本实用新型涉及一种能够有效消除杂光的同轴光共聚焦镜头消杂光装置，属于同轴光共聚焦镜头制造领域。
背景技术：
现有的小视场同轴光共聚焦镜头主要有三种类型：第一类如图1所示，小孔A左侧的光源照亮小孔A，穿过小孔A的光线经镜头C聚焦到B位置，当B位置有物体时照射到B位置的光线经物体反射向左依次穿过镜头C和小孔A，并通过光学系统导到传感器使传感器测得信号。第二类如图2所示，光线从入射光纤进入并从入射光纤与接受光纤合并端A’射出，穿过入射光纤与接受光纤合并端A’的光线经镜头C聚焦到B位置，当B位置有物体时照射到B位置的光线经物体反射向左依次穿过镜头C和穿过入射光纤与接受光纤合并端A’，再通过接受光纤导出信号，最后通过光学系统导到传感器使传感器测得信号。第三类如图3所示，镜头C内或其前后设有半反射镜D，图中A’’ （A’’为小孔或入射光纤与接受光纤合并端）与A’’’（A’’’为光源）在光学上互为镜像，从A’’’处发出的光线经镜头C聚焦和半反射镜D反射聚到B点处，当B位置有物体时照射到B位置的光线经物体反射向左穿过镜头C和半反射镜D聚到A’’，并通过光学系统导到传感器使传感器测得信号。由于制造工艺的限制，组成聚焦镜头的镜片表面存在一定反射率，上述三种类型的小视场同轴光共聚焦镜头，发光点A/ A’/ A’’’发出的光在穿过聚焦镜头的过程中首先被镜头内的光学镜片表面部分反射回到A/ A’/ A’’并穿过，形成背景杂光，尤其在B位置的物体反射率很低的情况下，有效的信号甚至弱于杂光产生的信号，严重影响观测和信号准确程度。
技术实现要素：
设计目的：避免背景技术中的不足之处，设计一种能够有效消除杂光的同轴光共聚焦镜头消杂光装置。
设计方案：为了实现上述设计目的。本实用新型在结构设计上：1、共聚焦镜头中镜头的内部、前端或后端设有一块光阑的设计，是本实用新型的技术特征之一。这样设计的目的在于：由于共聚焦镜头中镜头的内部、前端或后端设有一块光阑，因而能够大大减小同轴光共聚焦镜头消杂光装置的占用空间。2、述光阑的中间为遮光区、四周围为透光区的设计，是本实用新型的技术特征之二。这样设计的目的在于：当光阑的中间为遮光区、四周围为透光区时，由于杂光大比例的杂光都是从接受光区域前方很小角度的范围返回接受光区，所以返回出入光孔或光纤合并端及全视场附近小范围的杂光会被光阑完全或大部分遮蔽，而且能有效光的遮挡则非常有限，使得有效光的比例大大提升，从而大大增加了观察效果和信号准确度。3、光阑由金属制成，或由表面带有遮光图案的透光材料制成，或透光材料中间镶嵌不透光材料制成。是本实用新型的技术特征之三。这样设计的目的在于：当光阑由金属制成时，或由表面带有遮光图案的透光材料制成时，或透光材料中间镶嵌不透光材料制成时，其光阑去杂光效果最佳，从而提高了同轴光共聚焦镜头消杂光装置的去杂光效果。
技术方案：一种同轴光共聚焦镜头消杂光装置，包括共聚焦镜头，所述共聚焦镜头中镜头的内部、前段或后端设有一块光阑；所述光阑的中间为遮光区、四周围为透光区。
本实用新型与背景技术相比，同轴光共聚焦镜头消杂光装置通过增设光阑使大比例杂光杂光无法返回到接受光区，而对有效光的遮挡则非常有限，从而大幅度提升有效光的接受比例，实现观察效果和信号准确度的提升。
附图说明
图1图1是第一类同轴光共聚焦镜头的结构示意图。
图2是第二类同轴光共聚焦镜头的结构示意图。
图3是第三类同轴光共聚焦镜头的结构示意图。
图4是同轴光共聚焦镜头（第一类和第二类）消杂光装置的结构示意图。
图5是同轴光共聚焦镜头（第一类和第二类）消杂光装置（光阑位于镜头中）的结构示意图。
图6是同轴光共聚焦镜头（第三类）消杂光装置的结构示意图。
图7是同轴光共聚焦镜头（第三类）消杂光装置（光阑位于镜头中）的结构示意图。
具体实施方式
实施例1：参照附图4-7。一种同轴光共聚焦镜头消杂光装置，包括共聚焦镜头1，在视场为小面积方或圆时，所述共聚焦镜头1中镜头2的内部设有一块光阑4，所述镜头2由至少两块镜片21构成，光阑4位于其中两块相邻的镜片21之间，或者共聚焦镜头1中镜头2与出光孔或入射光纤与接受光纤合并端3间设有一块光阑4；所述光阑4的中间为遮光区、四周围为透光区，既光阑4中间小面积遮挡而周围大范围透光。所述光阑4由金属制成，或由表面带有遮光图案的透光材料制成，或透光材料中间镶嵌不透光材料制成。
如果视场为线状（相当于多个小面积视场阵列），那么遮光光阑也需要对应阵列成长条状。
需要理解到的是：上述实施例虽然对本实用新型的设计思路作了比较详细的文字描述，但是这些文字描述，只是对本实用新型设计思路的简单文字描述，而不是对本实用新型设计思路的限制，任何不超出本实用新型设计思路的组合、增加或修改，均落入本实用新型的保护范围内。