基板走线结构和走线制作方法与流程

本发明涉及显示器技术领域，具体而言，涉及一种基板走线结构和走线制作方法。

背景技术：

随着“全面屏”时代的到来，对于液晶显示设备，尤其是智能终端，由于显示区占比变大，导致用于走线的空间越来越小，进而使得走线线宽、线距做得越来越极限，但当走线线距小到曝光机精度附近时，走线的线宽会变大，如对于一列走线，左右两端走线线宽偏小，中间的偏大，这就会造成同种功能走线线宽不均，进而导致显示设备的显示不均。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明提供了一种基板走线结构和走线制作方法，能够有效解决上述问题。

一方面，本发明较佳实施例提供一种基板走线结构，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；

所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间。

在本发明较佳实施例的选择中，所述第一冗余线、所述第二冗余线以及所述信号线组中的各信号线的线宽相等。

在本发明较佳实施例的选择中，所述冗余线组还包括第三冗余线，所述第三冗余线布设于间距大于第一预设值的相邻信号线之间。

在本发明较佳实施例的选择中，所述第三冗余线与相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。

在本发明较佳实施例的选择中，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述第一冗余线、所述第二冗余线、所述第三冗余线以及各所述信号线等间隔设置。

另一方面，本发明较佳实施例还提供一种走线制作方法，所述走线制作方法包括：

提供一基板；

基于所述基板制作形成金属层；

基于所述金属层制作形成一蚀刻保护层；

通过掩膜板对所述蚀刻保护层进行曝光后显影，去除所述蚀刻保护层的其中一部分；

对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分，以在所述基板上制作形成第一冗余线、第二冗余线以及位于该第一冗余线和第二冗余线之间的多条信号线；其中：

所述掩膜板上包括透光图案以及与所述第一冗余线对应的第一非透光图案、与所述第二冗余线对应的第二非透光图案以及与多条所述信号线对应的多个第三非透光图案。

在本发明较佳实施例的选择中，在多个所述第三非透光图案的排列方向上，所述第一非透光图案、第二非透光图案以及各所述第三非透光图案的图案宽度相等。

在本发明较佳实施例的选择中，所述掩膜板还包括位于间距大于第一预设值的相邻第三非透光图案之间的第四非透光图案；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分之后，该金属层上还形成有与该第四非透光图案对应的第三冗余线，且所述第三冗余线和相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。

在本发明较佳实施例的选择中，所述掩膜板还包括图案宽度与所述信号线组中的信号线的线宽之间满足预设关系的第五非透光图案；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分之后，该金属层上还制作形成有与该第五非透光图案对应的信号线，且该信号线与其他相邻信号线之间的间距小于第二预设值；其中，所述预设关系为所述第五非透光图案的图案宽度＝(第五非透光图案对应的信号线的实验设计线宽)2*第五非透光图案对应的信号线的实验实际线宽。

在本发明较佳实施例的选择中，所述信号线包括数据线、扫描线、触摸线和gip(gateinpanel，门面板)线中的一种或多种。

与现有技术相比，本发明提供一种基板走线结构和走线制作方法，其中，对于走线线距小到曝光机精度附近的情况，本发明采用在走线的两侧增加冗余线的方式，将边缘位置转移至冗余线，从而使得信号线的线宽一致，尤其对于具有同种功能的走线，能够有效提高走线的均匀性，确保应用本发明给出的基板走线结构的显示设备的显示效果。

此外，对于线距过小的情况，本发明还可通过对掩膜板上对应的光照图案的巧妙设计，使得绘制的走线满足实际需求，进一步提高走线的均匀性。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明实施例提供的基板走线结构的结构示意图。

