光阻剥离方法及光阻剥离装置与流程

技术特征：

技术总结
本申请提供一种光阻剥离方法及光阻剥离装置，通过使光阻剥离后的基板经过至少一盛放第一溶液的清洗子单元处理以去除光阻剥离后的基板上的残留剥离液，以避免残留剥离液对基板上的金属造成腐蚀，改善光阻剥离过程中的金属掏空程度。

技术研发人员：陈梦
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2019.05.13
技术公布日：2019.08.30