膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒的制作方法

本实用新型属于镜筒镀膜技术领域，尤其涉及一种用于降低镜筒表面反射强度的膜层结构。

背景技术：

随着手机行业的快速发展，手机摄像头已经从单摄发展到了三摄，强大的拍照功能已经成为手机的重要卖点，市场需求量庞大。然而市场对于摄像性能的要求也越来越高，传统的镜头，由于镜筒表面会反射光线必然会对光学系统形成一定的干扰，从而导致成像品质不佳。为了增加面板视觉的一致性，需要在镜筒表面进行镀膜。现有技术中对镜筒镀制的膜层降低镜筒表面反射的性能不佳，而且镀膜后的镜筒在和其他组件进行组装时容易对镜筒膜层造成擦伤、污染等情况，影响最终的成像品质。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种膜层结构和包含该膜层结构的镜筒，降低镜筒表面反射强度同时解决膜层易擦伤污染的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种膜层结构，镀制在镜筒表面，包括：

减反膜层，包括交替堆叠的高折射率材料层低折射率材料层；

防水膜层，沿远离所述镜筒的方向，所述防水膜层设置在所述减反膜层的外侧。

根据本实用新型的一个方面，所述防水膜层镀制在所述低折射率材料层上。

根据本实用新型的一个方面，沿着远离所述镜筒的方向，所述减反膜层的结构可以表示为L(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。

根据本实用新型的一个方面，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层的结构可以表示为(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。

根据本实用新型的一个方面，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层依次包括第一高折射率材料层、第二低折射率材料层、第三高折射率材料层、第四低折射率材料层、第五高折射率材料层和第六低折射率材料层。

根据本实用新型的一个方面，所述第一高折射率材料层的厚度为5-25nm，第二低折射率材料层的厚度为10-55nm，第三高折射率材料层的厚度为20-90nm，第四低折射率材料层的厚度为4-25nm，第五高折射率材料层的厚度为15-80nm，第六低折射率材料层的厚度为30-150nm。

根据本实用新型的一个方面，所述高折射率材料层为折射率高于2.0的材料层，选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或钛酸镧中的一种或多种；

所述低折射率材料层为折射率小于1.8的材料层，选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。

根据本实用新型的一个方面，所述减反膜层的厚度为150-600nm，反射波长为400-700nm，反射率小于0.7％。

根据本实用新型的一个方面，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层依次包括第一铬的氧化物材料层和第二二氧化硅材料层，

所述第一铬的氧化物材料层的厚度为30-500nm；

所述第二二氧化硅材料层的厚度为10-200nm。

根据本实用新型的一个方面，所述防水膜层由氟化物制成，水接触角大于110°，厚度为4-20nm。

为实现上述目的，本实用新型提供一种镜筒，包括镜筒本体和镀制在所述镜筒本体表面上的膜层结构。

根据本实用新型的一个方案，本实用新型的膜层结构设有减反膜层，减反膜层的厚度为150-600nm，减反膜层由选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或者钛酸镧中的一种或多种的高折射率材料层和选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种的低折射率材料层交替镀制而成，通过调整不同波长对应的反射强度改变其表面颜色，使其呈现黑色，能够降低镜筒的反射强度，使波长为400-700nm的可见光的反射率小于0.7％，从而有利于提高成像品质。

根据本实用新型的一个方案，减反膜层依次由第一铬的氧化物材料层和第二二氧化硅材料层镀制而成，使减反膜层本身呈现黑色，提升美感的同时降低镜筒表面的反射强度，提升产品的生产良率。

根据本实用新型的一个方案，防水膜层由氟化物制成，厚度为4-20nm，水接触角大于110°，具有硬度高、防水性好的优点，可以对减反膜层起到一定的保护作用，避免镀制有本实用新型的膜层结构的镜筒在与其他组件组装时对已经镀制好的膜层造成擦伤、污染的情况发生。

