1.一种基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，包括光源（1）、相位掩膜板（4）、ase光源（72）和光谱仪（73），其特征在于，还包括：
放大模块，包括两个光放大器（5），两个所述光放大器（5）分别对所述相位掩模板输出的±1级衍射光进行放大处理，获取两束放大光；
相位调制模块，包括两个电光相位调制器（6），两个所述电光相位调制器（6）分别位于对应所述光放大器（5）的输出侧；
控制模块（3），根据所述光谱仪（73）的反馈信息，控制所述相位调制模块调制两束所述放大光的相位，获取两束调制光；
两束所述调制光在待刻写光纤上形成干涉区。
2.根据权利要求1所述的基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，其特征在于，还包括光纤夹具（71）和移动模块；
所述移动模块包括电动位移台（8），所述光纤夹具（71）连接到所述电动位移台（8）上，所述控制模块（3）根据所述光谱仪（73）的反馈信息控制所述电动位移台（8）移动。
3.根据权利要求1所述的基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，其特征在于，还包括：
0级衍射光吸收板（9），位于所述相位调制模块的输出侧，且所述0级衍射光吸收板（9）覆盖所述相位调制模块输出的0级衍射光的范围。
4.根据权利要求3所述的基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，其特征在于，所述0级衍射光吸收板（9）上设有水杨酸酯类涂层。
5.根据权利要求1所述的基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，其特征在于，所述光源（1）和所述相位掩膜板（4）之间设有光束整形模块，所述光束整形模块包括扩束镜（21）、二维光阑（22）和匀化镜（23）。
6.根据权利要求5所述的基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，其特征在于，所述光束整形模块和所述相位掩膜板（4）之间设有聚焦镜（24）。