图2为与图1中对应的现有技术中的基板走线结构示意图。

图3为现有技术中的基板走线结构的另一结构示意图。

图4为本发明实施例提供的基板走线结构的另一结构示意图。

图5为本发明实施例提供的走线制作方法的流程示意图。

图6为基于图5中所示走线制作方法制作的基板走线结构的剖面结构示意图。

图7为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图。

图8为本发明实施例提供的掩膜板的另一结构示意图。

图9为本发明实施例提供的基板走线结构的又一结构示意图。

图10为现有技术中与图9对应的基板走线结构的结构示意图。

图11为本发明实施例提供的用于制作图9中所示的基板走线结构的掩膜板的结构示意图。

图标：10-基板走线结构；11-信号线组；12-冗余线组；120-第一冗余线；121-第二冗余线；122-第三冗余线；13-基板；14-金属层；15-蚀刻保护层；16-掩膜板；160-第一非透光图案；161-第二非透光图案；162-第三非透光图案；163-第四非透光图案；164-第五非透光图案；165-透光图案；20-过孔。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例只是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本发明的描述中，术语“第一、第二、第三、第四等仅用于区分描述，而不能理解为只是或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

如图1所示，为本发明实施例提供的基板走线结构10的结构示意图，该基板走线结构10上布设有信号线组11和冗余线组12；所述冗余线组12包括第一冗余线120和第二冗余线121，在所述信号线组11中的各信号线的排列方向上，所述信号线组11位于所述第一冗余线120和所述第二冗余线121之间。

其中，在本发明实施例给出的上述基板走线结构10中，采用在信号线组11的两侧增加冗余线的方式，以将信号线组11中原本的边缘位置转移到冗余线上，能够有效解决现有技术中由于信号线组11中的相邻信号线之间的线距小到曝光机精度附近时，出现的如图2中所示的位于边缘位置处的信号线变窄、位于中间位置处的信号线变宽的问题，从而有效确保了所述基板走线结构10中各信号线的线宽相等、均匀，尤其是对于具有同种功能的信号线，通过前述设置，能够使得各信号线具有相同的电阻，进而确保应用所述基板走线结构10的显示设备的显示效果的均匀性。

其中，所述信号线组11中的各信号线可以是但不限于数据线、扫描线、触摸线和gip线中的一种或多种。另外，在本实施例中，所述第一冗余线120、所述第二冗余线121以及所述信号线组11中的各信号线的线宽相等，可进一步确保各信号线的均匀性。实际实施时，所述第一冗余线120和所述第二冗余线121可以是但不限于图1中所示，例如，所述第一冗余线120和所述第二冗余线121可以由多条子线段组成，也可以为一条完整的线条。此外，所述第一冗余线120和所述第二冗余线121还可以为折线、曲线、点断线、直线等，具体地可根据相邻信号线的形状设定，本实施例在此不做限制。

进一步地，在实际实施时，如图3所示，由于基板走线结构10上可能存在过孔20等导致在所述信号线组11中存在大于第一预设值(如d1)的间距，使得各相邻信号线之间的间距不等，进而导致在制作基板走线结构10时出现信号线的线宽不一致的情况，影响显示设备的显示效果。对此，本发明实施例可通过在间距大于第一预设值的相邻信号线之间填充冗余线以解决该问题。具体地，请结合参阅图4，所述冗余线组12还可包括第三冗余线122，所述第三冗余线122布设于间距大于第一预设值的相邻信号线之间。其中，所述第一预设值可根据实际需求进行设定，例如，可根据在进行信号线布设时的曝光机的曝光精度设定，本实施例在此不做具体限制。

实际实施时，所述第三冗余线122与相邻的信号线之间的间距可以与其他各相邻信号线之间的间距相等，从而进一步确保提高各信号线的均匀性。另外，在所述信号线组11中的各信号线的排列方向上，所述第一冗余线120、所述第二冗余线121、所述第三冗余线122以及各所述信号线可等间隔设置。

基于对上述基板走线结构10的设计和描述，请结合参阅图5和图6，本发明实施例还提供一种走线制作方法，其中，所述走线制作方法包括以下步骤：

步骤s10，提供一基板13；

步骤s11，基于所述基板13制作形成金属层14；

步骤s12，基于所述金属层14制作形成一蚀刻保护层15；

步骤s13，通过掩膜板16对所述蚀刻保护层15进行曝光后显影，去除所述蚀刻保护层15的其中一部分；

步骤s14，对所述金属层14进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层15保护的部分，以在所述基板13上制作形成第一冗余线120、第二冗余线121以及位于该第一冗余线120和第二冗余线121之间的多条信号线。

