一种显示面板、显示装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置。

背景技术：

随着薄膜晶体管-液晶显示技术的发展和工业技术的进步，液晶显示器件生产成本日益降低、制造工艺日益完善，且因具有高响应速度，高对比度以及色彩鲜艳等特点，薄膜晶体管-液晶显示器已经成为平板显示领域的主流技术，故而解决液晶显示的技术缺点日益重要。

液晶显示面板包括阵列基板、对盒基板，以及设置在阵列基板和对盒基板之间的液晶分子。其中，在对盒基板的非显示区域中设置有黑矩阵，用于防止发生漏光。阵列基板的非显示区域中设置有多条横纵交叉的信号线，例如栅线，当显示面板工作时，栅线上的感应电场会使得黑矩阵上产生感应电荷，感应电荷向显示区域移动，并易与显示区域的像素电极形成寄生电场，导致电场紊乱，从而使得显示面板产生周边发白现象。

为了改善上述周边发白现象，通常会在靠近显示区域的黑矩阵上进行挖槽设计，但是在黑矩阵上挖槽会导致漏光现象的发生，严重影响产品的品质以及良率。

技术实现要素：

本发明的实施例提供一种显示面板、显示装置，用于改善在黑矩阵上挖槽导致显示面板发生漏光的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面、提供一种显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第二基板包括黑矩阵，所述黑矩阵位于非显示区域的部分包括遮光区和镂空区；所述显示面板还包括：设置于所述第一基板和所述第二基板之间、位于所述非显示区域的光线偏转结构；所述光线偏转结构在所述第二基板上的正投影至少覆盖所述镂空区在所述第二基板上的正投影，所述光线偏转结构用于将朝向所述镂空区入射的部分或全部光线偏转至所述遮光区。

可选的，所述光线偏转结构包括依次设置在所述第一基板上的第一偏转层、第二偏转层，以及位于所述第二偏转层和所述第二基板之间的第三偏转层；沿所述光线偏转结构的宽度方向，所述第一偏转层朝向所述第二基板的表面中与所述镂空区对应的部分为凹面；其中，所述第一偏转层的折射率大于所述第二偏转层的折射率，所述第二偏转层的折射率大于所述第三偏转层的折射率。

进一步的，所述第三偏转层为固态透明介质层，其上表面为垂直于所述第一基板厚度方向的平面；所述第三偏转层的上表面与所述第二基板相接触。

可选的，所述凹面包括第一斜面和第二斜面，以形成凹陷部，所述第一斜面和所述第二斜面关于所述镂空区宽边的中垂面对称。

可选的，所述第一斜面满足：其中，假设λ用于表示第一斜面与第一基板之间的夹角，s用于表示所述镂空区的宽度，d1用于表示第二偏转层的厚度，d2用于表示第三偏转层的厚度，n1用于表示所述第一偏转层的折射率，n2用于表示所述第二偏转层的折射率，n3用于表示所述第三偏转层的折射率。

可选的，所述凹面为圆弧面；所述圆弧面关于所述镂空区宽边的中垂面对称。

可选的，所述圆弧面与所述第一偏转层的横截面的交线满足：其中，2δ用于表示所述交线对应的圆心角；s用于表示所述镂空区的宽度，d1用于表示第二偏转层的厚度，d2用于表示第三偏转层的厚度，n1用于表示所述第一偏转层的折射率，n2用于表示所述第二偏转层的折射率，n3用于表示所述第三偏转层的折射率，2t表示所述交线的长度。

可选的，构成所述第一偏转层的材料包括氮化硅、氧化锌、氧化钛、氧化钽或氧化锆中的至少一种。

可选的，所述第二偏转层为固态透明介质层，构成所述第二偏转层的材料包括丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂，聚氨酯树脂、氧化硅、氧化铝、氧化钇、氧化镁中的至少一种。