附图说明

图1是示意性表示根据本实用新型一种实施方式的膜层结构的结构示图；

图2是示意性表示根据本实用新型第二种实施地方的膜层结构的结构示图；

图3是示意性表示镀有本实用新型膜层结构的镜筒的俯视图。

附图中各标号所代表的含义如下：

A、膜层结构。1、减反膜层。2、防水膜层。11、第一高折射率材料层。12、第二低折射率材料层。13、第三高折射率材料层。14、第四低折射率材料层。15、第五高折射率材料层。16、第六低折射率材料层。1a、第一铬的氧化物材料层。1b、第二二氧化硅材料层。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

在针对本实用新型的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本实用新型的实施方式并不因此限定于以下实施方式。

结合图1和图3所示，根据本实用新型的膜层结构A包括减反膜层1和防水膜层2。本实用新型的膜层结构镀制在镜筒本体表面上，沿着远离镜筒的方向，减反膜层1和防水膜层2依次设置，即减反膜层1镀制在镜筒表面上，防水膜层2镀制减反膜层1上。

本实用新型的减反膜层1是由高折射率材料层和低折射率材料交替堆叠制成的。具体地，根据本实用新型减反膜层1的一种实施方式，减反膜层1的结构可以表示为(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示沿着远离镜筒的方向，高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。在根据本实用新型减反膜层1的另一种实施方式中，减反膜层1的结构还可以表示为L(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示沿着远离所述镜筒的方向，高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。

由上述可知，沿着远离镜筒表面的方向，减反膜层1最靠近镜筒表面的膜层可以为高折射率材料层或者低折射率材料层，当减反膜层1共包括膜层数为偶数时，贴近镜筒表面的膜层为高折射率材料层，当减反膜层1共包括膜层数为奇数时，贴近镜筒表面的膜层为低折射率材料层。需要注意的是，无论最贴近镜筒表面的膜层时高折射率材料层还是低折射率材料层，减反膜层1的最外侧必须是低折射率材料层，即与防水膜层2接触的是低折射率材料层，防水膜层2镀制低折射率材料层上。

如图1所示，图1是示意示意性表示当本实用新型的减反膜层1的结构为(HL)*n时的一种实施方式，在本实施方式中，n＝3，即减反膜层1包括6个膜层，沿着远离镜筒表面的方向由内到外依次为第一高折射率材料层11、第二低折射率材料层12、第三高折射率材料层13、第四低折射率材料层14、第五高折射率材料层15和第六低折射率材料层16。在本实施方式中，第一高折射率材料层11的厚度为5-25nm、第二低折射率材料层12的厚度为10-55nm、第三高折射率材料层13的厚度为20-90nm、第四低折射率材料层14的厚度为4-25nm、第五高折射率材料层15的厚度为15-80nm、第六低折射率材料层16的厚度为30-150nm。本实用新型的减反膜层1局限于上述实施方式，可以根据实际需要来相应增加膜层个数，例如可以共包括4-8层膜层等。

在本实施方式中，减反膜层1中高折射率材料层为折射率高于2.0的材料层，高折射率材料可以选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或者钛酸镧中的一种或多种，即减反膜层1中的所有高折射率材料层可以都是一种材料制成的材料层，也可以是多种材料制成的材料层，例如如图1所示，减反膜层1有六层膜层时，第一高折射率材料层11、第三高折射率材料层13和第五高折射率材料层15可以都是五氧化三钛材料层，也可以选自上述材料中的任一种。

同样地，在本实施方式中，减反膜层1中的低折射率材料层为折射率低于1.8的材料层，低折射率材料可以选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。

本实用新型的膜层结构，设有减反膜层1，减反膜层1按照上述布置形式进行设置，保证减反膜层1的厚度为150-600nm，通过调整不同波长对应的反射强度改变其表面颜色，最终本实用新型的减反膜层1呈现黑色，能够降低镜筒的反射强度，使波长为400-700nm的可见光的反射率小于0.7％，从而有利于提高成像品质。