其中：请结合参阅图7，所述掩膜板16可包括透光图案165以及与所述第一冗余线120对应的第一非透光图案160、与所述第二冗余线121对应的第二非透光图案161以及与多条所述信号线对应的多个第三非透光图案162。实际实施时，在多个所述第三非透光图案162的排列方向上，所述第一非透光图案160、第二非透光图案161以及各所述第三非透光图案162的图案宽度相等。

详细地，在上述步骤s10-步骤s14中，通过在所述掩膜板16上设置与第一冗余线120和第二冗余线121分别对应的第一非透光图案160和第二非透光图案161，从而使得在对金属层14进行蚀刻形成信号线的同时，将信号线组11中的边缘位置转移至第一冗余线120和第二冗余线121上，使得信号线组11中的各信号线的线宽均匀，不会出现如图2中所示的线宽不均的情况。可选地，所述基板13、所述蚀刻保护层15以及所述金属层14的材料可根据实际需求进行选取，如所述金属层14可以是但不限于ito(indiumtinoxides，纳米铟锡金属氧化物)、石墨烯或其他金属材料等制成。此外，在基于所述基板13形成所述金属层14的工艺可以是但不限于溅镀或者气相沉积(cvd)等方式。

进一步地，对于现有技术中存在的如图3中所示的问题，请结合参阅图8，所述掩膜板16还可包括位于间距大于第一预设值的相邻第三非透光图案162之间的第四非透光图案163；即所述走线制作方法还可包括在对所述金属层14进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层15保护的部分之后，该金属层14上还形成有与该第四非透光图案163对应的第三冗余线122，且所述第三冗余线122和相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。

进一步地，如图9所示，在实际的基板走线结构10制作中，当需要布设的相邻信号线的间距小于第二预设值d2(如近曝光机的精度)时，若采用与设计图案一致的掩膜板16进行金属层14蚀刻，则可能使得位于相邻信号线之间的金属未被曝光、蚀刻干净，从而出现如图10所示的实际制成的信号线的线宽比设计的线宽大，对此，请结合参阅图11，本发明通过在所述掩膜板16上设计图案宽度与所述信号线组11中的信号线的线宽之间满足预设关系的第五非透光图案164，以在对所述金属层14进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层15保护的部分之后，该金属层14上还形成有与该第五非透光图案164对应的信号线，且该信号线与其他相邻信号线之间的间距小于第二预设值。其中，所述预设关系为所述第五非透光图案164的图案宽度＝(第五非透光图案164对应的信号线的实验设计线宽)²*第五非透光图案164对应的信号线的实验实际线宽。

可以理解的是，对于设计过程中出现的相邻信号线的间距小于第二预设值的情况，可通过实验的方式测定纠正系数a，如a＝(实验设计线宽)/(实验实际线宽)，那么在对掩膜板16进行设计时，可将与前述信号线对应的第五非透光图案164的图案宽度按照纠正系数a缩小，进而使得实际的制成的信号线的线宽达到设计要求，即第五非透光图案164的图案宽度＝(设计线宽)*a＝(信号线的实验设计线宽)²*信号线的实验实际线宽。

综上所述，本发明提供一种基板走线结构10和走线制作方法，其中，对于走线线距小到曝光机精度附近的情况，本发明通过在走线的两侧增加冗余线的方式，将边缘位置转移至冗余线，从而使得信号线的线宽一致，尤其对于具有同种功能的走线，能够有效提高走线的均匀性，确保应用本发明给出的基板走线结构10的显示设备的显示效果。

此外，对于线距过小的情况，本发明还通过对掩膜板16上对应的光照图案的巧妙设计，使得绘制的走线满足实际需求，进一步提高走线的均匀性。

显然，本领域的技术人员应该明白，上述的本发明实施例的功能可以用通用的计算装置来实现，它们可以集中在单个的计算装置上，或者分布在多个计算装置所组成的网络上，可选地，它们可以用计算装置可执行的现有程序代码或算法来实现，从而，可以将它们存储在存储装置中由计算装置来执行，或者将它们分别制作成各个集成电路模块，或者将它们中的多个模块或步骤制作成单个集成电路模块来实现。这样，本发明的功能实现不限制于任何特定的硬件和软件结合。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。