本发明实施例的另一方面、提供一种显示装置，包括背光源、以及如上所述的任一种显示面板，所述背光源设置于第一基板远离第二基板的一侧。

本发明实施例提供一种显示面板、显示装置，该显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板、第二基板包括黑矩阵，黑矩阵位于非显示区域的部分包括遮光区和镂空区。该显示面板还包括设置于第一基板和第二基板之间、位于非显示区域的光学偏转结构，光学偏转结构在第二基板上的正投影至少覆盖镂空区在第二基板上的正投影。当光线由第一基板侧入射至第二基板时，由于光线偏转结构可以将镂空区完全覆盖，因此光线偏转结构可以对朝向黑矩阵的镂空区入射的全部光线进行偏转，以将朝向镂空区入射的部分或全部光线偏转至遮光区。这样一来，可以改善在黑矩阵上形成镂空区时，光线通过镂空区出射，导致显示面板发生漏光的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图；

图2为图1所示的显示面板沿d-d’的剖视图；

图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的具体结构示意图；

图4为图3所示的显示面板中光学偏转结构的另一种结构示意图；

图5a-5b为图3所示的显示面板中的第一偏转层的两种具体结构示意图；

图6为包括有图5a所示的第一偏转层的光线偏转结构的偏转原理图；

图7为包括有图5b所示的第一偏转层的光线偏转结构的偏转原理图。

附图标记：

10-第一基板；20-第二基板；201-黑矩阵；30-光线偏转结构；301-第一偏转层；302-第二偏转层；303-第三偏转层；40-封框胶。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种显示面板，如图2所示，包括相对设置的第一基板10和第二基板20，第二基板20包括黑矩阵201。如图1所示，黑矩阵201位于非显示区域a(除显示区域a’的区域)的部分包括遮光区b和镂空区c。

在此基础上，如图2所示，显示面板还包括设置于第一基板10和第二基板20之间、位于非显示区域a的光线偏转结构30。光线偏转结构30在第二基板20上的正投影至少覆盖镂空区c在第二基板20上的正投影，从而使得光线偏转结构30可以对朝向镂空区c的所有光线进行偏转。光线偏转结构30用于将朝向镂空区c入射的部分或全部光线偏转至遮光区b。

需要说明的是，第一、第二基板20为显示面板的出光侧，具体的，背光源提供的光线经第一基板10后，从第二基板20侧出射，其中，黑矩阵201可以防止光线从非显示区域a出射，影响显示面板的显示效果。本发明不对背光源的结构进行限定，示例的，可以为直下式背光源，此时背光源提供的光线为准直光；或者为侧入式背光源，此时从侧向光源(例如：led)出射的光线经导光板发散后出射为向上方向的光，再经棱镜片准直约束，使得光线的发散范围较窄。对于上述背光源提供的光线，光线偏转结构30可以对朝向镂空区c入射的光线均进行偏转，以将其中部分或者全部光线偏转至遮光区b，改善其从镂空区c出射，导致显示面板漏光的问题。

第二、不对第一基板10和第二基板20的结构进行限定。例如，第一基板10为阵列基板，第二基板20为彩膜基板，黑矩阵201设置在彩膜基板上。又例如，第一基板10为coa(英文全称：color-filteronarray)基板，coa基板上设置有彩色滤光片，第二基板20为对盒基板，黑矩阵201设置在对盒基板上。

第三、结合背景技术，通常通过在黑矩阵201上挖槽以形成镂空区c。其中，镂空区c可以为一个镂空框，此时镂空区c的俯视图如图1所示；当然，镂空区c也可以为设置在显示区域a’四周的不连续的镂空条，只要镂空区c可以阻断感应电荷向显示区域a’移动即可。其中，感应电荷由非显示区域a向显示区域a’移动的方向为镂空区c的宽度方向(如图1所示的x方向)；镂空区c的延伸方向为如图1所示的y方向。

当镂空区c的开槽宽度w小于20μm时，其电荷阻隔能力较弱；当镂空区c的开槽宽度w大于50μm时，设置镂空区c引起的漏光会严重对影响显示面板的正常显示。因此优选的，镂空区c的开槽宽度w的范围是20μm～50μm。

第四、不限定光线偏转结构30的结构。只要光线偏转结构30可以将朝向镂空区c入射的部分光线偏转至遮光区b，即属于本发明的保护范围。示例的，光线偏转结构30可以为光栅或者具有折射作用的介质层。

