技术特征：
技术总结
一种极紫外光刻系统(10)，其在工件(22)上产生具有多条密集填充平行线(332)的新图案(330)，所述系统(10)包括：图案化元件(16)；EUV照射系统(12)，该EUV照射系统将极紫外光束(13B)引导到所述图案化元件(16)处；投影光学组件(18)，该投影光学组件将从所述图案化元件(16)衍射的所述极紫外光束引导到所述工件(22)处，以在第一扫描(365)期间产生大致平行线(332)的第一条带(364)；以及控制系统(24)。所述工件(22)包括畸变的已有图案(233)。所述控制系统(24)在所述第一扫描(365)期间选择性地调节控制参数，使得所述第一条带(364)畸变成更精确地覆盖已有图案的位于所述第一条带(364)下的部分。
技术研发人员：麦可·B·宾纳德
受保护的技术使用者：株式会社尼康
技术研发日：2017.06.15
技术公布日：2019.04.26