技术总结
本实用新型公开一种可见光与红外光两用的低焦平面偏移量光学成像系统。根据实施例的光学成像系统由物侧至像侧依次包括具有屈折力的第一至第四透镜及第一和第二成像面。第一/第二成像面为特定垂直于光轴的可见光/红外光像平面并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值。第一至第四透镜中至少一枚透镜具有正屈折力，光学成像系统的焦距为f，入射光瞳直径为HEP，最大可视角度的一半为HAF，第一与第二成像面间于光轴上的距离为FS，满足下列条件：1≦f/HEP≦10；0deg<HAF≦150deg；及│FS│≦30μm。本实用新型的光学成像系统可具备更大的收光以及更佳的光路调节能力，以提升成像品质。
技术研发人员：赖建勋;廖国裕;刘耀维;张永明
受保护的技术使用者：先进光电科技股份有限公司
文档号码：201621199020
技术研发日：2016.11.07
技术公布日：2017.05.17