基于此，本发明实施例提供一种显示面板，包括相对设置的第一基板10和第二基板20、第二基板20包括黑矩阵201，黑矩阵201位于非显示区域a的部分包括遮光区b和镂空区c。该显示面板还包括设置于第一基板10和第二基板20之间、位于非显示区域a的光线偏转结构30，光线偏转结构30在第二基板20上的正投影至少覆盖镂空区c在第二基板20上的正投影，从而使得光线偏转结构30可以完全遮挡镂空区c。当光线由第一基板10侧入射至第二基板20时，由于光线偏转结构30将镂空区c完全覆盖，因此光线偏转结构30可以对朝向黑矩阵201的镂空区c入射的全部光线进行偏转，以将朝向镂空区c入射的部分或全部光线偏转至遮光区b。这样一来，可以改善在黑矩阵201上形成镂空区c时，光线通过镂空区c出射，导致显示面板发生漏光的问题。

可选的，如图3所示，光线偏转结构30包括依次设置在第一基板10上的第一偏转层301、第二偏转层302，以及位于第二偏转层302和第二基板20之间的第三偏转层303。

其中，沿光线偏转结构30的宽度方向，第一偏转层301朝向第二基板20的表面中与镂空区c对应的部分为凹面，即第一偏转层301的上表面中与镂空区c对应的部分为凹面。其中，第一偏转层301的折射率大于第二偏转层302的折射率，第二偏转层302的折射率大于第三偏转层303的折射率。

需要说明的是，第一、光线偏转结构30的宽度方向与镂空区c的宽度方向相同，是指感应电荷由显示区域a’向非显示区域a移动的方向(如图1或图3所示的x方向)。第一偏转层301在由第一基板10指向第二基板20方向(即图1或图3所示的z方向)上的高度为第一偏转层301的厚度。

第二、沿光线偏转结构30的宽度方向，第一偏转层301朝向第一基板10的表面与镂空区c对应的部分为凹面，具体的，该凹面在第一基板10上的正投影完全覆盖镂空区c在第一基板10上的正投影。此外，本发明不对第一偏转层301朝向第二基板20的表面中未与镂空区c对应部分进行限定。为了简化第一偏转层301的制作工艺，优选的，第一偏转层301朝向第一基板10的表面为凹面。示例的，如图5a所示，该凹面可以为向内凹陷的两个斜面；或者如图5b所示，该凹面可以为该凹面可以为向内凹陷的圆弧面。

第三、第三偏转层303可以如图3所示，是在原有显示面板中新增设置的介质层，该介质层通常可以是固态透明介质层；也可以为显示面板中原本存在的光学介质层，例如液晶显示面板中具有液晶层，该液晶层位于第二偏转层302和第二基板20之间的部分可以作为第三偏转层303；无论上述哪种情况，均需满足第二偏转层302的折射率大于第三偏转层303的折射率。

第四、第二偏转层302的厚度d1可以如图3所示，等于第一偏转层301的厚度d3；或者可以如图4所示，大于第一偏转层301的厚度d3。

在此情况下，如图3所示，光线在经过光线偏转结构30出射时，由于第一偏转层301的折射率大于第二偏转层302的折射率，根据折射定律n1sinα＝n2sinγ，已知n1＞n2，则γ＞α，因此在第一偏转层301与第二偏转层302的交界面处会发生第一次偏转，具体的，光线向靠近遮光区b的方向偏转。由于第二偏转层302的折射率大于第三偏转层303的折射率，同理所述，在第二偏转层302与第三偏转层303的交界面处会发生第二次偏转，以向靠近遮光区b的方向进一步偏转。经过光学偏转结构30的两次偏转，朝向镂空区c入射光线的传播方向发生改变，其部分或全部光线被偏转至遮光区b，从而可以改善在黑矩阵201上形成镂空区c时，光线通过镂空区c出射，导致显示面板发生漏光的问题。

