滤光片的制作方法

技术特征：

技术总结
本申请公开了一种滤光片。该滤光片的一具体实施方式包括基底和设置在所述基底的第一面外侧的第一膜系，所述第一膜系包括高折射率膜层、低折射率膜层和匹配膜层；所述匹配膜层的材料包括氮掺杂硅锗混合物，所述氮掺杂硅锗混合物的化学式为SixGe1‑xNy，其中，0≤x≤1，0
技术研发人员：陈策;丁维红;方叶庆;杨伟;肖念恭
受保护的技术使用者：信阳舜宇光学有限公司
技术研发日：2019.06.05
技术公布日：2019.08.09