如图1所示，本实用新型的防水膜层2镀制在减反膜层1的外侧，防水膜层2由氟化物制成，厚度为4-20nm，水接触角大于110°。本实用新型的防水膜层2具有硬度高、防水性好的优点，可以对减反膜层1起到一定的保护作用，避免镀制有本实用新型的膜层结构的镜筒在与其他组件组装时对已经镀制好的造成擦伤、污染的情况发生。

如图2所示，根据本实用新型的第二种实施方式中，本实用新型的减反膜层1由高折射率材料层和低折射率材料交替镀制而成，沿着远离镜筒的方向，减反膜层包括第一铬的氧化物材料层1a和第二二氧化硅材料层1b，即第一铬的氧化物材料层1a镀制在镜筒表面上，第二二氧化硅材料层1b镀制在第一铬的氧化物材料层1a上，防水膜层2镀制在第二二氧化硅材料层1b。在本实施方式中，第一铬的氧化物材料层1a的厚度为30-500nm，第二二氧化硅材料层1b的厚度为10-200nm。当然，根据本实施方式的构思，减反膜层1可以包括2-4个膜层，例如，减反膜层1可以包括三个膜层，沿着远离镜筒的方向，分别为二氧化硅材料、铬的氧化物材料层、和二氧化硅材料层。总之，无论减反膜层1包括多少个膜层，需要保证减反膜层1的最外层为低折射率材料层。

在本实用新型的第二种实施方式中，将减反膜层1采用上述材料层进行设置，使减反膜层1本身呈现黑色，有利于降低镜筒表面的反射强度，提升产品的生产良率。

根据本实用新型的构思，在对镜筒镀制本实用新型的镜筒膜层还可以有以下实施方式，例如，按照上述第一种实施方式，将第一高折射率材料层11、第二低折射率材料层12、第三高折射率材料层13、第四低折射率材料层14、第五高折射率材料层15和第六低折射率材料层16依次镀制在镜筒表面上，高折射率材料可以选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或者钛酸镧中的一种或多种，低折射率材料可以选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。然后再继续镀制第一铬的氧化物材料层1a和第二二氧化硅材料层1b，最外层镀制防水膜层2。

此种实施方式同样可以起到降低镜筒表面反射强度，提升产品良率的作用。此外，第一铬的氧化物材料层1a和第二二氧化硅材料层1b对已经镀制的在前膜层具有修复作用，可以有效避免和防止膜层擦伤污染，提高产品良率。

本实用新型的膜层结构的镀制方法如下：

在镜筒注塑成像之后使用排料机装入专用的镀膜治具，专用镀膜治具为方形板状体结构，尺寸大小为100*100mm。然后将需要镀膜的区域漏出，其余位置进行遮挡以防止污染。之后装入镀膜工件盘，需要镀膜面向下对准蒸发源。将所需镀膜材料分别放在固定的坩埚位，设定特定的背景正空度、镀膜温度、充氧流量等，利用磁场偏转电子束加热蒸发材料，在程序中输入设定的厚度，交替完成镀膜(此时包括完成减反膜层1和防水膜层2的镀制)。其中防水膜层2可以使用电子束和阻蒸的方式蒸镀。镀制的减反膜层1可以有两种结构，一种是上述第一种实施方式的减反膜层1的结构，另一种是上述第二种实施方式的结构。

此外，如果在镜筒1表面按照第一种实施方式镀制减反膜层1和防水膜层2，在镜筒与其他组件进行组装时，若镀制的膜层出现了损伤，可以将防水膜层2去掉，在已经镀制膜层上镀制第一铬的氧化物材料1a和第二二氧化硅材料层1b进行修复，之后再镀制防水膜层2。在对膜层修复时，需要使用一种特殊的溶于水的胶水涂在不需要修复处，防止污染，镀膜后使用水浸泡洗掉胶水，达到只在需要的特定位置上镀膜的需求。

以上所述仅为本实用新型的一个方案而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。