其中，α为入射至第一偏转层301和第二偏转层302相交的界面的光线与法线之间的夹角；γ为由第一偏转层301和第二偏转层302相交的界面出射的光线与法线之间的夹角。n1表示第一偏转层301的折射率，n2表示第二偏转层302的折射率。

在此基础上，为了保证光学偏转结构30的对光线的偏转效果，当第三偏转层303为在原有显示面板中新增设置的固态透明介质层时，优选的，其上表面为垂直于第一基板10的厚度方向的平面；第三偏转层303的上表面与第二基板20相接触。其中，上表面为第三偏转层303靠近第二基板20一侧的表面。

需要说明的是，由第一基板10指向第二基板20的方向(即图1或图3所示的z方向)为第一基板10的厚度方向。

第三偏转层303的上表面为一平面，且与第一基板10厚度方向垂直，这样一来，当第三偏转层303的上表面与第二基板20相接触时，第三偏转层303的上表面可以与第二基板20完全贴合。从而可以避免第三偏转层303与黑矩阵201之间存在其他介质层，该介质层对光线进行不可控的偏转，使得光线由镂空区c出射，影响光线偏转结构30的偏转效果。

此外，显示面板还可以包括如图3所示的封框胶40，第一基板10和第二基板20对盒后通过封框胶40进行黏合。

通常显示面板的盒厚为3μm～4μm，可选的，光线偏转结构30的厚度范围是3μm～4μm，以使得第一基板10和第二基板20对盒后，第三偏转层303的上表面与第二基板20相接触，从而光线在经光线偏转结构30偏转后，可以直接入射至遮光区b，保证光线偏转结构30的偏转效果。同时可以避免由于设置光线偏转结构30，使得显示面板30厚度增加的问题。

以下结合第一偏转层301、第二偏转层302、第三偏转层303的具体结构，对光线偏转结构30将朝向镂空区c入射的部分或全部光线偏转至遮光区b的原理进行举例说明。

实施例一、如图5a所示，第一偏转层301朝向第二基板20的表面中与镂空区c对应的部分包括第一斜面k和第二斜面k’，以形成凹陷部，第一斜面k和第二斜面k’关于镂空区c宽边的中垂面对称。

需要说明的是，镂空区c具有长边(镂空区c的延伸方向)和宽边的中垂面，中垂面，即线段的垂直平分面。以宽度方向上的中垂面为例，中垂面经过镂空区c宽边的中点，第一斜面k和第二斜面k’关于镂空区c宽边的中垂面对称，这样一来，第一斜面k与第一基板10之间的夹角等于第二斜面k’与第一基板10之间的夹角。

此外，本实施例中，第三偏转层303的上表面为平面，第三偏转层303的上表面与第二基板20接触，显示面板的横截面如图6所示。

在此情况下，由于第一偏转层301的折射率大于第二偏转层302的折射率，第二偏转层302的折射率大于第三偏转层303的折射率，光线偏转结构30可以对朝向第一斜面k(或第二斜面k’)对应的镂空区c入射的光线进行两次偏转，以将其中部分或全部光线偏转至靠近第一斜面k(或第二斜面k’)一侧的遮光区b，从而降低光线从镂空区c出射的几率。

结合上述，当背光源为直下式背光源时，背光源提供的光线垂直入射至第一基板10；当背光源为侧入式背光源时，背光源提供的光线的发散范围较小；因此近似认为背光源提供的光线是垂直入射至第一基板10。当第一斜面k(或第二斜面k’)与第一基板10的夹角一定时，背光源提供的光线入射至第一斜面k(或第二斜面k’)的光线与法线之间的夹角一定，进而经第一偏转层301和第二偏转层302的交界面出射光线的折射角一定。因此只要控制朝向靠近镂空区c的中心位置入射的光线可以偏转至遮光区b，则朝向第一斜面k(或第二斜面k’)对应的镂空区c入射的光线可以最大程度的偏转至靠近第一斜面k(或第二斜面k’)的遮光区b。

