1.一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，包括激光调节头(1)和调节手柄(2)，所述激光调节头(1)的输出端连接有激光传输头(11)，所述激光传输头(11)的输出端连接有聚焦头(12)，所述调节手柄(2)连接于所述激光传输头(11)的侧壁，其特征在于：所述激光调节头(1)上还设有温度传感器(3)和连接座(4)，所述温度传感器(3)固定连接于所述激光传输头(11)的外壁，所述连接座(4)固定连接于所述激光调节头(1)的外壁，所述连接座(4)的出气端固定连接有输送管(41)，所述输送管(41)的另一端固定连接有高速喷头(42)，所述连接座(4)的出气端固定连接有连接管(43)，所述激光传输头(11)的夹层内绕设有冷却管(44)，所述连接管(43)与所述冷却管(44)的一端固定连接，所述激光传输头(11)的外壁底端固定连接有环形管(45)，所述冷却管(44)的出气端与所述环形管(45)的进气端固定连接，所述温度传感器(3)与光刻机控制器信号连接，所述温度传感器(3)与外部电源电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，其特征在于：所述连接座(4)的侧壁固定连接有开关(401)，所述连接座(4)的顶端固定连接有输气管(402)。
3.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，其特征在于：所述输送管(41)位于所述连接座(4)的底端，且所述输送管(41)可进行角度调节。
4.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，其特征在于：所述连接管(43)位于所述连接座(4)的一侧，且所述连接管(43)、所述冷却管(44)和所述环形管(45)的材质均为铜。
5.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，其特征在于：所述冷却管(44)绕设与所述激光传输头(11)的夹层靠近所述聚焦头(12)的位置处，且所述冷却管(44)的顶端位于所述调节手柄(2)的下方。
6.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，其特征在于：所述温度传感器(3)固定连接于所述激光传输头(11)设有所述冷却管(44)一端的外壁。
7.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，其特征在于：所述环形管(45)的外壁开设有气体喷口(451)，所述气体喷口(451)的数量为若干个均匀分布在所述环形管(45)的一周。