技术总结
本实用新型公开了一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，属于光刻机领域，其技术方案要点是，一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，包括激光调节头和调节手柄，所述激光调节头的输出端连接有激光传输头，所述激光传输头的输出端连接有聚焦头；通过温度传感器可实时监测激光传输头的温度，在进行光刻时，高压气体始终作用在光刻部位，高压气体将光刻部位表面的灰尘吹离，使得光刻的精度及质量进一步提高，同时高压气体通过连接管输送至冷却管，通过冷却管对激光传输头进行持续降温，且高压气体通过环形管上的气体喷口喷出，可将激光雕刻产生的烟尘吹离，保证激光的通过性，降低激光能量的损耗。
技术研发人员：薛荣
受保护的技术使用者：麦佧仕光电科技(上海)有限公司
技术研发日：2019.02.18
技术公布日：2019.08.13