因此为了尽可能多的将朝向镂空区c入射的光线偏转至遮光区b，优选的，如图6所示，可以通过设定第一偏转层301、第二偏转层302、第三偏转层303的折射率以及第一斜面k与第一基板10所在平面之间的夹角λ的大小，以将朝向靠近镂空区c中心位置入射的光线，至少偏转至遮光区b的边缘。

具体的，如图6所示，假设λ用于表示第一斜面k与第一基板10之间的夹角，s用于表示镂空区c的宽度，d1用于表示第二偏转层302的厚度，d2用于表示第三偏转层303的厚度，α为入射至第一偏转层301和第二偏转层302相交的界面的光线与法线之间的夹角；γ为由第一偏转层301和第二偏转层302的交界面出射的光线与法线之间的夹角；β为入射至第二偏转层302和第三偏转层303相交的界面的光线与法线之间的夹角；θ为由第二偏转层302和第三偏转层303的交界面出射的光线与法线之间的夹角。由图6可知，α+ε＝90°，λ+ε＝90°，因此α＝λ。

首先，光线在第一偏转层301与第二偏转层302相交的界面处发生第一次偏转，入射角为α，出射角为γ，根据折射定律

n1sinα＝n2sinγ公式(1)；

得到其中n1＞n2。经厚度d1的第二偏转层302出射时，相应的水平位移l1为l1＝d1×tanβ'，其中β'＝γ-α＝γ-λ。

其次，光线入射至第二偏转层302与第三偏转层303的交界面时，入射角为β，根据图6可知：β＝β'，根据折射定律n2sinβ＝n3sinθ，得到

其中，n2＞n3。经厚度d2的第三偏转层303出射时，相应的水平位移l2为l2＝d2×tanθ。

结合上述，光线经第一偏转层301、第二偏转层302、第三偏转层303构成的光学偏转结构30偏转后，光线在水平方向上的总位移为l＝l1+l2。要使得朝向镂空区c中心位置入射的光线至少被偏转至遮光区b，则有

即

综上所述，当第一斜面k(或者第二斜面k’)与第一基板10的夹角λ同时满足上述公式(1)、(2)和(3)时，朝向靠近镂空区c中心位置入射的光线可以被偏转至遮光区b。

在此基础上，根据折射定律n1sinα＝n2sinγ，其中，n1、n2、以及α不变，因此沿中心位置指向边缘的位置，经第一偏转层301和第二偏转层302相交的界面的光线的出射角γ不变，同理可得，经第二偏转层302和第三偏转层303相交的界面的光线的出射角θ不变，由于朝向镂空区c的中心位置入射的光线可以被偏转至遮光区b，因此可以将朝向第一斜面k(或第二斜面k’)入射的对应于镂空区c的光线全部偏转至遮光区b。

在此基础上，由于第一斜面k和第二斜面k’关于镂空区c宽度方向上的中垂面对称，因此第二斜面k’与第一基板10之间的夹角等于第一斜面k与第一基板10之间的夹角，第二斜面k’对光线的偏转原理同第一斜面k，此处不再赘述。

当然，第一偏转层301靠近第二基板20的一侧可以仅具有一个斜面，即第一偏转层301为非对称单斜面的结构，此时可以根据第一偏转层301和第二偏转层302的折射率以及厚度来确定该斜面与第一基板10之间的夹角，其推算原理同上，本发明对此不再赘述。

实施例二、如图5b所示，第一偏转层301朝向第二基板20的表面中与镂空区c对应的部分为圆弧面o，圆弧面o关于镂空区c宽边的中垂面对称。其中，圆弧面o与第一偏转层301的横截面具有一交线j，该交线j为圆弧线。

需要说明的是，圆弧面o关于镂空区c宽边的中垂面对称，即上述交线j(圆弧线)的中点位于宽边的中垂面上。

此外，本实施例中，第三偏转层303的上表面为平面，第三偏转层303的上表面与第二基板20接触，显示面板的横截面如图7所示。

在此情况下，由于第一偏转层301的折射率大于第二偏转层302的折射率，第二偏转层302的折射率大于第三偏转层303的折射率，光线偏转结构30可以对朝向圆弧面o对应的镂空区c入射的光线进行两次偏转，以将其中部分或全部光线偏转至遮光区b，从而降低光线从镂空区c出射的几率。

