料层上的第三区域和第四区域上分别形成第一凹陷和第二凹陷，并在所述第一凹陷和所述第二凹陷处对所述钝化层和所述光阻材料层进行蚀刻来形成的。

其中，所述第三区域与所述第一区域对应，所述第四区域与所述第二区域对应，所述第一凹陷具有第三深度，所述第二凹陷具有第四深度。

通过上述技术方案，本发明能提高显示效果。

参考图3，图3为本发明的显示面板中的透明盖板的示意图。

所述显示面板还包括透明盖板301，所述透明盖板设置于所述彩色滤光片基板的出光面上，具体地，所述透明盖板叠加于所述第一偏光板上，所述透明盖板面向所述彩色滤光片基板的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部3011，所述凹陷部所在的位置与所述显示面板中的像素单元所在的位置对应，所述凹陷部的开口部的形状与所述像素单元的形状相同，所述凹陷部的所述开口部的面积与所述像素单元的面积相同。所述凹陷部的横截面为V字形。所述凹陷部的两内侧面之间的夹角处于20度至65度的范围内，具体地，所述夹角的角度为20度、21度、23度、25度、27度、29度、31度、33度、35度、37度、39度、41度、43度、45度、47度、49度、51度、53度、55度、57度、59度、61度、63度、65度。所述凹陷部的两所述内侧面中的一者为第一内侧面，所述凹陷部的两所述内侧面中的另一者为第二内侧面，所述第一内侧面上设置有第一结构巩固筋条，所述第二内侧面上设置有第二结构巩固筋条。所述开口部朝向所述彩色滤光片基板。

所述凹陷部是通过对所述透明盖板面向所述彩色滤光片基板的一面实施雕刻（切除）制程来形成的。

所述第一结构巩固筋条包括第一末端和第二末端，所述第二结构巩固筋条包括第三末端和第四末端，所述第一末端与所述第三末端连接于所述第一内侧面和第二内侧面的交汇部处。或者，所述第一结构巩固筋条与所述第二结构巩固筋条交错设置，并且，所述第一结构巩固筋条的第一末端设置于所述交汇部处，所述第二结构巩固筋条的第三末端设置于所述交汇部处。所述第一末端在所述交汇部的位置与所述第三末端在所述交汇部的位置相隔预定距离。

所述凹陷部内或所述凹陷部的所述开口部处还设置有第三结构巩固筋条，所述第三巩固筋条包括第五末端和第六末端，所述第五末端与所述第二末端连接，所述第六末端与所述第四末端连接。

通过上述技术方案，有利于提高所述透明盖板的结构强度，从而能够有效地保护所述显示面板不受损坏。

作为一种改进，为了进一步提高所述透明盖板的结构强度，所述第一结构巩固筋条包括第一子筋条和第二子筋条，所述第一子筋条和所述第二子筋条扭合为一体，所述第二结构巩固筋条包括第三子筋条和第四子筋条，所述第三子筋条和所述第四子筋条扭合为一体，所述第三结构巩固筋条包括第五子筋条和第六子筋条，所述第五子筋条和所述第六子筋条扭合为一体。

作为另一种改进，所述开口部的四周还设置有柔性缓冲环3012，所述柔性缓冲环包围所述开口部，所述柔性缓冲环与所述第一偏光板相接触，所述柔性缓冲环用于在所述透明盖板受到作用力时减缓所述作用力对所述第一偏光板以及所述彩色滤光片基板的冲击作用，以保护所述第一偏光板和所述彩色滤光片基板不受损坏。

其中，所述柔性缓冲环面向所述彩色滤光片基板的一面上设置有柔性触角阵列，所述柔性触角阵列包括至少两柔性触角，所述柔性触角的长度方向垂直于所述彩色滤光片基板所在的平面。所述柔性触角为柔性软管。

所述柔性触角用于进一步减缓所述作用力对所述第一偏光板以及所述彩色滤光片基板的冲击作用。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。