在此基础上，为了尽可能多的将朝向镂空区c入射的光线偏转至遮光区b，进一步降低设置镂空区c导致的显示面板漏光的几率，优选的，如图7所示，可以通过设定第一偏转层301、第二偏转层302、第三偏转层303的折射率以及交线j的曲率半径的大小，以将朝向靠近镂空区c中心位置入射的光线，至少偏转至遮光区b的边缘。

具体的，如图7所示，交线j沿镂空区c延伸方向上的中心面对称，δ用于表示二分之一的交线j所对应的圆心角。其中，δ＝180°-2×(90°-α)＝2α，即由图7可知，α+ε＝90°，λ+ε＝90°，因此α＝λ。

本实施例中，近似认为二分之一的交线j的线长t等于其所对应的弦的长度，根据图7，其中，近似认为交线j在镂空区c中心位置处的切线为上述弦。

首先，光线在第一偏转层301与第二偏转层302相交的界面处发生第一次偏转，入射角为α，出射角为γ，根据折射定律

n1sinα＝n2sinγ公式(1)

得到其中n1＞n2。经厚度d1的第二偏转层302出射时，相应的水平位移l1为l1＝d1×tanβ'，其中β'＝γ-α＝γ-λ。

其次，光线入射至第二偏转层302与第三偏转层303的交界面时，入射角为β，根据图7可知：β＝β'，根据折射定律n2sinβ＝n3sinθ，得到

其中，n2＞n3。经厚度d2的第三偏转层303出射时，相应的水平位移l2为l2＝d2×tanθ。

结合上述，光线经第一偏转层301、第二偏转层302、第三偏转层303构成的光学偏转结构30偏转后，光线在水平方向上的总位移为l＝l1+l2。要使得朝向镂空区c中心位置入射的光线至少被偏转至遮光区b，则有

即将带入上式，得到：

综上所述，当圆弧面o与第一偏转层301的横截面的交线j同时满足上述公式(1)、(2)和(3)时，朝向靠近镂空区c中心位置入射的光线可以被偏转至遮光区b。根据弧长定律，弧长＝圆弧半径×圆弧所对的圆心角。因此，当圆心角和圆心角所对应的弧长确定时，圆弧(即交线j)的曲率半径即可确定。

在此基础上，根据折射定律n1sinα＝n2sinγ，其中，n1、n2、以及α不变，因此沿中心位置指向边缘的位置，经第一偏转层301和第二偏转层302的交界面的光线的出射角γ不变，同理可得，经第二偏转层302和第三偏转层303相交的界面的光线的出射角θ不变，由于朝向镂空区c的中心位置入射的光线可以被偏转至遮光区b，因此可以将朝向圆弧面o入射的对应于镂空区c的光线全部偏转至遮光区b。

需要说明的是，本发明不对上述第一偏转层301和第二偏转层302的材料进行限定，可以为无机介质或者有机树脂。当其为无机介质时，可以采用物理气相沉积或化学气相沉积方法制备斜面或圆弧面，例如真空蒸镀、离子束辅助沉积、离子刻蚀技术等。当其为有机树脂时，可以采用光刻技术，通过对掩膜板的曝光量的调节，得到具有上述斜面或圆弧面的第一偏转层301。其中，上述制备工艺都是形成显示面板的常用工艺，可以与完成上述制备工艺的设备共用形成第一偏转层301。

可选的，构成第一偏转层301的材料可以为氮化硅(n＝2.1)、氧化锌(n＝2.0)、氧化钛(n＝2.35)、氧化钽(n＝2.1)或氧化锆(n＝2.05)中的至少一种。构成第二偏转层302的材料可以为丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂(n＝1.5～n＝1.7)、氧化硅(n＝1.46)、氧化铝(n＝1.6)、氧化钇(n＝1.8)、氧化镁(n＝1.7)中的至少一种。当然，上述材料只是本发明提供的光线偏转结构30的举例说明，并非对构成光线偏转结构30的材料的限定。

此外，为了降低制备光线偏转结构30的材料成本，构成第一偏转层301和第二偏转层302的材料可以相同，例如均选用丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂等中的一种。其中，可以直接选用上述材料形成第二偏转层302。在选用上述材料形成第一偏转层301时，在上述材料中加入添加剂和官能团(例如s、卤素、金属)，或者掺杂纳米材料(如tio2、zro2、zno)，将其折射率进行调整提高。

此外，第一偏转层301、第二偏转层302和第三偏转层303本身也会对光线有一定的吸收，从而降低光线由镂空区c出射的几率。

以以镂空区c的宽度s为20μm，第一偏转层301为氧化锆(n1＝2.35)，第二偏转层302为树脂(n2＝1.7)，第二偏转层302的厚度d1为2μm；第三偏转层303为氟化镁(n3＝1.38)；第三偏转层303的厚度d2为1μm为例，对光线偏转结构30将朝向镂空区c入射的部分或全部光线偏转至遮光区b进行说明。本实施例中，以出射光经第一偏转层301偏转的最大角度为全反射临界角进行说明。

首先，光线在第一偏转层301与第二偏转层302相交的界面处发生第一次偏转，入射角α(即斜面角度λ)为计算得α＝36°，出射角γ＝90°；出射光入射至第二偏转层302的角度β为β＝90°-36°＝54°，经厚度d1的第二偏转层302出射时，相应的水平位移l1为l1＝d1×tanβ'＝2×tan(90°-36°)＝2.75。

其次，光线入射至第二偏转层302与第三偏转层303的交界面时，入射角为β＝γ-α＝90°-36°＝54°。根据折射定律n2sinβ＝n3sinθ，计算得：θ＝85°。经厚度d2的第三偏转层303出射时，相应的水平位移l2为l2＝d2×tanθ＝1×tan85°＝11.43。

光线经第一偏转层301、第二偏转层302、第三偏转层303构成的光学偏转结构30后，光线在水平方向上的总位移为l＝l1+l2＝2.75+11.43＝14.18＞10，因此可以将朝向镂空区c中心位置入射的光线偏转至遮光区b。

需要说明的是，上述第一偏转层301、第二偏转层302以及第三偏转层303可以重复单元，通过选择合适的材料以及搭配合适的厚度，均可以实现对光线的偏转。

此外，在显示面板中形成光学偏转结构30时，可以调整第一偏转层301的角度，利用全反射原理使得光线不从镂空区c出射。以第一偏转层301具有第一斜面k和第二斜面k’为例，设置第一斜面k与第一基板10之间的夹角等于全反射临界角。在此情况下，光线在第一偏转层301和第二偏转层302交界面的入射角等于全反射临界角，从而使得光线不能从第一偏转层301出射，从而避免光线从镂空区c出射，导致显示面板发生漏光现象。

此外，可选的，光线偏转结构30还可以为：包括沿第一基板10指向第二基板20的方向依次设置在第一基板10上的第一偏转层301、第二偏转层302以及位于第二偏转层302和第二基板20之间的第三偏转层303。

其中，沿光线偏转结构30的宽度方向，第一偏转层朝向第二基板20的表面为凸面，以使得上述表面朝向第二基板20突出。其中，第一偏转层301的折射率小于第二偏转层302的折射率，第二偏转层302的折射率小于第三偏转层303的折射率。

在此情况下，第一偏转层301、第二偏转层302以及第三偏转层303的具体结构可以根据其折射率以及厚度的不同进行选择，本发明对此不做限定，只要朝向镂空区c入射的部分或全部光线经第一偏转层301、第二偏转层302和第三偏转层303后，可以被偏转至遮光区b即可。

本发明实施例提供一种显示装置，包括背光源、以及如上所述的任一种显示面板，背光源设置于第一基板10远离第二基板20的一侧。

基于此，背光源提供的光线由第一基板10侧入射至第二基板20时，光线偏转结构30可以将朝向黑矩阵201的镂空区c入射的部分或全部光线偏转至遮光区b，从而降低光线通过镂空区c出射，导致显示面板发生漏光的几率。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。